[發明專利]干式清洗裝置

在審

• 申請號: 201910695800.2
• 申請日: 2019-07-30
• 公開（公告）號: CN112295317A
• 公開（公告）日: 2021-02-02
• 發明（設計）人: 吉野悟志;郭昊
• 申請（專利權）人: 理光高科技（深圳）有限公司;雷歐電子株式會社
• 主分類號: B01D41/00
• 分類號: B01D41/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 謝辰

1.一種干式清洗裝置，利用氣體使清洗介質飛散并對清洗對象碰撞而將附著于所述清洗對象的污垢去除，其特征在于，具備：

清洗槽，其具有開口，在所述清洗槽內收納有清洗介質，所述清洗對象以覆蓋所述開口的方式配置；

氣體供給部，其經由第一流路向所述清洗槽內供給所述氣體；

集塵部，從所述清洗槽排出的含有污垢的廢氣被排出到所述集塵部，并由配置在所述集塵部內的過濾器過濾；

在所述集塵部中還設置有向所述過濾器噴射氣體以清掃所述過濾器的清掃部，

所述清掃部經由與所述第一流路并行的第二流路與所述氣體供給部連通。

2.根據權利要求1所述的干式清洗裝置，其特征在于，

所述氣體供給部不同時向所述清洗槽和所述清掃部供給氣體。

3.根據權利要求2所述的干式清洗裝置，其特征在于，

所述氣體供給部在向所述清洗槽供給氣體停止后向所述清掃部供給氣體。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的干式清洗裝置，其特征在于，

在所述集塵部中，在所述廢氣的流動方向上比所述過濾器靠上游側的位置設置有對所述集塵部內的負壓進行檢測的負壓檢測部，

在由所述負壓檢測部檢測的負壓低于規定值的情況下，所述氣體供給部向所述清掃部供給氣體。

5.根據權利要求4所述的干式清洗裝置，其特征在于，

在由所述負壓檢測部檢測的負壓低于規定值的情況下，在所述清洗槽中的對當前的清洗對象的清洗結束后，所述氣體供給部停止向所述清洗槽供給氣體并開始向所述清掃部供給氣體。

6.根據權利要求1～3所述的干式清洗裝置，其特征在于，

所述過濾器形成為中空的圓筒狀，且以圓筒兩端的開口朝向上下方向的狀態設置于所述集塵部內，

從所述清洗槽排出的所述廢氣從所述過濾器的上端的開口進入所述過濾器的內部后穿過所述過濾器的筒壁后向所述集塵部外排出；

在所述過濾器的下端的開口的正下方配置有對污垢進行回收的回收部。

7.根據權利要求6所述的干式清洗裝置，其特征在于，

所述清掃部具有向所述過濾器噴射所述氣體的噴嘴，

所述噴嘴形成為前端封閉的管狀，在管壁上形成有呈螺旋狀排列的多個開口。