[發明專利]一種蝕刻裝置

有效

• 申請號: 201910675367.6
• 申請日: 2019-07-24
• 公開（公告）號: CN110416128B
• 公開（公告）日: 2021-07-06
• 發明（設計）人: 李嘉
• 申請（專利權）人: TCL華星光電技術有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;G02F1/13
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

1.一種蝕刻裝置，其特征在于，包括：

支撐體；

多個并排設置的第一傳送滾軸，設于所述支撐體上；每個所述第一傳送滾軸上套裝有多個滾輪；

多個清潔件，所述清潔件用于對所述滾輪的外表面進行清潔，所述滾輪與所述清潔件對應，所述清潔件的位置與對應的滾輪的位置對應；

多個并排設置的第二傳送滾軸，設于所述支撐體上，每個所述第二傳送滾軸上套裝有多個所述清潔件；其中所述第一傳送滾軸的高度與所述第二傳送滾軸的高度不等；以及

升降組件，所述升降組件與所述第二傳送滾軸連接，所述升降組件用于對所述第二傳送滾軸的高度進行調節。

2.根據權利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述清潔件的寬度大于或等于所述滾輪的寬度。

3.根據權利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述滾輪與所述清潔件一一對應。

4.根據權利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述清潔件的頂表面的形狀和/或底表面的形狀為弧形。

5.根據權利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述蝕刻裝置還包括驅動組件，所述驅動組件與所述第二傳送滾軸連接，所述驅動組件用于使所述第二傳送滾軸轉動。

6.根據權利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述支撐體還包括底板和側壁，所述底板設置在所述側壁的下方，所述清潔件固定在所述底板上。

7.根據權利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述清潔件設置在所述滾輪的下方和/或者上方。

8.根據權利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述清潔件的材料包括人造纖維、海綿、無塵布中的至少一種。