[發(fā)明專利]干式清洗裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910695800.2
• 申請(qǐng)日: 2019-07-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112295317A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-02-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吉野悟志;郭昊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 理光高科技（深圳）有限公司;雷歐電子株式會(huì)社
• 主分類號(hào): B01D41/00
• 分類號(hào): B01D41/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 謝辰

1.一種干式清洗裝置，利用氣體使清洗介質(zhì)飛散并對(duì)清洗對(duì)象碰撞而將附著于所述清洗對(duì)象的污垢去除，其特征在于，具備：

清洗槽，其具有開(kāi)口，在所述清洗槽內(nèi)收納有清洗介質(zhì)，所述清洗對(duì)象以覆蓋所述開(kāi)口的方式配置；

氣體供給部，其經(jīng)由第一流路向所述清洗槽內(nèi)供給所述氣體；

集塵部，從所述清洗槽排出的含有污垢的廢氣被排出到所述集塵部，并由配置在所述集塵部?jī)?nèi)的過(guò)濾器過(guò)濾；

在所述集塵部中還設(shè)置有向所述過(guò)濾器噴射氣體以清掃所述過(guò)濾器的清掃部，

所述清掃部經(jīng)由與所述第一流路并行的第二流路與所述氣體供給部連通。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干式清洗裝置，其特征在于，

所述氣體供給部不同時(shí)向所述清洗槽和所述清掃部供給氣體。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的干式清洗裝置，其特征在于，

所述氣體供給部在向所述清洗槽供給氣體停止后向所述清掃部供給氣體。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的干式清洗裝置，其特征在于，

在所述集塵部中，在所述廢氣的流動(dòng)方向上比所述過(guò)濾器靠上游側(cè)的位置設(shè)置有對(duì)所述集塵部?jī)?nèi)的負(fù)壓進(jìn)行檢測(cè)的負(fù)壓檢測(cè)部，

在由所述負(fù)壓檢測(cè)部檢測(cè)的負(fù)壓低于規(guī)定值的情況下，所述氣體供給部向所述清掃部供給氣體。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的干式清洗裝置，其特征在于，

在由所述負(fù)壓檢測(cè)部檢測(cè)的負(fù)壓低于規(guī)定值的情況下，在所述清洗槽中的對(duì)當(dāng)前的清洗對(duì)象的清洗結(jié)束后，所述氣體供給部停止向所述清洗槽供給氣體并開(kāi)始向所述清掃部供給氣體。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～3所述的干式清洗裝置，其特征在于，

所述過(guò)濾器形成為中空的圓筒狀，且以圓筒兩端的開(kāi)口朝向上下方向的狀態(tài)設(shè)置于所述集塵部?jī)?nèi)，

從所述清洗槽排出的所述廢氣從所述過(guò)濾器的上端的開(kāi)口進(jìn)入所述過(guò)濾器的內(nèi)部后穿過(guò)所述過(guò)濾器的筒壁后向所述集塵部外排出；

在所述過(guò)濾器的下端的開(kāi)口的正下方配置有對(duì)污垢進(jìn)行回收的回收部。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的干式清洗裝置，其特征在于，

所述清掃部具有向所述過(guò)濾器噴射所述氣體的噴嘴，

所述噴嘴形成為前端封閉的管狀，在管壁上形成有呈螺旋狀排列的多個(gè)開(kāi)口。