[發(fā)明專利]基板處理裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910591029.4
• 申請(qǐng)日: 2019-07-02
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110681508A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-01-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 樸庸碩;樸鎬胤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 顯示器生產(chǎn)服務(wù)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): B05B9/03
• 分類號(hào): B05B9/03;B05B13/02;B05B15/68
• 代理公司: 11400 北京商專永信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 方挺;黃謙

1.一種基板處理裝置，其特征在于，包括：

濕室，設(shè)置成與干室的一側(cè)連接，并在內(nèi)部設(shè)置有用于處理基板的處理空間；

傳送單元，包括配置在所述處理空間的多個(gè)傳送軸和一對(duì)支撐框架，所述多個(gè)傳送軸沿傳送所述基板的方向可旋轉(zhuǎn)地配置，所述一對(duì)支撐框架用于支撐所述多個(gè)軸的兩側(cè)端；

噴嘴單元，包括噴嘴主體，所述噴嘴主體配置在所述處理空間，并配置在與所述干室接近的區(qū)域內(nèi)，通過(guò)第一板和第二板的結(jié)合而構(gòu)成，在所述第一板和所述第二板結(jié)合的前端設(shè)置有排出口，以將從外部供給的處理液排出到所述基板；以及

調(diào)節(jié)單元，分別設(shè)置在所述噴嘴主體的兩側(cè)，并支撐在所述支撐框架的兩側(cè)，調(diào)節(jié)所述基板的上表面和所述排出口之間的間隔，或者調(diào)節(jié)所述排出口相對(duì)于所述基板的上表面的排出角，

其中，所述噴嘴主體的排出口配置在與傳送所述基板的方向相反的方向上，通過(guò)所述排出口排出的處理液以低壓排出，并沿所述基板移動(dòng)的方向流過(guò)所述基板的表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，所述噴嘴單元還包括：

多個(gè)處理液室，形成在所述噴嘴主體的內(nèi)部，并以沿所述噴嘴主體的長(zhǎng)度方向隔開(kāi)一定間隔的狀態(tài)配置；以及

多個(gè)供給端口，分別連接到所述多個(gè)處理液室，以將處理液供給到所述多個(gè)處理液室。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，所述調(diào)節(jié)單元包括：

調(diào)節(jié)單元主體；

固定框架，與所述調(diào)節(jié)單元主體的下端部結(jié)合，以將所述調(diào)節(jié)單元主體固定在所述一對(duì)支撐框架上；

結(jié)合塊，與所述調(diào)節(jié)單元主體的一側(cè)結(jié)合，同時(shí)結(jié)合到所述噴嘴主體的一側(cè)；

間隔調(diào)節(jié)部，設(shè)置在所述調(diào)節(jié)單元主體上，調(diào)節(jié)所述基板的上表面和所述排出口之間的間隔；以及

排出角調(diào)節(jié)部，設(shè)置在所述調(diào)節(jié)單元主體上，調(diào)節(jié)所述基板的上表面和所述排出口之間的排出角。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于，所述調(diào)節(jié)單元主體包括：

第一主體，在一側(cè)面結(jié)合有所述結(jié)合塊的一側(cè)；

第二主體，結(jié)合有所述第一主體的另一側(cè)面；以及

連接塊，用于連接所述第一主體的上部和所述第二主體的上部。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，所述間隔調(diào)節(jié)部包括：

間隔調(diào)節(jié)螺絲，用于與貫通形成在所述連接塊上的第一螺絲孔螺紋結(jié)合，同時(shí)與所述第二主體的上表面接觸，使得所述第二主體在所述第一主體上上下移動(dòng)；

間隔調(diào)節(jié)螺母，配置在所述連接塊的上側(cè)，與所述間隔調(diào)節(jié)螺絲螺紋結(jié)合；

刻度部件，配置在所述第二主體上，設(shè)置有用于掌握所述第一主體移動(dòng)的位置的刻度；以及

顯示部件，配置在所述第一主體的一側(cè)，與所述第一主體一起移動(dòng)，將所述第一主體移動(dòng)的位置顯示在所述刻度部件的刻度上。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于，所述間隔調(diào)節(jié)部還包括：

引導(dǎo)槽部，形成在所述第二主體的一側(cè)面上，并沿所述第二主體的長(zhǎng)度方向凹陷形成；以及

引導(dǎo)突起，突出形成在與所述第二主體對(duì)應(yīng)的所述第一主體的一側(cè)面上，并可移動(dòng)地結(jié)合到所述引導(dǎo)槽部，

以引導(dǎo)所述第一主體相對(duì)于所述第二主體的移動(dòng)。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，所述排出角調(diào)節(jié)部包括：

旋轉(zhuǎn)突起，一側(cè)可旋轉(zhuǎn)地結(jié)合到形成在所述結(jié)合塊上的第一結(jié)合孔，另一側(cè)可旋轉(zhuǎn)地結(jié)合到形成在所述第一主體上的第二結(jié)合孔，當(dāng)所述結(jié)合塊旋轉(zhuǎn)時(shí)旋轉(zhuǎn)；和

位置固定螺絲，一側(cè)露出到所述第二主體的外部，另一側(cè)在通過(guò)形成在所述第二主體上的長(zhǎng)孔的狀態(tài)下，通過(guò)形成在所述第一主體上的第一貫通孔，選擇性地螺紋結(jié)合到形成在所述結(jié)合塊上的位置固定螺絲孔，以固定所述結(jié)合塊相對(duì)于所述第一主體旋轉(zhuǎn)的位置。