[發(fā)明專利]一種潔凈生產(chǎn)廠房布置結(jié)構(gòu)

在審

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• 申請日: 2019-07-23
• 公開（公告）號: CN110284737A
• 公開（公告）日: 2019-09-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 羅橋;張東
• 申請（專利權(quán)）人: 中國電子工程設(shè)計(jì)院有限公司;世源科技工程有限公司
• 主分類號: E04H5/02
• 分類號: E04H5/02
• 代理公司: 北京同達(dá)信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 劉紅彬

1.一種潔凈生產(chǎn)廠房布置結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：

屋架及靜壓箱；

潔凈生產(chǎn)層；

潔凈下技術(shù)夾層；

所述潔凈生產(chǎn)層與所述潔凈下技術(shù)夾層之間采取結(jié)構(gòu)開孔以連通所述潔凈生產(chǎn)層和所述潔凈下技術(shù)夾層；

所述潔凈生產(chǎn)廠房一側(cè)或兩側(cè)設(shè)置回風(fēng)夾道，所述回風(fēng)夾道的一端與所述潔凈下技術(shù)夾層連通，另一端與位于所述潔凈生產(chǎn)層上方的所述靜壓箱連通，用于將潔凈空氣壓送至所述潔凈生產(chǎn)層，通過所述回風(fēng)夾道回收和循環(huán)所述潔凈下技術(shù)夾層內(nèi)的空氣。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的潔凈生產(chǎn)廠房布置結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述潔凈生產(chǎn)層與所述潔凈下技術(shù)夾層之間采用垂直層流的送風(fēng)方式。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的潔凈生產(chǎn)廠房布置結(jié)構(gòu)，其特征在于，一部分所述結(jié)構(gòu)開孔還用于連接所述潔凈下技術(shù)夾層內(nèi)的工藝輔助設(shè)備和所述潔凈生產(chǎn)區(qū)層的主機(jī)臺的動(dòng)力管線穿過。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的潔凈生產(chǎn)廠房布置結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述潔凈生產(chǎn)層包括光刻區(qū)和其它生產(chǎn)區(qū)域，所述潔凈下技術(shù)夾層內(nèi)設(shè)有承重柱，其中，所述潔凈下技術(shù)夾層對應(yīng)于所述光刻區(qū)的部分設(shè)置所述承重柱的密度大于所述潔凈下技術(shù)夾層對應(yīng)于所述其他生產(chǎn)區(qū)的部分設(shè)置所述承重柱的密度。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的潔凈生產(chǎn)廠房布置結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述潔凈下技術(shù)夾層對應(yīng)于所述光刻區(qū)的部分設(shè)置的承重柱的間距為4.2m～6m，所述潔凈下技術(shù)夾層對應(yīng)于所述其他生產(chǎn)區(qū)的部分設(shè)置的承重柱的間距為8.4m～12m。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的潔凈生產(chǎn)廠房布置結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述光刻區(qū)與所述潔凈下技術(shù)夾層對應(yīng)于所述光刻區(qū)的部分之間的結(jié)構(gòu)為華夫板。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的潔凈生產(chǎn)廠房布置結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述其他生產(chǎn)區(qū)與所述潔凈下技術(shù)夾層對應(yīng)于所述其他生產(chǎn)區(qū)的部分之間的結(jié)構(gòu)為華夫板或格構(gòu)梁。