[發明專利]含噻吩基釕配合物作為高效單線態氧產生光敏劑有效
| 申請號： | 201910612879.8 | 申請日： | 2019-07-09 |
| 公開（公告）號： | CN110396092B | 公開（公告）日： | 2020-06-30 |
| 發明（設計）人： | 王克志;張思琪;李羽佳;傅英煥;尹郅涵 | 申請（專利權）人： | 北京師范大學 |
| 主分類號： | C07D471/14 | 分類號： | C07D471/14;B01J31/18;C02F1/30;C02F1/72;C02F101/30 |
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| 地址： | 100875 北*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 噻吩 配合 作為 高效 單線 產生 光敏劑 | ||
【權利要求書】：
1.一種含噻吩基釕配合物[Ru(dtdpq)3](ClO4)2，由陽離子和陰離子組成，其特征在于，所述陽離子為[Ru(dtdpq)3]2+，結構如下式所示：
2.權利要求1所述的含噻吩基釕配合物的制備方法，其特征在于，先制備dtdpq，然后按照計量摩爾比稱取RuCl3·3H2O與dtdpq于乙二醇中，氮氣保護下加熱回流反應10小時，反應結束后冷卻至室溫，沉淀為高氯酸鹽后，過濾，將濾液進行柱層析分離，展開劑為體積比為5:1:0.5的二氯甲烷-甲醇-N,N-二甲基甲酰胺混合溶劑，減壓蒸餾除去大部分溶劑后，加入乙醚擴散重結晶，得到目標產物。
3.光照條件下，含噻吩基釕配合物[Ru(dtdpq)3](ClO4)2在水溶液中具有較高的單線態氧產率，可作為高效單線態氧產生光敏劑。
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