[發明專利]液體噴射頭、液體噴射設備和液體噴射模塊有效
| 申請號： | 201910694720.5 | 申請日： | 2019-07-30 |
| 公開（公告）號： | CN110774762B | 公開（公告）日： | 2021-10-19 |
| 發明（設計）人： | 中川喜幸;半村亞紀子 | 申請（專利權）人： | 佳能株式會社 |
| 主分類號： | B41J2/14 | 分類號： | B41J2/14 |
| 代理公司： | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人： | 朱巧博 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 液體 噴射 設備 模塊 | ||
1.一種液體噴射頭，包括：
壓力室，所述壓力室構造成允許第一液體和第二液體在內部流動；
壓力產生元件，所述壓力產生元件構造成向第一液體施加壓力；和
噴射口，所述噴射口構造成噴射第二液體，其中
液體噴射頭構造成使第二液體與第一液體相比在更靠近噴射口的一側流動并且在壓力室中與第一液體接觸地流動，
第一液體和第二液體沿相同的方向流動，
在第二液體的噴射方向是從底部到頂部的情況下，第二液體在第一液體的上方流動，并且
在壓力室中流動的第一液體和第二液體滿足：
0.00.44(Q2/Q1)-0.322(η2/η1)-0.1091.0，
其中，η1是第一液體的粘度，η2是第二液體的粘度，Q1是第一液體的流量，Q2是第二液體的流量。
2.根據權利要求1所述的液體噴射頭，其中，在壓力室中流動的第一液體和第二液體滿足：
0.00.44(Q2/Q1)-0.322(η2/η1)-0.109≤0.8。
3.根據權利要求1所述的液體噴射頭，其中，在壓力室中流動的第一液體和第二液體滿足：
0.00.44(Q2/Q1)-0.322(η2/η1)-0.109≤0.5。
4.根據權利要求1所述的液體噴射頭，其中，第一液體和第二液體在壓力室中形成層流。
5.根據權利要求1所述的液體噴射頭，其中，第一液體和第二液體在壓力室中形成平行流。
6.根據權利要求1所述的液體噴射頭，其中，從噴射口噴射的噴射液滴中的第一液體的百分比低于20％。
7.根據權利要求1所述的液體噴射頭，其中，從噴射口噴射的噴射液滴中的第一液體的百分比低于1％。
8.根據權利要求1所述的液體噴射頭，其中，
壓力產生元件和噴射口位于彼此相對的位置處，并且
第一液體和第二液體在壓力室中流動，使得壓力產生元件、第一液體、第二液體和噴射口以列出的順序布置。
9.根據權利要求5所述的液體噴射頭，其中，
壓力產生元件和噴射口位于彼此相對的位置處，并且
第一液體和第二液體在壓力室中流動，使得壓力產生元件、第一液體、第二液體和噴射口以列出的順序布置。
10.根據權利要求8所述的液體噴射頭，其中，液體噴射頭滿足：
h1/(h1+h2)≤+0.3180+0.0087H，
其中，H[μm]是壓力室的高度，h1是壓力室中的第一液體在第二液體的噴射方向上的厚度，h2是壓力室中的第二液體在第二液體的噴射方向上的厚度。
11.根據權利要求8所述的液體噴射頭，其中，液體噴射頭滿足：
h1/(h1+h2)≤+0.0982+0.0128H，
其中，H[μm]是壓力室的高度，h1是壓力室中的第一液體在第二液體的噴射方向上的厚度，h2是壓力室中的第二液體在第二液體的噴射方向上的厚度。
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