[發(fā)明專利]正面氮氧化硅太陽電池的制作工藝在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910610896.8 | 申請(qǐng)日: | 2019-07-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110444610A | 公開(公告)日: | 2019-11-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 程明;王東;朱彥斌 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇潤(rùn)陽悅達(dá)光伏科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/0216 | 分類號(hào): | H01L31/0216;H01L31/18 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 224000 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氮氧化硅 制作工藝 背面 晶硅太陽能電池 氮氧化硅薄膜 閉路電流 減反射膜 晶硅表面 均勻沉積 燒結(jié)步驟 正面沉積 轉(zhuǎn)換效率 鈍化膜 反射率 接觸區(qū) 太陽光 拋光 單晶 刻劃 制絨 沉淀 激光 擴(kuò)散 印刷 制造 | ||
本發(fā)明晶硅太陽能電池制造領(lǐng)域,尤其涉及一種正面氮氧化硅太陽電池的制作工藝,該方法包括晶硅表面制絨、擴(kuò)散、去PSG和單晶拋光、正面沉積減反射膜、背面沉淀鈍化膜、背面激光刻劃接觸區(qū)以及印刷燒結(jié)步驟,實(shí)現(xiàn)在正面均勻沉積的氮氧化硅薄膜層,有利于降低反射率提高轉(zhuǎn)換效率,提高太陽光的利用率,增加太陽電池的閉路電流,達(dá)到提高效率的目的。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于晶硅太陽能電池制造領(lǐng)域,尤其涉及一種正面氮氧化硅太陽電池的制作工藝。
背景技術(shù)
晶硅太陽能電池是一種可以將太陽光能轉(zhuǎn)化成為電能的電子元器件。晶體硅類太陽能電池的制備一般經(jīng)過制絨、擴(kuò)散、鍍膜、絲網(wǎng)印刷、燒結(jié)等工序。制絨分為單晶、多晶制絨,單晶電池是使用堿制絨的方法在硅片表面形成金字塔絨面,多晶電池使用酸刻蝕的方法在硅片表面形成凹坑絨面,硅表面的絨面可以增加太陽光在電池表面的吸收,達(dá)到陷光作用;擴(kuò)散工序是通過熱擴(kuò)散的方式向硅片內(nèi)部形成P-N結(jié),這樣當(dāng)有光照射時(shí),硅片內(nèi)部就可以形成電壓,是太陽電池發(fā)電的基礎(chǔ);鍍膜工藝是為了減少少數(shù)載流子在電池表面的復(fù)合,可以提高晶體硅太陽能電池片的轉(zhuǎn)換效率;絲網(wǎng)印刷工序就是制作太陽能電池的電極,這樣當(dāng)光照射時(shí)就可以把電流導(dǎo)出。絲網(wǎng)印刷是現(xiàn)在晶硅電池制備中應(yīng)用最廣泛的一種工藝,工藝順序?yàn)橄冗M(jìn)行背面電極印刷和烘干,然后進(jìn)行鋁背場(chǎng)的印刷和烘干,最后進(jìn)行正面電極的印刷、烘干,再進(jìn)行燒結(jié),讓制備電極使用的銀漿和電池形成接觸。
從現(xiàn)在太陽電池發(fā)展環(huán)境上來說,隨著太陽電池的發(fā)展,設(shè)備折舊和效率提升是越來越多的生產(chǎn)企業(yè)必須關(guān)注的重點(diǎn)問題,在不改變現(xiàn)有設(shè)備或者經(jīng)過設(shè)備改造的方法提高現(xiàn)有產(chǎn)線的效率、提高產(chǎn)能是企業(yè)生存發(fā)展的動(dòng)力;設(shè)備的整合和再利用也是減少固定資產(chǎn)浪費(fèi)、提高企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)的一種方法。PERC太陽能電池由于跟常規(guī)電池生產(chǎn)線切合度高、投入相對(duì)較少,效率增益高,目前行業(yè)亟待在不改動(dòng)原有設(shè)備情況下,更改工藝配方,提高光電轉(zhuǎn)換效率。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是解決上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種提高光伏電池轉(zhuǎn)換效率的正面氮氧化硅太陽電池的制作工藝。
本發(fā)明解決上述現(xiàn)有技術(shù)的不足所采用的技術(shù)方案是:一種正面氮氧化硅太陽電池的制作工藝,包括以下步驟:
步驟(1)晶硅表面制絨:將多個(gè)硅片的雙面在堿液下進(jìn)行表面絨面化,并在酸性條件下進(jìn)行化學(xué)清洗,除去表面雜質(zhì);
步驟(2)擴(kuò)散:正面P擴(kuò)散,使該硅片的正面形成n+摻雜層;
步驟(3)去PSG和單晶拋光:刻蝕工序清洗先去除該硅片表面殘留的磷硅玻璃,之后進(jìn)行單晶背面拋光;
步驟(4)正面沉積減反射膜:正面單面依次沉積氮氧化硅和氮化硅疊層膜;
步驟(5)背面沉淀鈍化膜;
步驟(6)背面激光刻劃接觸區(qū):背面局部打開薄膜,進(jìn)行背面激光圖形設(shè)計(jì);
步驟(7)印刷燒結(jié)。
進(jìn)一步的,所述硅片為P型單晶硅片。
進(jìn)一步的,將該硅片分為兩片為一組,每組該硅片采用豎直背靠背的方式進(jìn)行擴(kuò)散工藝。
相較于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明的正面氮氧化硅太陽電池的制作工藝,對(duì)傳統(tǒng)工藝進(jìn)行升級(jí),實(shí)現(xiàn)在正面均勻沉積的氮氧化硅薄膜層,有利于降低反射率提高轉(zhuǎn)換效率,提高太陽光的利用率,增加太陽電池的閉路電流,達(dá)到提高效率的目的。
具體實(shí)施方式
以下描述用于揭露本發(fā)明以使本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)本發(fā)明。以下描述中的優(yōu)選實(shí)施例只作為舉例,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以想到其他顯而易見的變型。在以下描述中界定的本發(fā)明的基本原理可以應(yīng)用于其他實(shí)施方案、變形方案、改進(jìn)方案、等同方案以及沒有背離本發(fā)明的精神和范圍的其他技術(shù)方案。
本實(shí)施例的正面增加氮氧化硅太陽電池的制作方法,包括以下步驟:
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





