[發(fā)明專利]傾斜運(yùn)輸托盤的鍍膜設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910600414.0
• 申請(qǐng)日: 2019-07-04
• 公開（公告）號(hào): CN110257793A
• 公開（公告）日: 2019-09-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 盧賢政;陳厚模;陳麒麟
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市捷佳偉創(chuàng)新能源裝備股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/56
• 分類號(hào): C23C14/56
• 代理公司: 深圳市康弘知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44247
• 代理人: 吳敏

本發(fā)明公開了傾斜運(yùn)輸托盤的鍍膜設(shè)備，包括：用于放置基板的托盤和運(yùn)送托盤的傳輸軌道，傳輸軌道具有傾斜運(yùn)輸段，傾斜運(yùn)輸段設(shè)置有至少一個(gè)鍍膜裝置；傾斜運(yùn)輸段運(yùn)送托盤時(shí)，托盤與水平面存在夾角θt，鍍膜裝置的給托盤中的基板投射鍍膜。本發(fā)明能簡易實(shí)現(xiàn)基板的雙面鍍膜，鍍膜效率高且基板的生產(chǎn)品質(zhì)好。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及基板鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及傾斜運(yùn)輸托盤的鍍膜設(shè)備。

背景技術(shù)

RPD鍍膜設(shè)備用于對(duì)基板的表面鍍透明導(dǎo)電氧化膜，此處的基板是指硅片、玻璃或各種材料迭層的板材等，基板具有上表面和下表面，雙面鍍膜設(shè)備可以簡化產(chǎn)線、提高產(chǎn)能。現(xiàn)有技術(shù)中主要依靠兩種RPD設(shè)備實(shí)現(xiàn)雙面鍍膜，第一種是比較常見的水平式RPD鍍膜設(shè)備，如圖1所示，其蒸鍍?cè)唇嵌却怪庇谠O(shè)備X軸，鍍膜腔的端面與水平面的夾角θp為0度，因鍍膜腔靶材供應(yīng)系統(tǒng)設(shè)計(jì)限制，無法將RPD設(shè)備懸吊起來，使鍍膜腔的端面與水平面的夾角θp呈270度，即由上而下鍍膜，而且由上而下鍍膜時(shí)，會(huì)使較多粉塵掉落在基板上，造成基板的良率下降，故前述現(xiàn)行水平式RPD鍍膜機(jī)構(gòu)，需要翻片設(shè)備才可完成雙面鍍膜，此翻片設(shè)備是RPD鍍膜設(shè)備的產(chǎn)能瓶頸；第二種是直立式RPD鍍膜設(shè)備，其必須搭配復(fù)雜的基板固定機(jī)構(gòu)，基板才可被放置在垂直的托盤上，而且基板固定機(jī)構(gòu)上用來固定基板的安裝件會(huì)造成基板遮避區(qū)域增加，導(dǎo)致基板上存在未鍍膜區(qū)域,，生產(chǎn)出的基板品質(zhì)較低。

因此，如何設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)簡單、效率高的鍍膜設(shè)備是業(yè)界亟待解決的技術(shù)問題。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在結(jié)構(gòu)復(fù)雜、鍍膜效率低的缺陷，本發(fā)明提出了傾斜運(yùn)輸托盤的鍍膜設(shè)備。

本發(fā)明采用的技術(shù)方案是，設(shè)計(jì)傾斜運(yùn)輸托盤的鍍膜設(shè)備，包括：用于放置基板的托盤和運(yùn)送托盤的傳輸軌道，傳輸軌道具有傾斜運(yùn)輸段，傾斜運(yùn)輸段設(shè)置有至少一個(gè)鍍膜裝置；傾斜運(yùn)輸段運(yùn)送托盤時(shí)，托盤與水平面存在夾角θt，鍍膜裝置給托盤中的基板投射鍍膜。

優(yōu)選的，傳輸軌道包括：第一傳輸段和位置高于第一傳輸段的第二傳輸段。傾斜運(yùn)輸段連接在第一傳輸段和第二傳輸段之間，第一傳輸段和第二傳輸段沿水平方向運(yùn)送托盤，傾斜運(yùn)輸段沿與水平面呈夾角θt的方向運(yùn)送托盤。

優(yōu)選的，傾斜運(yùn)輸段的上側(cè)設(shè)置有鍍膜裝置，傾斜運(yùn)輸段上側(cè)的鍍膜裝置的開口朝向基板的上工作面；第二傳輸段的下方設(shè)置有給托盤中的基板投射鍍膜的鍍膜裝置，第二傳輸段下方的鍍膜裝置的開口朝向基板的下工作面。

優(yōu)選的，傾斜運(yùn)輸段的上下兩側(cè)均設(shè)置有鍍膜裝置；傾斜運(yùn)輸段上側(cè)的鍍膜裝置開口朝向基板的上工作面，傾斜運(yùn)輸段下側(cè)的鍍膜裝置開口朝向基板的下工作面。

優(yōu)選的，傾斜運(yùn)輸段上下兩側(cè)的兩個(gè)鍍膜裝置高度相同且開口朝向相對(duì)。

優(yōu)選的，傾斜運(yùn)輸段包括：下軌線和設(shè)于下軌線斜上方的上軌線，傾斜運(yùn)輸段沿水平方向運(yùn)送托盤，托盤放置在傾斜運(yùn)輸段時(shí)，托盤為與水平面呈夾角θt的傾斜狀態(tài)。

優(yōu)選的，傾斜運(yùn)輸段的左右兩側(cè)均設(shè)置有鍍膜裝置；傾斜運(yùn)輸段一側(cè)的鍍膜裝置開口朝向基板的上工作面，傾斜運(yùn)輸段另一側(cè)的鍍膜裝置開口朝向基板的下工作面。

優(yōu)選的，傾斜運(yùn)輸段左右兩側(cè)的兩個(gè)鍍膜裝置開口朝向相對(duì)。

優(yōu)選的，鍍膜裝置的開口沿水平方向投射鍍膜或與水平面呈夾角傾斜投射鍍膜。

優(yōu)選的，θt的范圍為1°至80°。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明通過傾斜運(yùn)送托盤，并在傳輸軌道的傾斜運(yùn)輸段配置鍍膜裝置，以實(shí)現(xiàn)對(duì)基板正面的有效鍍膜，基板傾斜放置時(shí)在重力作用下會(huì)穩(wěn)定定位在托盤中，無需復(fù)雜的基板固定結(jié)構(gòu)，正面鍍膜時(shí)膜面可以擴(kuò)張至整片基板，基板上的鍍膜面積最大化，提高基板品質(zhì)及生產(chǎn)效率。

附圖說明

下面結(jié)合實(shí)施例和附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明，其中：