[發明專利]用于真空鍍膜的公自轉式鍍膜設備

在審

• 申請號: 201910601857.1
• 申請日: 2019-07-05
• 公開（公告）號: CN110172677A
• 公開（公告）日: 2019-08-27
• 發明（設計）人: 王越民;王燾駿
• 申請（專利權）人: 佛山王氏航空光學科技有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C16/458
• 代理公司: 北京世譽鑫誠專利代理事務所(普通合伙) 11368
• 代理人: 郭官厚

用于真空鍍膜的公自轉式鍍膜設備，爐體內設有鍍膜爐腔，鍍膜爐腔的內部設置有公轉盤轉動機構和自轉齒輪機構，內壁一側連接有靶材，本發明的公轉盤轉動機構通過采用行星齒輪機構驅動掛架托盤實現AR固定架組件公轉，而自轉齒輪機構通過曲柄搖桿機構使齒條與自轉齒輪相嚙合，實現自轉下軸旋轉帶動掛具180度翻身進行反面鍍膜，并通過自轉定位器使掛具達到準確翻身的目的；由于曲柄搖桿機構由旋轉缸控制，能夠使其選擇性均勻地鍍膜，實現在同一爐批次內自動翻面，避免開門翻身再抽真空升溫需要消耗的時間和電能，有效節省時間和電能，并提高了雙面鍍膜效率，有效保障了雙面鍍膜的均勻性和一致性。

技術領域

本發明涉及鍍膜設備領域，更具體地說，尤其涉及一種用于真空鍍膜的公自轉式鍍膜設備。

背景技術

傳統的鍍膜機轉架都是簡單的公轉，只要啟動轉架的傳動裝置，轉架在鍍膜機內部就會不停的旋轉，無法進行自轉反面鍍膜。

當產品需要兩面鍍膜的時候，鍍好一面后需要停機開門，翻身重新關門抽真空升溫再開鍍，而開門翻身再抽真空升溫要消耗時間和電能，為了節省時間和電能，通過改進，使其能夠不開門自動翻身，從而節省了開門抽真空和升溫的時間和電能。

而現有公、自轉的轉架，在鍍膜過程中公轉和自轉都在不停的轉動，不能有選擇性均勻地鍍膜，而只有公轉的轉架，又不能實現在同一爐批次內自動翻面，若要同時鍍兩面，須在轉架的內側增加鍍膜源，設備購買成本增加，且難以保證兩面的一致性。

發明內容

本發明針對上述缺點對現有技術進行改進，提供一種用于真空鍍膜的公自轉式鍍膜設備，技術方案如下：

用于真空鍍膜的公自轉式鍍膜設備，包括有爐體，該爐體內設有鍍膜爐腔，所述鍍膜爐腔的內部設置有公轉盤轉動機構和自轉齒輪機構，內壁一側連接有靶材，該公轉盤轉動機構連接于爐體的內側底部，其包括有固定連接爐體的底盤，所述底盤的上方均勻排列連接有第一支撐柱若干組，并通過第一支撐柱連接有不動大齒盤，該不動大齒盤的外周均勻圍繞嚙合有小齒輪若干組，并形成行星齒輪機構，所述小齒輪的底部中心均通過延伸穿設于公轉盤，頂端中心均延伸穿設于掛架托盤，該公轉盤的底部固定連接有傳動齒輪，所述傳動齒輪的下方可轉動連接底盤，上方通過均勻排列的第二支撐柱連接掛架托盤，該掛架托盤的頂端面圍繞通過公轉支撐桿連接有公轉上盤，所述公轉上盤與掛架托盤之間可拆卸連接有AR固定架組件若干組，該AR固定架組件依次圍繞設置于掛架托盤的邊沿；

所述自轉齒輪機構設置于爐體的內側底部與底盤之間，其包括有旋轉缸，該旋轉缸固定嵌設于爐體的外側底部，其旋轉軸穿過爐體并設置于鍍膜爐腔的內部，所述旋轉缸的旋轉軸連接有曲柄搖桿機構，該曲柄搖桿機構的另一端連接有導向滑塊，所述導向滑塊的下方連接有導向軌，該導向軌固定連接于爐體的內側底部，所述導向滑塊的上方固定連接有齒條，該齒條與自轉齒輪相嚙合，所述自轉齒輪套設于AR固定架組件的底端，且該AR固定架組件于自轉齒輪的上方均固定穿設有自轉定位器。

所述爐體的內側頂端對應公轉上盤的中心延伸設置有上支撐座，并通過其活動連接公轉上盤。

進一步，所述上支撐座的下方連接有離子源除塵裝置，該離子源除塵裝置的外周可轉動連接有擋板軌道，并通過擋板軌道承托離子源除塵裝置，所述擋板軌道的上端邊沿固定連接爐體的內側頂端。

進一步，所述離子源除塵裝置包括有等離子除塵基座，該等離子除塵基座的外周通過擋板軌道使其限位設置于上支撐座的下方，所述等離子除塵基座的下方外周圍繞連接公轉上盤，底端連接有離子源發散桿若干組，該離子源發散桿的另一端連接底盤。

進一步，所述等離子除塵基座的底端連接離子源發散桿有四組，其呈十字形狀均勻分布設置。

所述AR固定架組件包括有掛架及連接于掛架兩端的自轉下軸和定位上軸，該掛架的上方通過定位上軸活動穿設于公轉上盤，該掛架的下方通過自轉下軸從上到下依次穿設有自轉定位器和與齒條相嚙合的自轉齒輪，使掛架進行限位自轉，所述掛架與靶材相對應設置。