[發(fā)明專(zhuān)利]旋流污水凈化設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910588986.1
• 申請(qǐng)日: 2019-07-02
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110217913A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-09-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 耿明山;向繼濤
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中冶京誠(chéng)工程技術(shù)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C02F9/04
• 分類(lèi)號(hào): C02F9/04;C02F103/16
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 韓嫚嫚;湯在彥

本發(fā)明提供了一種旋流污水凈化設(shè)備，包括：旋流沉淀室，旋流沉淀室內(nèi)設(shè)有螺旋形的導(dǎo)流板，導(dǎo)流板的外輪廓沿從上至下的方向由外向內(nèi)收縮，導(dǎo)流板的中心設(shè)有上下貫通的導(dǎo)流通道；旋流沉淀室的側(cè)壁設(shè)有朝向?qū)Я靼宓男魅肟冢恍鞒恋硎业捻敱谠O(shè)有旋流出口，導(dǎo)流通道的上端與旋流出口連通，以使待處理污水經(jīng)所述導(dǎo)流板導(dǎo)流至所述導(dǎo)流通道后經(jīng)所述旋流出口流出。通過(guò)本發(fā)明，緩解了現(xiàn)有技術(shù)中的濁環(huán)水處理設(shè)備所存在的去除固體顆粒雜質(zhì)的效果較差的技術(shù)問(wèn)題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及污水處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種旋流污水凈化設(shè)備。

背景技術(shù)

在鋼鐵行業(yè)中，傳統(tǒng)的連鑄和熱軋生產(chǎn)線(xiàn)的濁環(huán)水系統(tǒng)，普遍采用如下處理流程，來(lái)自生產(chǎn)線(xiàn)的沖渣污水靠重力流進(jìn)入一次沉淀池或旋流池，出水經(jīng)一級(jí)加壓泵站，送至化學(xué)除污器或稀土磁盤(pán)或二次沉淀池，出水再經(jīng)二級(jí)加壓泵站，經(jīng)過(guò)濾器或直接送至冷卻塔降溫，再經(jīng)三級(jí)加壓泵站，送至連鑄或熱軋生產(chǎn)線(xiàn)，用以清洗產(chǎn)品表面或產(chǎn)品降溫，產(chǎn)生的沖渣污水不斷如此循環(huán)。不斷如此循環(huán)的沖渣污水又稱(chēng)為濁環(huán)水。在循環(huán)過(guò)程中，濁環(huán)水中的固體顆粒雜質(zhì)被去除，以使回流至連鑄或熱軋生產(chǎn)線(xiàn)的濁環(huán)水的水質(zhì)保持穩(wěn)定。

一般采用混凝、沉淀和澄清等污水凈化工藝，來(lái)去除濁環(huán)水中的固體顆粒雜質(zhì)。但是，現(xiàn)有技術(shù)中的濁環(huán)水處理設(shè)備存在去除固體顆粒雜質(zhì)的效果較差的技術(shù)問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種旋流污水凈化設(shè)備，以緩解現(xiàn)有技術(shù)中的濁環(huán)水處理設(shè)備所存在的去除固體顆粒雜質(zhì)的效果較差的技術(shù)問(wèn)題。

本發(fā)明的上述目的可采用下列技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)：

本發(fā)明提供一種旋流污水凈化設(shè)備，包括：旋流沉淀室，所述旋流沉淀室內(nèi)設(shè)有螺旋形的導(dǎo)流板，所述導(dǎo)流板的外輪廓沿從上至下的方向由外向內(nèi)收縮，所述導(dǎo)流板的中心設(shè)有上下貫通的導(dǎo)流通道；所述旋流沉淀室的側(cè)壁設(shè)有朝向所述導(dǎo)流板的旋流入口；所述旋流沉淀室的頂壁設(shè)有旋流出口，所述導(dǎo)流通道的上端與所述旋流出口連通，以使待處理污水經(jīng)所述導(dǎo)流板導(dǎo)流至所述導(dǎo)流通道后經(jīng)所述旋流出口流出。

在優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述導(dǎo)流板環(huán)繞所述旋流沉淀室的豎直方向的中心軸線(xiàn)。

在優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述導(dǎo)流板為外徑從上端至下端逐漸減小的錐形螺旋葉片。

在優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述導(dǎo)流板沿豎直方向延伸且在水平面內(nèi)沿螺旋線(xiàn)盤(pán)繞；并且，所述導(dǎo)流板沿豎直方向向下延伸的深度，從外向內(nèi)逐漸增大。

在優(yōu)選的實(shí)施方式中，包括設(shè)于所述導(dǎo)流板上方的導(dǎo)流頂板，所述導(dǎo)流板沿豎直方向向上延伸至所述導(dǎo)流頂板。

在優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述導(dǎo)流板的板面上設(shè)置有多個(gè)波紋槽，多個(gè)所述波紋槽沿豎直方向間隔分布。

在優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述污水凈化設(shè)備包括設(shè)置于所述旋流入口的水流噴射器，所述水流噴射器用于將待凈化的污水向所述導(dǎo)流板噴射。

在優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述污水凈化設(shè)備包括絮凝反應(yīng)室，所述絮凝反應(yīng)室設(shè)于所述導(dǎo)流通道，所述絮凝反應(yīng)室的頂部開(kāi)口與所述旋流出口連通，底部開(kāi)口朝向所述旋流沉淀室的底壁。

在優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述旋流污水凈化設(shè)備包括設(shè)于所述旋流沉淀室上方的水力循環(huán)澄清室；所述水力循環(huán)澄清室的底壁設(shè)有與所述旋流出口連通的澄清室入口，所述水力循環(huán)澄清室的側(cè)壁設(shè)有澄清室出口；所述水力循環(huán)澄清室中設(shè)有沿豎直方向延伸且上下開(kāi)口的環(huán)形套筒，所述環(huán)形套筒的下端與所述水力循環(huán)澄清室的底壁之間設(shè)有回流間隙，并且所述環(huán)形套筒的下端的開(kāi)口朝向且覆蓋所述澄清室入口。

在優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述環(huán)形套筒的上端連接有擴(kuò)張管，所述擴(kuò)張管的內(nèi)徑沿從下向上的方向逐漸增大。