[發明專利]顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制備方法有效
| 申請號: | 201910678730.X | 申請日: | 2019-07-25 |
| 公開(公告)號: | CN110400889B | 公開(公告)日: | 2022-01-25 |
| 發明(設計)人: | 陳營營;孫晨;秦立新;莫丹;賈松霖 | 申請(專利權)人: | 云谷(固安)科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258 | 代理人: | 娜拉 |
| 地址: | 065500 河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 面板 顯示裝置 制備 方法 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,包括:
陣列基板;
發光器件層,設置于所述陣列基板上,所述發光器件層包括像素限定層及發光器件,所述像素限定層位于所述陣列基板上并具有像素開口,所述發光器件設置于所述像素開口內;
薄膜封裝層,設置于所述發光器件層背向所述陣列基板的一側,所述薄膜封裝層至少包括平坦化層和有機層,所述平坦化層靠近所述陣列基板設置;
其中,所述平坦化層包括第一無機層和平坦化單元,所述平坦化單元設置于所述像素開口,所述第一無機層與所述平坦化單元層疊設置;
所述平坦化單元設置在所述第一無機層面向所述陣列基板的一側,所述平坦化單元背向所述陣列基板的一側的表面與所述像素限定層背向所述陣列基板的一側的表面相齊平,所述薄膜封裝層還包括:
第二無機層,位于所述第一無機層與所述有機層之間;
所述第二無機層是通過原子層沉積氧化硅得到的。
2.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述平坦化單元為無機材料層。
3.根據權利要求2所述的顯示面板,其特征在于,所述平坦化單元的材料包括氮氧化硅、氧化硅、氮化硅或氟化鋰。
4.根據權利要求1-3任一項所述的顯示面板,其特征在于,所述薄膜封裝層還包括:
第三無機層,位于所述有機層背向所述陣列基板的一側。
5.一種顯示裝置,其特征在于,包括如權利要求1-4任一項所述的顯示面板。
6.一種顯示面板的制備方法,其特征在于,包括:
提供陣列基板;
在所述陣列基板上形成像素限定層;
在所述像素限定層上形成像素開口;
在所述像素開口內形成發光器件;
在所述像素開口內的所述發光器件上形成平坦化單元,以使所述平坦化單元背向所述發光器件的一側的表面與所述像素限定層背向所述陣列基板的一側的表面齊平,以形成平整表面;
在所述平整表面上鋪設第一無機層,以形成平坦化層;
利用原子層沉積方法在所述第一無機層上沉積氧化硅,形成第二無機層;
在所述第二無機層上設置有機層,以形成薄膜封裝層。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





