[發明專利]基板處理裝置

在審

• 申請號: 201910591029.4
• 申請日: 2019-07-02
• 公開（公告）號: CN110681508A
• 公開（公告）日: 2020-01-14
• 發明（設計）人: 樸庸碩;樸鎬胤
• 申請（專利權）人: 顯示器生產服務株式會社
• 主分類號: B05B9/03
• 分類號: B05B9/03;B05B13/02;B05B15/68
• 代理公司: 11400 北京商專永信知識產權代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 方挺;黃謙

本發明涉及一種基板處理裝置，其能夠以低壓均勻地排出處理液而使霧的產生最小化。該裝置包括：濕室，設置成與干室的一側連接，內部設置有用于處理基板的處理空間；傳送單元，包括配置在處理空間的多個傳送軸和一對支撐框架，多個傳送軸沿傳送基板的方向可旋轉地配置，一對支撐框架用于支撐多個軸的兩側端；以及噴嘴單元，包括配置在處理空間靠近干室的區域的噴嘴主體，噴嘴主體通過第一板和第二板的結合而構成，在第一板和第二板結合部的前端設置有排出口，以將從外部供給的處理液排出到基板。其中，噴嘴主體的排出口配置在與傳送基板的方向相反的方向上，通過排出口排出的處理液以低壓排出，并沿基板移動的方向流過基板的表面。

技術領域

本發明涉及基板處理裝置，更具體地涉及一種能夠以低壓排出處理液，最小化霧的產生的同時，能夠將處理液均勻地涂布到基板上的基板處理裝置。

背景技術

近年來，信息處理裝置正以具有多樣化的功能和更快的信息處理速度的方式迅速發展。這種信息處理裝置具有用于顯示運轉信息的顯示面板(display panel)。近年來，作為這樣的顯示面板之一，諸如重量輕且占據空間小的液晶顯示器(LCD)之類的平板顯示面板的使用正在急劇增大。

這種平板顯示面板通過重復執行以下工序來制造：在基板的表面上蒸鍍各種薄膜的蒸鍍工序、從蒸鍍的薄膜去除不需要的部分的蝕刻工序、以及對基板進行洗滌和干燥的洗滌工序等。

在這些制造工序中，還存在執行干燥工序之后執行洗滌工序的情況。

此時，為了防止由在洗滌工序中使用的處理液產生的霧進入到干燥工序區域，在干燥工序和洗滌工序之間設置氣幕，以低壓使用了在洗滌工序中使用的噴射噴嘴的壓力。

然而，存在的問題是，由于在洗滌工序中使用的噴射噴嘴的壓力是在低壓狀態下使用，處理液無法均勻地噴射到基板整體，因而基板的洗滌效率下降。

為了解決這樣的問題而將噴射噴嘴的壓力設為高壓時，以高壓噴射的處理液使得霧的產生變得更加嚴重，所產生的霧流入到干燥工序，附著在基板上，成為基板處理的不良因素。

因此，需要開發一種噴嘴單元，其能夠以低壓對基板噴射處理液并進行均勻的噴射。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：韓國公開專利公報第10-2019-0059692號(2009.06.11公開公告，發明名稱：基板洗滌裝置)。

發明內容

本發明要解決的問題是提供一種基板處理裝置，其具有能夠以低壓均勻地排出用于處理基板的處理液的噴嘴單元，因而可以防止因處理液而產生的霧，并且均勻地處理基板。

用于解決問題的手段

為了解決上述的問題，本發明提供了一種基板處理裝置，其特征在于，包括：濕室，設置成與干室的一側連接，并在內部設置有用于處理基板的處理空間；傳送單元，包括配置在所述處理空間的多個傳送軸和一對支撐框架，所述多個傳送軸沿傳送所述基板的方向可旋轉地配置，所述一對支撐框架用于支撐所述多個軸的兩側端；噴嘴單元，包括噴嘴主體，所述噴嘴主體配置在所述處理空間，并配置在與所述干室接近的區域內，通過第一板和第二板的結合而構成，在所述第一板和所述第二板結合的前端設置有排出口，以將從外部供給的處理液排出到所述基板；以及調節單元，分別設置在所述噴嘴主體的兩側，并支撐在所述支撐框架的兩側，調節所述基板的上表面和所述排出口之間的間隔，或者，調節所述排出口相對于所述基板的上表面的排出角，其中，所述噴嘴主體的排出口配置在與傳送所述基板的方向相反的方向上，通過所述排出口排出的處理液以低壓排出，并沿所述基板移動的方向流過所述基板的表面。

所述噴嘴單元可以還包括：多個處理液室，形成在所述噴嘴主體的內部，并以沿所述噴嘴主體的長度方向隔開一定間隔的狀態配置；以及多個供給端口，分別連接到所述多個處理液室，以將處理液供給到所述多個處理液室。