[發明專利]控制裝置、曝光裝置、以及制造物品的方法有效
| 申請號: | 201910596648.2 | 申請日: | 2019-07-04 |
| 公開(公告)號: | CN110687756B | 公開(公告)日: | 2022-08-23 |
| 發明(設計)人: | 栗原孝史 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司: | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人: | 張勁松 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 控制 裝置 曝光 以及 制造 物品 方法 | ||
1.一種用于執行同步控制的控制裝置,所述同步控制用于同步第二移動部件的驅動以跟隨第一移動部件的驅動,所述控制裝置包括:
反饋控制系統,所述反饋控制系統被配置為對所述第一移動部件和第二移動部件中的每一個執行反饋控制,以減小與目標位置的位置偏差;以及
前饋控制系統,所述前饋控制系統被配置為在所述反饋控制正在被執行的狀態下,通過向所述第二移動部件提供前饋操縱變量來執行前饋控制,以減小所述第一移動部件與第二移動部件之間的同步誤差,
其中,所述前饋控制系統包括計算器,所述計算器被配置為:
在所述第二移動部件正在保持靜止并且向所述第二移動部件提供前饋操縱變量的狀態下,獲得所述第二移動部件的輸入/輸出響應;
獲得彼此同步地驅動所述第一移動部件和第二移動部件時所述第一移動部件和第二移動部件的位置偏差;
基于所述第一移動部件與第二移動部件之間的同步誤差以及所述第二移動部件的輸入/輸出響應計算所述前饋操縱變量,所述第一移動部件與第二移動部件之間的同步誤差是從所述第一移動部件和第二移動部件的位置偏差獲得的;
在對所述第一移動部件正在執行反饋控制并且對所述第一移動部件不執行前饋控制的狀態下,通過在驅動所述第一移動部件的同時測量所述第一移動部件的位置偏差來獲得第一數據;
在通過向所述第一移動部件提供基于獲得的第一數據和所述第一移動部件的輸入/輸出響應而計算的操縱變量正在執行前饋控制并且對所述第一移動部件和第二移動部件中的每一個正在執行反饋控制的狀態下,通過在彼此同步地驅動所述第一移動部件和第二移動部件的同時測量所述第一移動部件和第二移動部件的位置偏差來獲得第二數據;以及
從獲得的第二數據計算所述第一移動部件與第二移動部件之間的同步誤差。
2.根據權利要求1所述的裝置,其中,所述前饋控制系統包括被配置為存儲由所述計算器計算的所述前饋操縱變量的存儲單元,并且在執行同步控制時向所述第二移動部件提供存儲在所述存儲單元中的所述前饋操縱變量。
3.根據權利要求2所述的裝置,其中,所述前饋控制系統包括被配置為驅動所述第二移動部件的驅動單元以及所述驅動單元的驅動器,并且所述前饋控制系統向所述驅動器的輸入提供存儲在所述存儲單元中的所述前饋操縱變量。
4.根據權利要求1所述的裝置,其中,在執行同步控制時,所述前饋控制系統向所述第一移動部件提供所述操縱變量,并且執行前饋控制以減小所述第一移動部件的位置偏差。
5.根據權利要求1所述的裝置,其中,所述第二移動部件的輸入/輸出響應包括脈沖響應和階梯響應中的一個。
6.根據權利要求1所述的裝置,其中,
所述第二移動部件包括被配置為保持基板的基板臺架,并且
所述第一移動部件包括被配置為保持掩模版的掩模版臺架,所述掩模版具有要被轉印到所述基板的圖案。
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