[發(fā)明專利]一種蝕刻裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910675367.6
• 申請日: 2019-07-24
• 公開（公告）號: CN110416128B
• 公開（公告）日: 2021-07-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李嘉
• 申請（專利權(quán)）人: TCL華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;G02F1/13
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

本發(fā)明提供一種蝕刻裝置，該蝕刻裝置包括：支撐體；多個(gè)并排設(shè)置的第一傳送滾軸，設(shè)于所述支撐體上；每個(gè)所述第一傳送滾軸上套裝有多個(gè)滾輪；多個(gè)清潔件，所述清潔件用于對所述滾輪的外表面進(jìn)行清潔，所述滾輪與所述清潔件對應(yīng)，所述清潔件的位置與對應(yīng)的滾輪的位置對應(yīng)。本發(fā)明的蝕刻裝置，能夠提高產(chǎn)品良率。

【技術(shù)領(lǐng)域】

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種蝕刻裝置。

【背景技術(shù)】

在液晶顯示面板制造過程中，濕法蝕刻裝置應(yīng)用十分廣泛，涉及蝕刻、涂布顯影、清洗等眾多工序。

濕法蝕刻裝置通常包括一排傳送滾軸，在每個(gè)傳送滾軸上設(shè)置有多個(gè)滾輪，通過傳送滾軸的轉(zhuǎn)動(dòng)帶動(dòng)滾輪轉(zhuǎn)動(dòng)，以便于對基板進(jìn)行傳送。

但是，滾輪長期在各種酸性、堿性、有機(jī)藥液的環(huán)境下浸泡或風(fēng)干會(huì)造成滾輪磨損，從而產(chǎn)生塵粒，此時(shí)再與基板接觸，會(huì)刮傷基板或者將塵粒粘在基板上，從而降低產(chǎn)品良率。

因此，有必要提供一種蝕刻裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

本發(fā)明的目的在于提供一種蝕刻裝置，能夠提高產(chǎn)品良率。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種蝕刻裝置，包括：

支撐體；

多個(gè)并排設(shè)置的第一傳送滾軸，設(shè)于所述支撐體上；每個(gè)所述第一傳送滾軸上套裝有多個(gè)滾輪；

多個(gè)清潔件，所述清潔件用于對所述滾輪的外表面進(jìn)行清潔，所述滾輪與所述清潔件對應(yīng)，所述清潔件的位置與對應(yīng)的滾輪的位置對應(yīng)。

本發(fā)明的蝕刻裝置，包括支撐體；多個(gè)并排設(shè)置的第一傳送滾軸，設(shè)于所述支撐體上；每個(gè)所述第一傳送滾軸上套裝有多個(gè)滾輪；多個(gè)清潔件，所述清潔件用于對所述滾輪的外表面進(jìn)行清潔，所述滾輪與所述清潔件對應(yīng)，所述清潔件的位置與對應(yīng)的滾輪的位置對應(yīng)，由于在與滾輪對應(yīng)的位置增加清潔件，從而能夠在制程前對滾輪進(jìn)行有效的清潔，防止塵粒刮傷基板或粘在基板上，進(jìn)而提高了產(chǎn)品良率。

【附圖說明】

圖1為現(xiàn)有刻裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本發(fā)明的蝕刻裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3為圖2中蝕刻裝置的正視圖。

【具體實(shí)施方式】

以下各實(shí)施例的說明是參考附加的圖式，用以例示本發(fā)明可用以實(shí)施的特定實(shí)施例。本發(fā)明所提到的方向用語，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「內(nèi)」、「外」、「側(cè)面」等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用以說明及理解本發(fā)明，而非用以限制本發(fā)明。在圖中，結(jié)構(gòu)相似的單元是以相同標(biāo)號表示。

如圖1所示，現(xiàn)有的蝕刻裝置包括支撐體10、多個(gè)第一傳送滾軸21。其中支撐體10包括兩個(gè)相對的側(cè)壁11、12和底板13，其中多個(gè)第一傳送滾軸21設(shè)置在兩個(gè)側(cè)壁11、12之間，且多個(gè)第一傳送滾軸21并排設(shè)置，也即位于同一平面內(nèi)。每個(gè)第一傳送滾軸21上均套裝有多個(gè)滾輪22，第一傳送滾軸21帶動(dòng)所述滾輪22轉(zhuǎn)動(dòng)。

請參照圖2和3，圖2為本發(fā)明的蝕刻裝置結(jié)構(gòu)示意圖。

如圖2和3所示，結(jié)合圖1，本實(shí)施例的蝕刻裝置包括支撐體10、第一傳送滾軸21、滾輪22、第二傳送滾軸23、多個(gè)清潔件24。

其中支撐體10包括兩個(gè)相對的側(cè)壁11、12和底板13，兩個(gè)側(cè)壁11、12均設(shè)于底板13上，也即底板13位于兩個(gè)側(cè)壁11、12的下方。

多個(gè)第一傳送滾軸21設(shè)于支撐體10上，具體設(shè)置在兩個(gè)側(cè)壁11、12之間。每個(gè)第一傳送滾軸21的其中一個(gè)端部設(shè)于其中一個(gè)側(cè)壁11上，另外一個(gè)端部設(shè)于另外一個(gè)側(cè)壁12上。多個(gè)第一傳送滾軸21并排設(shè)置，也即位于第一平面內(nèi)，也即各第一傳送滾軸21的高度相等。