[發(fā)明專(zhuān)利]納米雙晶結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910609449.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-07-08 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111463185B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-03-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 何政恩;黃保欽;楊政憲;李承宇 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 元智大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L23/498 | 分類(lèi)號(hào): | H01L23/498;H01L23/373;H05K1/09;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 羅英;臧建明 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣桃*** | 國(guó)省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 納米 雙晶 結(jié)構(gòu) | ||
本發(fā)明提供一種納米雙晶結(jié)構(gòu),沉積于基板的表面上。所述納米雙晶結(jié)構(gòu)包括至少一區(qū)塊,且所述區(qū)塊含有多個(gè)納米雙晶。每一納米雙晶具有面心立方晶體結(jié)構(gòu)。所述多個(gè)納米雙晶沿[111]晶軸方向進(jìn)行堆疊。所述納米雙晶結(jié)構(gòu)的少于50%的表面以(111)面作為擇優(yōu)取向。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種納米雙晶結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
一般來(lái)說(shuō),金屬材料的機(jī)械強(qiáng)度會(huì)隨著其晶粒尺寸的縮小而提高。特別是,當(dāng)晶粒尺寸縮小至納米(nanometer)等級(jí)時(shí),金屬材料可具有高硬度(hardness)及低楊氏系數(shù)(Young’s modulus)等材料特性。納米雙晶銅(nanotwinned Cu)是目前已發(fā)展出來(lái)的納米等級(jí)雙晶結(jié)構(gòu)材料,其具有抗電遷移(electromigration)、抗熱疲勞(thermal fatigue)、高機(jī)械強(qiáng)度(例如:拉伸強(qiáng)度及硬度)、良好的導(dǎo)電性(conductivity)、高耐腐蝕性((corrosion behavior)、良好的散熱性(heat dissipation)、及良好的熱穩(wěn)定性(thermalstability)等。因此,納米雙晶銅正被積極評(píng)估可用來(lái)取代一般電鍍銅于鍍通孔(platingthrough hole,PTH)、通孔/盲孔填充(through-/blind-hole filling)、硅晶穿孔(throughsilicon via,TSV)填充或?qū)Ь€(interconnect)結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域的應(yīng)用。
然而,以電鍍(electroplating)制造納米雙晶銅往往需靠脈沖電鍍(pulseelectroplating)方式鍍制,此種制造技術(shù)成本高昂,且較電鍍效率較差。此外,脈沖方式也僅能制造出細(xì)小而無(wú)規(guī)則性的納米雙晶結(jié)構(gòu)。在現(xiàn)有技術(shù)中,通過(guò)直流(direct current,DC)電鍍方式則需搭配陰極待鍍物或電鍍液的旋轉(zhuǎn)及底材特殊晶種層(seed layer)的限制,并且主要僅能鍍制出排列整齊的具有(111)面的納米雙晶結(jié)構(gòu)。基于以上限制,納米雙晶銅較難全面實(shí)于現(xiàn)行工業(yè)中。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種納米雙晶結(jié)構(gòu),其少于50%的表面以(111)面作為擇優(yōu)取向。
本發(fā)明的納米雙晶結(jié)構(gòu)沉積于基板的表面上,其包括至少一區(qū)塊(domain),其中所述區(qū)塊含有多個(gè)納米雙晶,且每一納米雙晶具有面心立方(faced-centered cubic,F(xiàn)CC)晶體結(jié)構(gòu),所述多個(gè)納米雙晶沿[111]晶軸方向進(jìn)行堆疊,且所述納米雙晶結(jié)構(gòu)的少于50%的表面以(111)面作為擇優(yōu)取向。
在本發(fā)明的納米雙晶結(jié)構(gòu)的一實(shí)施例中,所述納米雙晶結(jié)構(gòu)包括多個(gè)所述區(qū)塊,且相鄰的所述區(qū)塊的[111]晶軸例如實(shí)質(zhì)上互相平行。
在本發(fā)明的納米雙晶金屬結(jié)構(gòu)的一實(shí)施例中,所述納米雙晶金屬結(jié)構(gòu)包括多個(gè)所述區(qū)塊,且相鄰的所述區(qū)塊的[111]晶軸例如不互相平行。
在本發(fā)明的納米雙晶結(jié)構(gòu)的一實(shí)施例中,所述納米雙晶結(jié)構(gòu)的材料例如為金、鈀、銀、鉑、銅、鐵、銦、鎳、鉛或上述元素的組合。
在本發(fā)明的納米雙晶結(jié)構(gòu)的一實(shí)施例中,所述納米雙晶結(jié)構(gòu)的材料還包括鋅、鎢、鈷、磷、鈦、鉍、錫或上述元素的組合。
在本發(fā)明的納米雙晶結(jié)構(gòu)的一實(shí)施例中,所述區(qū)塊的形狀例如為多角形、柱狀、橢圓形或其組合。
在本發(fā)明的納米雙晶結(jié)構(gòu)的一實(shí)施例中,所述納米雙晶結(jié)構(gòu)例如設(shè)置于基板上。
在本發(fā)明的納米雙晶結(jié)構(gòu)的一實(shí)施例中,所述基板例如為導(dǎo)電基板。
在本發(fā)明的納米雙晶結(jié)構(gòu)的一實(shí)施例中,所述導(dǎo)電基板例如為金屬基板或石墨基板。
在本發(fā)明的納米雙晶結(jié)構(gòu)的一實(shí)施例中,所述基板例如為絕緣基板,且所述納米雙晶結(jié)構(gòu)與所述絕緣基板之間設(shè)置有導(dǎo)電層。
在本發(fā)明的納米雙晶結(jié)構(gòu)的一實(shí)施例中,所述絕緣基板例如為印刷電路板、硅基板、化合物半導(dǎo)體基板、玻璃基板、石英基板、塑膠基板或上述的組合。
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