[發明專利]正面氮氧化硅太陽電池的制作工藝在審
| 申請號: | 201910610896.8 | 申請日: | 2019-07-08 |
| 公開(公告)號: | CN110444610A | 公開(公告)日: | 2019-11-12 |
| 發明(設計)人: | 程明;王東;朱彥斌 | 申請(專利權)人: | 江蘇潤陽悅達光伏科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0216 | 分類號: | H01L31/0216;H01L31/18 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 224000 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氮氧化硅 制作工藝 背面 晶硅太陽能電池 氮氧化硅薄膜 閉路電流 減反射膜 晶硅表面 均勻沉積 燒結步驟 正面沉積 轉換效率 鈍化膜 反射率 接觸區 太陽光 拋光 單晶 刻劃 制絨 沉淀 激光 擴散 印刷 制造 | ||
1.一種正面氮氧化硅太陽電池的制作工藝,用于太陽能電池的擴散工藝,其特征在于,該方法包括以下步驟:
步驟(1)晶硅表面制絨:將多個硅片的雙面在堿液下進行表面絨面化,并在酸性條件下進行化學清洗,除去表面雜質;
步驟(2)擴散:正面P擴散,使該硅片的正面形成n+摻雜層;
步驟(3)去PSG和單晶拋光:刻蝕工序清洗先去除該硅片表面殘留的磷硅玻璃,之后進行單晶背面拋光;
步驟(4)正面沉積減反射膜:正面單面依次沉積氮氧化硅和氮化硅疊層膜;
步驟(5)背面沉淀鈍化膜;
步驟(6)背面激光刻劃接觸區:背面局部打開薄膜,進行背面激光圖形設計;
步驟(7)印刷燒結。
2.根據權利要求1所述的正面氮氧化硅太陽電池的制作工藝,其特征在于,所述硅片為P型單晶硅片。
3.根據權利要求2所述的正面氮氧化硅太陽電池的制作工藝,其特征在于,步驟(2)中將該硅片分為兩片為一組,每組該硅片采用豎直背靠背的方式進行擴散工藝。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





