[發明專利]液體噴射頭、液體噴射設備和液體噴射模塊

有效

• 申請號: 201910694720.5
• 申請日: 2019-07-30
• 公開（公告）號: CN110774762B
• 公開（公告）日: 2021-10-19
• 發明（設計）人: 中川喜幸;半村亞紀子
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: B41J2/14
• 分類號: B41J2/14
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 朱巧博

本發明涉及液體噴射頭、液體噴射設備和液體噴射模塊。液體噴射頭包括：允許第一液體和第二液體在內部流動的壓力室、向第一液體施加壓力的壓力產生元件、和噴射第二液體的噴射口。第一液體和與第一液體相比在更靠近噴射口的一側流動的第二液體在壓力室中彼此接觸地流動。在壓力室中流動的第一液體和第二液體滿足：0.00.44(Q₂/Q₁)^?0.322(η₂/η₁)^?0.1091.0，其中，η₁是第一液體的粘度，η₂是第二液體的粘度，Q₁是第一液體的流量，Q₂是第二液體的流量。

技術領域

本公開涉及液體噴射頭、液體噴射模塊和液體噴射設備。

背景技術

日本專利公開No.H06-305143公開了一種液體噴射單元，其構造成使用作噴射介質的液體和用作發泡介質的液體在界面上彼此接觸，并且隨著在接收傳遞的熱能的發泡介質中產生的氣泡的生長而噴射介質。日本專利公開No.H06-305143描述了通過向噴射介質和發泡介質中的一者或兩者施加壓力來形成噴射介質和發泡介質的流動。

發明內容

在本公開的第一方面中，提供了一種液體噴射頭，其包括：壓力室，所述壓力室構造成允許第一液體和第二液體在內部流動；壓力產生元件，所述壓力產生元件構造成向第一液體施加壓力；噴射口，所述噴射口構造成噴射第二液體，其中，第一液體和與第一液體相比在更靠近噴射口的一側流動的第二液體在壓力室中彼此接觸地流動，并且在壓力室中流動的第一液體和第二液體滿足：

0.00.44(Q₂/Q₁)^-0.322(η₂/η₁)^-0.1091.0，

其中η₁是第一液體的粘度，η₂是第二液體的粘度，Q₁是第一液體的流量(體積流量[um³/us])，Q₂是第二液體的流量(體積流量[um³/us])。

在本公開的第二方面中，提供了一種液體噴射設備，其包括液體噴射頭，所述液體噴射頭包括：壓力室，所述壓力室構造成允許第一液體和第二液體在內部流動；壓力產生元件，所述壓力產生元件構造成向第一液體施加壓力；噴射口，所述噴射口構造成噴射第二液體，其中，第一液體和與第一液體相比在更靠近噴射口的一側流動的第二液體在壓力室中彼此接觸地流動，并且在壓力室中流動的第一液體和第二液體滿足：

0.00.44(Q₂/Q₁)^-0.322(η₂/η₁)^-0.1091.0，

其中η₁是第一液體的粘度，η₂是第二液體的粘度，Q₁是第一液體的流量，Q₂是第二液體的流量。

在本公開的第三方面中，提供了一種用于構造液體噴射頭的液體噴射模塊，所述液體噴射頭包括：壓力室，所述壓力室構造成允許第一液體和第二液體在內部流動；壓力產生元件，所述壓力產生元件構造成向第一液體施加壓力；噴射口，所述噴射口構造成噴射第二液體，其中，第一液體和與第一液體相比在更靠近噴射口的一側流動的第二液體在壓力室中彼此接觸地流動，在壓力室中流動的第一液體和第二液體滿足：

0.00.44(Q₂/Q₁)^-0.322(η₂/η₁)^-0.1091.0，