[發(fā)明專利]多帶電粒子束描繪裝置及多帶電粒子束描繪方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910710420.1
• 申請日: 2019-08-02
• 公開（公告）號: CN110794650B
• 公開（公告）日: 2022-03-22
• 發(fā)明（設計）人: 松本裕史
• 申請（專利權）人: 紐富來科技股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 劉英華

1.一種多帶電粒子束描繪裝置，具備：

多帶電粒子束形成部，形成多帶電粒子束；

減法運算處理電路，從缺陷束的周圍的束群各自的劑量減去對應的分擔劑量，以從上述缺陷束的周圍的束群的劑量的總和減去與由上述缺陷束帶來的過剩劑量同樣的劑量、且減小使用了上述周圍的束群的各分擔劑量的重心位置與上述缺陷束的照射位置之間的偏移，上述缺陷束為上述多帶電粒子束中的、無法進行束的劑量控制而照射的劑量達到過剩的缺陷束；以及

描繪機構，具有載置樣本的工作臺及使上述多帶電粒子束偏轉的偏轉器，使用與上述缺陷束的上述過剩劑量同樣的劑量被從上述周圍的束群的劑量的上述總和減去后得到的劑量的多帶電粒子束，對上述樣本描繪圖案。

2.如權利要求1所述的多帶電粒子束描繪裝置，其特征在于，還具備：

設定處理電路，通過將上述缺陷束的周圍的多個第1束分割，來設定由預先設定的數(shù)量的多個第2束構成的多個組；

分擔劑量運算處理電路，按上述多個組的每個組，根據(jù)從上述缺陷束到構成該組的上述多個第2束的各第2束為止的距離，運算各分擔劑量；

重心位置運算處理電路，按上述每個組，使用運算出的上述各分擔劑量，運算構成該組的上述多個第2束分擔的多個分擔劑量的重心位置；以及

選擇處理電路，選擇上述多個組中的、上述重心位置與上述缺陷束的照射位置之間的偏移更小的組，

上述減法運算處理電路，從所選擇的組的上述多個第2束的劑量的總和分擔而減去與上述缺陷束的上述過剩劑量同樣的劑量。

3.如權利要求1所述的多帶電粒子束描繪裝置，其特征在于，還具備：

判定處理電路，在從上述缺陷束的周圍的束群的劑量的上述總和減去與上述過剩劑量同樣的劑量的情況下，根據(jù)從上述缺陷束的照射位置到描繪對象的圖案的邊緣位置為止的距離，判定是否考慮使用了上述周圍的束群的上述各分擔劑量的重心位置。

4.如權利要求3所述的多帶電粒子束描繪裝置，其特征在于，還具備：

分擔劑量運算處理電路，在上述缺陷束的照射位置是上述圖案的邊緣附近的情況下，以減小使用了上述周圍的束群的各分擔劑量的重心位置與上述缺陷束的照射位置之間的偏移的方式運算多個分配劑量。

5.如權利要求1所述的多帶電粒子束描繪裝置，其特征在于，還具備：

檢測處理電路，檢測上述多帶電粒子束中的、成為始終開啟的上述缺陷束。

6.如權利要求1所述的多帶電粒子束描繪裝置，其特征在于，還具備：

缺陷束劑量運算處理電路，運算上述缺陷束的劑量。

7.如權利要求6所述的多帶電粒子束描繪裝置，其特征在于，還具備：

過剩劑量運算處理電路，運算由上述缺陷束帶來的上述過剩劑量。

8.如權利要求7所述的多帶電粒子束描繪裝置，其特征在于，

上述過剩劑量通過從上述缺陷束的上述劑量減去被照射上述缺陷束的上述樣本上的小區(qū)域所用的劑量來計算。

9.如權利要求6所述的多帶電粒子束描繪裝置，其特征在于，

還具備在上述缺陷束的照射位置移動期間、將上述多帶電粒子束整體一并關斷的機構，

上述缺陷束的上述劑量，關于上述多帶電粒子束整體未被一并關斷的時間來運算。

10.一種多帶電粒子束描繪方法，其特征在于，

形成多帶電粒子束，

從缺陷束的周圍的束群各自的劑量減去對應的分擔劑量，以從上述缺陷束的周圍的束群的劑量的總和減去與由上述缺陷束帶來的過剩劑量同樣的劑量、且減小使用了上述周圍的束群的各分擔劑量的重心位置與上述缺陷束的照射位置之間的偏移，上述缺陷束為上述多帶電粒子束中的、無法進行束的劑量控制而照射的劑量達到過剩的缺陷束，

使用與上述缺陷束的上述過剩劑量同樣的劑量被從上述周圍的束群的劑量的上述總和減去后得到的劑量的多帶電粒子束，對樣本描繪圖案。