[發(fā)明專利]用于真空鍍膜的公自轉(zhuǎn)式鍍膜設(shè)備

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• 申請日: 2019-07-05
• 公開（公告）號: CN110172677A
• 公開（公告）日: 2019-08-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王越民;王燾駿
• 申請（專利權(quán)）人: 佛山王氏航空光學(xué)科技有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C16/458
• 代理公司: 北京世譽鑫誠專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11368
• 代理人: 郭官厚

1.用于真空鍍膜的公自轉(zhuǎn)式鍍膜設(shè)備，包括有爐體(1)，該爐體(1)內(nèi)設(shè)有鍍膜爐腔(18)，其特征在于：所述鍍膜爐腔(18)的內(nèi)部設(shè)置有公轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動機構(gòu)(21)和自轉(zhuǎn)齒輪機構(gòu)(22)，內(nèi)壁一側(cè)連接有靶材(20)，該公轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動機構(gòu)(21)連接于爐體(1)的內(nèi)側(cè)底部，其包括有固定連接爐體(1)的底盤(23)，所述底盤(23)的上方均勻排列連接有第一支撐柱(24)若干組，并通過第一支撐柱(24)連接有不動大齒盤(25)，該不動大齒盤(25)的外周均勻圍繞嚙合有小齒輪(26)若干組，并形成行星齒輪機構(gòu)，所述小齒輪(26)的底部中心均通過延伸穿設(shè)于公轉(zhuǎn)盤(27)，頂端中心均延伸穿設(shè)于掛架托盤(28)，該公轉(zhuǎn)盤(27)的底部固定連接有傳動齒輪(29)，所述傳動齒輪(29)的下方可轉(zhuǎn)動連接底盤(23)，上方通過均勻排列的第二支撐柱(30)連接掛架托盤(28)，該掛架托盤(28)的頂端面圍繞通過公轉(zhuǎn)支撐桿(8)連接有公轉(zhuǎn)上盤(5)，所述公轉(zhuǎn)上盤(5)與掛架托盤(28)之間可拆卸連接有AR固定架組件(19)若干組，該AR固定架組件(19)依次圍繞設(shè)置于掛架托盤(28)的邊沿；

所述自轉(zhuǎn)齒輪機構(gòu)(22)設(shè)置于爐體(1)的內(nèi)側(cè)底部與底盤(23)之間，其包括有旋轉(zhuǎn)缸(16)，該旋轉(zhuǎn)缸(16)固定嵌設(shè)于爐體(1)的外側(cè)底部，其旋轉(zhuǎn)軸穿過爐體(1)并設(shè)置于鍍膜爐腔(18)的內(nèi)部，所述旋轉(zhuǎn)缸(16)的旋轉(zhuǎn)軸連接有曲柄搖桿機構(gòu)(17)，該曲柄搖桿機構(gòu)(17)的另一端連接有導(dǎo)向滑塊(14)，所述導(dǎo)向滑塊(14)的下方連接有導(dǎo)向軌(13)，該導(dǎo)向軌(13)固定連接于爐體(1)的內(nèi)側(cè)底部，所述導(dǎo)向滑塊(14)的上方固定連接有齒條(12)，該齒條(12)與自轉(zhuǎn)齒輪(11)相嚙合，所述自轉(zhuǎn)齒輪(11)套設(shè)于AR固定架組件(19)的底端，且該AR固定架組件(19)于自轉(zhuǎn)齒輪(11)的上方均固定穿設(shè)有自轉(zhuǎn)定位器(10)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于真空鍍膜的公自轉(zhuǎn)式鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述爐體(1)的內(nèi)側(cè)頂端對應(yīng)公轉(zhuǎn)上盤(5)的中心延伸設(shè)置有上支撐座(2)，并通過其活動連接公轉(zhuǎn)上盤(5)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于真空鍍膜的公自轉(zhuǎn)式鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述上支撐座(2)的下方連接有離子源除塵裝置(31)，該離子源除塵裝置(31)的外周可轉(zhuǎn)動連接有擋板軌道(3)，并通過擋板軌道(3)承托離子源除塵裝置(31)，所述擋板軌道(3)的上端邊沿固定連接爐體(1)的內(nèi)側(cè)頂端。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于真空鍍膜的公自轉(zhuǎn)式鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述離子源除塵裝置(31)包括有等離子除塵基座(4)，該等離子除塵基座(4)的外周通過擋板軌道(3)使其限位設(shè)置于上支撐座(2)的下方，所述等離子除塵基座(4)的下方外周圍繞連接公轉(zhuǎn)上盤(5)，底端連接有離子源發(fā)散桿(7)若干組，該離子源發(fā)散桿(7)的另一端連接底盤(23)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于真空鍍膜的公自轉(zhuǎn)式鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述等離子除塵基座(4)的底端連接離子源發(fā)散桿(7)有四組，其呈十字形狀均勻分布設(shè)置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于真空鍍膜的公自轉(zhuǎn)式鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述AR固定架組件(19)包括有掛架(32)及連接于掛架(32)兩端的自轉(zhuǎn)下軸(9)和定位上軸(6)，該掛架(32)的上方通過定位上軸(6)活動穿設(shè)于公轉(zhuǎn)上盤(5)，該掛架(32)的下方通過自轉(zhuǎn)下軸(9)從上到下依次穿設(shè)有自轉(zhuǎn)定位器(10)和與齒條(12)相嚙合的自轉(zhuǎn)齒輪(11)，使掛架(32)進行限位自轉(zhuǎn)，所述掛架(32)與靶材(20)相對應(yīng)設(shè)置。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于真空鍍膜的公自轉(zhuǎn)式鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述傳動齒輪(29)的下方通過呈圓環(huán)狀結(jié)構(gòu)的導(dǎo)軌(33)活動連接底盤(23)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于真空鍍膜的公自轉(zhuǎn)式鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述第二支撐柱(30)固定連接傳動齒輪(29)，并通過該第二支撐柱(30)使掛架托盤(28)隨傳動齒輪(29)旋轉(zhuǎn)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于真空鍍膜的公自轉(zhuǎn)式鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述公轉(zhuǎn)支撐桿(8)圍繞掛架托盤(28)的頂端面設(shè)置有四組，其呈十字形狀均勻分布設(shè)置，該公轉(zhuǎn)支撐桿(8)均連接公轉(zhuǎn)上盤(5)，并使公轉(zhuǎn)上盤(5)隨掛架托盤(28)旋轉(zhuǎn)。