[發(fā)明專利]干式清洗裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910695800.2 | 申請日: | 2019-07-30 |
| 公開(公告)號: | CN112295317A | 公開(公告)日: | 2021-02-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吉野悟志;郭昊 | 申請(專利權(quán))人: | 理光高科技(深圳)有限公司;雷歐電子株式會社 |
| 主分類號: | B01D41/00 | 分類號: | B01D41/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 謝辰 |
| 地址: | 518103 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 清洗 裝置 | ||
本發(fā)明提供干式清洗裝置,其能夠簡單且有效地對集塵部的過濾器進(jìn)行清掃。干式清洗裝置具備:清洗槽,其具有,在清洗槽內(nèi)收納有清洗介質(zhì),清洗對象以覆蓋開口的方式配置;氣體供給部,其經(jīng)由第一流路向清洗槽內(nèi)供給所述氣體;集塵部,從清洗槽排出的含有污垢的廢氣被排出到集塵部,并由配置在集塵部內(nèi)的過濾器過濾;在集塵部中還設(shè)置有向過濾器噴射氣體以清掃過濾器的清掃部,清掃部經(jīng)由與第一流路并行的第二流路與氣體供給部連通。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及利用氣體使清洗介質(zhì)飛散并對清洗對象碰撞而將附著于清洗對象的粉塵或污垢等去除的干式清洗裝置。
背景技術(shù)
近年來,提出了不使用有機(jī)溶劑、水等液體就能夠?qū)η逑磳ο筮M(jìn)行清洗的干式清洗技術(shù)。作為采用這種技術(shù)的干式清洗裝置例如以下專利文獻(xiàn)所示。
專利文獻(xiàn):(日本)特許第4531841號
這樣的干式清洗裝置具有清洗槽和向清洗槽內(nèi)供給氣體的氣體供給部。清洗槽具有開口,呈板狀的清洗對象以覆蓋該開口的方式配置。在清洗槽內(nèi)收納有樹脂薄片等清洗介質(zhì)。通過由氣體供給部向清洗槽內(nèi)供給氣體,而在清洗槽內(nèi)形成旋流,使清洗介質(zhì)飛散。飛散狀態(tài)下的清洗介質(zhì)碰撞清洗對象的表面,能夠?qū)⒏街姆蹓m或污垢等去除,從而達(dá)到清洗的效果。
被去除的污垢通常從清洗槽排出后由集塵部回收。在集塵部中設(shè)有過濾器,通過對從清洗槽排出的含有污垢的廢氣進(jìn)行過濾而回收污垢,被去除污垢的清潔氣體被排出機(jī)外。
但是,在這樣的集塵部中存在著污垢容易堵塞過濾器的問題,因此需要定期對過濾器進(jìn)行清掃。現(xiàn)有技術(shù)中,通常利用刷子對過濾器進(jìn)行清掃。這樣的清掃動作可以通過手動進(jìn)行,但存在著操作麻煩且花費(fèi)時(shí)間的問題。若設(shè)置驅(qū)動刷子移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu),則會導(dǎo)致集塵部的結(jié)構(gòu)變復(fù)雜,而且由于刷子的清掃動作復(fù)雜,驅(qū)動機(jī)構(gòu)的設(shè)計(jì)上也存在困難。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述情況,本發(fā)明提供干式清洗裝置,其能夠簡單且有效地對集塵部的過濾器進(jìn)行清掃。
本發(fā)明的干式清洗裝置利用氣體使清洗介質(zhì)飛散并對清洗對象碰撞而將附著于所述清洗對象的污垢去除,其特征在于,具備:
清洗槽,其具有開口,在所述清洗槽內(nèi)收納有清洗介質(zhì),所述清洗對象以覆蓋所述開口的方式配置;
氣體供給部,其經(jīng)由第一流路向所述清洗槽內(nèi)供給所述氣體;
集塵部,從所述清洗槽排出的含有污垢的廢氣被排出到所述集塵部,并由配置在所述集塵部內(nèi)的過濾器過濾;
在所述集塵部中還設(shè)置有向所述過濾器噴射氣體以清掃所述過濾器的清掃部,
所述清掃部經(jīng)由與所述第一流路并行的第二流路與所述氣體供給部連通。
根據(jù)上述結(jié)構(gòu),能夠利用干式清洗裝置中向清洗槽提供氣體的結(jié)構(gòu)構(gòu)成對過濾器進(jìn)行清掃的清掃部,因此相比現(xiàn)有技術(shù)中的刷式清掃部的結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)更簡單且更容易設(shè)計(jì)。
另外,優(yōu)選的是,所述氣體供給部不同時(shí)向所述清洗槽和所述清掃部供給氣體。
所述氣體供給部在向所述清洗槽供給氣體停止后向所述清掃部供給氣體。
由此,雖然對過濾器的清掃動作和對清洗對象的清洗動作同樣使用來自氣體供給部的氣體,但由于在對清洗對象清洗時(shí),僅向清洗槽供給氣體,因此對過濾器的清掃動作不會對清洗對象物的清洗效果造成影響。另一方面,在對過濾器進(jìn)行清掃時(shí),也能夠確保對過濾器的清掃效果。
另外,優(yōu)選的是,在所述集塵部中,在所述廢氣的流動方向上比所述過濾器靠上游側(cè)的位置設(shè)置有對所述集塵部內(nèi)的負(fù)壓進(jìn)行檢測的負(fù)壓檢測部,
在由所述負(fù)壓檢測部檢測的負(fù)壓低于規(guī)定值的情況下,所述氣體供給部向所述清掃部供給氣體。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于理光高科技(深圳)有限公司;雷歐電子株式會社,未經(jīng)理光高科技(深圳)有限公司;雷歐電子株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910695800.2/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





