[發明專利]一種機械手交接工位標定方法、裝置、設備及存儲介質有效
| 申請號: | 201910702431.5 | 申請日: | 2019-07-31 |
| 公開(公告)號: | CN112296997B | 公開(公告)日: | 2022-01-14 |
| 發明(設計)人: | 周文賢;向軍;鄭教增;姜杰;朱正平;龐飛;郝鳳龍;牛增欣 | 申請(專利權)人: | 上海微電子裝備(集團)股份有限公司 |
| 主分類號: | B25J9/16 | 分類號: | B25J9/16;G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 機械手 交接 標定 方法 裝置 設備 存儲 介質 | ||
本發明公開了一種機械手交接工位標定方法、裝置、設備及存儲介質。方法包括:在發生碰撞后,判斷最近的前兩次碰撞的碰撞點是否位于“V”形槽同一側的內壁上,若是,則控制機械手以前一次步進的步進方向和步進距離進行步進,并控制機械手沿碰撞方向運動直至第一標定部與“V”形槽的內壁發生碰撞;若否,則控制機械手以第二步進方向以及第二步進距離進行步進,并控制機械手沿碰撞方向運動直至第一標定部與“V”形槽的內壁發生碰撞,在每次碰撞時,判斷是否滿足工位標定指標,若否,則繼續執行碰撞操作,直至滿足工位標定指標。本發明在保證工位標定精度的前提下,減少了第一標定部與“V”形槽的碰撞次數,減少了標定時間,提高了標定效率。
技術領域
本發明實施例涉及光刻設備領域,尤其涉及一種機械手交接工位標定方法、裝置、設備及存儲介質。
背景技術
光刻設備是一種將掩模圖案曝光成像到硅片上的設備,在光刻設備中,基底傳輸系統用于快速、準確、可靠地基底傳輸到工件臺或基底庫中。隨著集成電路制造行業技術不斷發展,芯片刻線精度不斷提高,對傳輸系統提出的要求體現在硅片傳輸到工件臺上的精度也隨之提高,即對機械手與工件臺的交接工位的標定精度要求越來越高。
現有硅片傳輸分系統中,主要采用如下兩種方法進行交接工位標定:
1)采用機械手低速微動,人工現場肉眼觀察完成交接工位標定,這種方式不但耗時較長、效率低下,并且可靠性和精確度差。
2)采用機械手片叉的第一標定部碰撞工件臺上的第二標定部的“V”形槽,連續碰撞“V”形槽的左側和右側,擬合“V”形槽兩側的曲線,從而計算“V”形槽的正中位置作為交接工位。該方法碰撞點數較多,耗時過長,需要擬合兩條曲線,引入誤差被放大。
發明內容
本發明提供一種機械手交接工位標定方法、裝置、設備及存儲介質,在保證工位標定精度的前提下,減少了第一標定部與“V”形槽的碰撞次數,減少了標定時間,提高了標定效率。
第一方面,本發明實施例提供了一種機械手交接工位標定方法,機械手包括第一標定部,工件臺包括與所述第一標定部對應的第二標定部,所述第二標定部具有“V”形槽,所述“V”形槽的內壁包括兩側的第一內壁和第二內壁,所述機械手交接工位標定方法包括:
在通過控制所述機械手的運動帶動所述第一標定部與所述“V”形槽的內壁發生第n-1次碰撞后,控制所述機械手以第一步進方向以及第一步進距離進行步進,并控制所述機械手沿碰撞方向運動至所述第一標定部與所述“V”形槽的內壁發生第n次碰撞,其中,所述第一步進方向平行于由所述第一內壁指向所述第二內壁的方向,所述碰撞方向垂直于所述第一步進方向,n≥2;
判斷第n-1次碰撞的碰撞點和第n次碰撞的碰撞點是否位于所述“V”形槽同一側的內壁上;
若所述第一標定部與所述“V”形槽第n次碰撞的碰撞點和所述第一標定部與所述“V”形槽第n-1次碰撞的碰撞點,位于所述“V”形槽同一側的內壁上,則控制所述機械手以所述第一步進方向以及所述第一步進距離進行步進,并控制所述機械手沿所述碰撞方向運動至所述第一標定部與所述“V”形槽的內壁發生第n+1次碰撞;
若所述第一標定部與所述“V”形槽第n次碰撞的碰撞點和所述第一標定部與所述“V”形槽第n-1次碰撞的碰撞點,位于所述“V”形槽不同側的內壁上,則控制所述機械手以第二步進方向以及第二步進距離進行步進,并控制所述機械手沿所述碰撞方向運動至所述第一標定部與所述“V”形槽的內壁發生第n+1次碰撞,其中,所述第二步進方向與所述第一步進方向相反,所述第二步進距離小于所述第一步進距離;
所述機械手交接工位標定方法還包括:
在所述第一標定部每次與所述“V”形槽發生碰撞時,判斷是否滿足工位標定指標,若不滿足所述工位標定指標,則繼續執行所述第一標定部與所述“V”形槽的碰撞操作,直至滿足所述工位標定指標。
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