[發明專利]結構光處理方法和結構光模組

在審

• 申請號: 201910683705.0
• 申請日: 2019-07-26
• 公開（公告）號: CN110376606A
• 公開（公告）日: 2019-10-25
• 發明（設計）人: 楊進偉
• 申請（專利權）人: 信利光電股份有限公司
• 主分類號: G01S17/89
• 分類號: G01S17/89;G01S7/481
• 代理公司: 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102
• 代理人: 廖苑濱

本發明提供了結構光處理方法和結構光模組，本發明提供的結構光處理方法和結構光模組通過使發射模組保持為未發射狀態時由接收模組獲取第一結構光成像信息，發射模組發射結構光時由接收模組獲取第二結構光成像信息，并將第二結構光成像信息減去第一結構光成像信息獲取第三結構光成像信息且根據所述第三結構光成像信息獲取結構光識別信息；使得第三結構光成像信息有效去除了干擾信息，有效排除環境光源的干擾，提高成像質量和識別精度。

技術領域

本發明涉及了結構光技術領域，特別是涉及了結構光處理方法和結構光模組。

背景技術

結構光技術作為一種獲取深度信息的技術方案已經被廣泛用于三維成像以及人臉識別等領域，其工作原理是通過發生模組發射具有點陣圖案的結構光，經被拍攝物體反射后，由接收模組接收，從而可以計算目標的深度信息。

但隨著結構光技術的廣泛應用，以及其他紅外模組的廣泛使用，結構光模組在實際使用中常常出現接收到環境光源發射的光線的干擾，導致獲取到的成像信息的偏差，影響成像質量和識別精度。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是能夠提供一種結構光處理方法和結構光模組，能夠有效防止環境光源對結構光模組的干擾，提高成像質量和識別精度。

為解決上述技術問題，本發明提供了一種結構光處理方法，包括以下步驟：

步驟1：使發射模組保持為未發射狀態，通過接收模組獲取第一結構光成像信息；

步驟2：通過發射模組發射結構光，通過接收模組獲取第二結構光成像信息；

步驟3：將第二結構光成像信息減去第一結構光成像信息獲取第三結構光成像信息；

步驟4：根據所述第三結構光成像信息獲取結構光識別信息。

作為本發明的一種優選方案，所述發射模組配置為發射脈沖式紅外結構光。

作為本發明的一種優選方案，所述步驟4之后還包括：

步驟5：重復步驟1-4獲取多組結構光識別信息。

作為本發明的一種優選方案，在所述步驟5之后，還包括：

步驟6：判斷獲取到的多組結構光識別信息的數量是否到達檢測閾值，若是，關閉發射模組和接收模組。

本發明還提供了另一種結構光處理方法，包括以下步驟：

步驟1：使發射模組保持為未發射狀態，通過接收模組獲取第一結構光成像信息；

步驟2：通過發射模組發射結構光，通過接收模組獲取第二結構光成像信息；

步驟3：將第二結構光成像信息減去第一結構光成像信息獲取第三結構光成像信息；

步驟4：重復步驟1-3獲取多個第三結構光成像信息并進行疊加，形成第四結構光成像信息；

步驟5：根據所述第四結構光成像信息獲取結構光識別信息。

進一步地，提供一種結構光模組，包括：

發射模組，具有未發射狀態和發射結構光狀態；

接收模組，用于在所述發射模組保持為未發射狀態時獲取第一結構光成像信息，在所述發射模組發射結構光時，獲取第二結構光成像信息；

處理器，用于將第二結構光成像信息減去第一結構光成像信息獲取第三結構光成像信息及根據所述第三結構光成像信息獲取結構光識別信息。

作為本發明的一種優選方案，所述發射模組配置為發射脈沖式紅外結構光。