[發(fā)明專利]氣浮平臺及自動光學(xué)檢查設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910687517.5 | 申請日: | 2019-07-29 |
| 公開(公告)號: | CN110487512A | 公開(公告)日: | 2019-11-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 方杰 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G01M11/02 | 分類號: | G01M11/02;G02F1/13 |
| 代理公司: | 44300 深圳翼盛智成知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) | 代理人: | 黃威<國際申請>=<國際公布>=<進(jìn)入國 |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氣浮面 側(cè)壁 角邊部 生成模塊 一端連接 吹氣管 吹氣裝置 光學(xué)檢測 內(nèi)凹設(shè)置 氣浮機(jī)構(gòu) 相鄰排列 吹氣孔 高低差 氣浮板 基板 連通 檢測 | ||
1.一種氣浮平臺,包括相鄰排列的多個氣浮機(jī)構(gòu),其特征在于,每一所述氣浮機(jī)構(gòu)包括:
基座;
吹氣裝置,設(shè)于所述基座內(nèi),并包括氣流生成模塊及連接于所述氣流生成模塊的多個吹氣管;以及
氣浮板,設(shè)于所述基座上,包括氣浮面、設(shè)于所述氣浮面周圍的側(cè)壁,及連通所述多個吹氣管的多個吹氣孔,其中所述側(cè)壁與所述氣浮面之間具有角邊部,其一端連接所述氣浮面,另一端連接所述側(cè)壁,且所述角邊部朝所述氣浮面與所述側(cè)壁之間內(nèi)凹設(shè)置。
2.如權(quán)利要求1的氣浮平臺,其特征在于,所述角邊部包括弧邊。
3.如權(quán)利要求2的氣浮平臺,其特征在于,所述弧邊于所述側(cè)壁及所述氣浮面之間構(gòu)成60度的圓弧角。
4.如權(quán)利要求1的氣浮平臺,其特征在于,所述角邊部包括斜邊,
且所述斜邊與所述氣浮面的水平方向具有小于或等于60度的夾角。
5.如權(quán)利要求1的氣浮平臺,其特征在于,所述氣浮板具有矩形構(gòu)型,所述角邊部沿繞所述矩形氣浮板的四個側(cè)壁設(shè)置。
6.如權(quán)利要求1的氣浮平臺,其特征在于,所述多個吹氣孔貫穿所述氣浮面,所述氣流生成模塊用以產(chǎn)生氣流,其依序通過所述多個吹氣管及所述多個吹氣孔朝上吹出,其中所述多個吹氣孔吹出的氣流用以懸浮所述基板。
7.如權(quán)利要求6的氣浮平臺,其特征在于,更包括至少一對輥軸,
其分別設(shè)于所述基座的相對二側(cè)外,其中所述一對輥軸用以承托所述基板至所述氣浮板的上方,并于所述基板懸浮后下移至所述氣浮板的下方。
8.如權(quán)利要求1的氣浮平臺,其特征在于,更包括軌道裝置,其設(shè)于所述基座的相對二側(cè),其中所述氣浮板可移動地連接于所述軌道裝置。
9.如權(quán)利要求1的氣浮平臺,其特征在于,所述相鄰排列的多個氣浮機(jī)構(gòu)的氣浮面為相互齊平設(shè)置。
10.一種自動光學(xué)檢查設(shè)備,其特征在于,所述自動光學(xué)檢查設(shè)備包括自動光學(xué)檢查機(jī)及權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的氣浮平臺。
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