[發明專利]掩膜板組件及其制備方法

有效

• 申請號: 201910596332.3
• 申請日: 2019-07-03
• 公開（公告）號: CN110129724B
• 公開（公告）日: 2021-09-10
• 發明（設計）人: 張微;曹鵬
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 劉悅晗;陳源

1.一種掩膜板組件，其特征在于，包括框架，所述框架上設置有多個掩膜條，每個所述掩膜條上具有對應于待蒸鍍產品的蒸鍍區域的第一蒸鍍開口；

相鄰兩個所述掩膜條之間具有間隔區域，所述間隔區域中設置有填充結構，所述填充結構上設置有對應于待蒸鍍產品的蒸鍍區域的第二蒸鍍開口。

2.根據權利要求1所述的掩膜板組件，其特征在于，所述填充結構的厚度與所述掩膜條的厚度相同。

3.根據權利要求1所述的掩膜板組件，其特征在于，所述填充結構的材料為金屬材料。

4.根據權利要求3所述的掩膜板組件，其特征在于，所述填充結構的材料為鎳鐵合金材料。

5.根據權利要求1-4中任一所述的掩膜板組件，其特征在于，所述掩膜條包括圖案區域和位于所述圖案區域的周邊的非圖案區域，所述掩膜條上的所述第一蒸鍍開口位于所述圖案區域，所述掩膜條的靠近所述間隔區域的非圖案區域設置有對應于待蒸鍍產品的蒸鍍區域的第三蒸鍍開口。

6.根據權利要求1-4中任一所述的掩膜板組件，其特征在于，所述掩膜條為精細金屬掩膜條。

7.一種掩膜板組件的制備方法，其特征在于，所述掩膜板組件包括權利要求1-6中任一所述的掩膜板組件，所述制備方法包括：

形成框架；

形成多個掩膜條，每個所述掩膜條上具有對應于待蒸鍍產品的蒸鍍區域的第一蒸鍍開口；

將多個掩膜條設置于所述框架上，相鄰兩個所述掩膜條之間具有間隔區域；

在相鄰兩個所述掩膜條之間的間隔區域中形成填充結構，所述填充結構上設置有對應于待蒸鍍產品的蒸鍍區域的第二蒸鍍開口。

8.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述在相鄰兩個所述掩膜條之間的間隔區域形成填充結構，包括：

在所述掩膜條的背離所述框架的一側形成基板；

在所述基板的背離所述掩膜條的一側，形成與所述間隔區域對應的磁性結構；

在所述基板的靠近所述掩膜條的一側，在所述間隔區域中形成填充結構材料層；

對所述填充結構材料層進行構圖工藝，形成具有對應于待蒸鍍產品的蒸鍍區域的第二蒸鍍開口的填充結構。

9.根據權利要求8所述的制備方法，其特征在于，所述在所述基板的靠近所述掩膜條的一側，在所述間隔區域中形成填充結構材料層，包括：

在所述基板的靠近所述掩膜條的一側，通過電鍍方法在所述間隔區域中形成填充結構材料層。

10.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述掩膜條包括圖案區域和位于所述圖案區域的周邊的非圖案區域，所述掩膜條上的所述第一蒸鍍開口位于所述圖案區域，所述制備方法還包括：

在所述掩膜條的靠近所述間隔區域的非圖案區域形成對應于待蒸鍍產品的蒸鍍區域的第三蒸鍍開口。