[發(fā)明專利]納米雙晶結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910609449.0 | 申請日: | 2019-07-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111463185B | 公開(公告)日: | 2022-03-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 何政恩;黃保欽;楊政憲;李承宇 | 申請(專利權(quán))人: | 元智大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L23/498 | 分類號(hào): | H01L23/498;H01L23/373;H05K1/09;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 羅英;臧建明 |
| 地址: | 中國臺(tái)灣桃*** | 國省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 納米 雙晶 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種納米雙晶結(jié)構(gòu),沉積于基板的表面上,其特征在于,所述納米雙晶結(jié)構(gòu)包括至少一區(qū)塊,且所述區(qū)塊含有多個(gè)納米雙晶,其中每一納米雙晶具有面心立方晶體結(jié)構(gòu),所述多個(gè)納米雙晶沿[111]晶軸方向進(jìn)行堆疊,且所述納米雙晶結(jié)構(gòu)的少于50%的表面以(111)面作為擇優(yōu)取向。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米雙晶結(jié)構(gòu),其中所述納米雙晶結(jié)構(gòu)包括多個(gè)所述區(qū)塊,且相鄰的所述區(qū)塊的[111]晶軸實(shí)質(zhì)上互相平行。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米雙晶結(jié)構(gòu),其中所述納米雙晶結(jié)構(gòu)包括多個(gè)所述區(qū)塊,且相鄰的所述區(qū)塊的[111]晶軸不互相平行。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米雙晶結(jié)構(gòu),其中所述納米雙晶的材料包括金、鈀、銀、鉑、銅、鐵、銦、鎳、鉛或上述元素的組合。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的納米雙晶結(jié)構(gòu),其中所述納米雙晶的材料還包括鋅、鎢、鈷、磷、鈦、鉍、錫或上述元素的組合。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米雙晶結(jié)構(gòu),其中所述區(qū)塊的形狀包括多角形、柱狀、橢圓形或其組合。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米雙晶結(jié)構(gòu),其中所述基板包括導(dǎo)電基板。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的納米雙晶結(jié)構(gòu),其中所述導(dǎo)電基板包括金屬基板或石墨基板。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米雙晶結(jié)構(gòu),其中所述基板包括絕緣基板,且所述納米雙晶結(jié)構(gòu)與所述絕緣基板之間設(shè)置有導(dǎo)電層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的納米雙晶結(jié)構(gòu),其中所述絕緣基板包括印刷電路板、硅基板、化合物半導(dǎo)體基板、玻璃基板、石英基板、塑膠基板或上述的組合。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的納米雙晶結(jié)構(gòu),其中所述導(dǎo)電層的材料包括碳、金、鈀、銀、鉑、銅、鐵、鈷、鎳、磷、鈦、鎢、錫、鉛、鉍、銦、鋅、上述元素的組合或銦錫氧化物。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的納米雙晶結(jié)構(gòu),還包括過渡層,設(shè)置于所述納米雙晶結(jié)構(gòu)與所述導(dǎo)電層之間,其中所述過渡層包含雜晶粒或所述納米雙晶與雜晶粒的組合。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的納米雙晶結(jié)構(gòu),其中所述過渡層的厚度不超過500微米。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米雙晶結(jié)構(gòu),其中所述納米雙晶結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述基板的開孔中,且所述納米雙晶結(jié)構(gòu)與所述開孔的孔壁之間設(shè)置有導(dǎo)電層。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的納米雙晶結(jié)構(gòu),其中所述導(dǎo)電層的材料包括碳、金、鈀、銀、鉑、銅、鐵、鈷、鎳、磷、鈦、鎢、錫、鉛、鉍、銦、鋅、上述元素的組合或銦錫氧化物。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的納米雙晶結(jié)構(gòu),其中所述開孔包括通孔或盲孔。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的納米雙晶結(jié)構(gòu),還包括過渡層,設(shè)置于所述納米雙晶結(jié)構(gòu)與所述導(dǎo)電層之間,其中所述過渡層包含雜晶粒或所述納米雙晶與雜晶粒的組合。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的納米雙晶結(jié)構(gòu),其中所述過渡層的厚度不超過500微米。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于元智大學(xué),未經(jīng)元智大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910609449.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 卡片結(jié)構(gòu)、插座結(jié)構(gòu)及其組合結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)平臺(tái)結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 單元結(jié)構(gòu)、結(jié)構(gòu)部件和夾層結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)扶梯結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)隔墻結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)連接結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)





