[發(fā)明專利]旋流污水凈化設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910588986.1 | 申請(qǐng)日: | 2019-07-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110217913A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-09-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 耿明山;向繼濤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中冶京誠(chéng)工程技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C02F9/04 | 分類號(hào): | C02F9/04;C02F103/16 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 韓嫚嫚;湯在彥 |
| 地址: | 100176 北京市*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 旋流沉淀 導(dǎo)流板 導(dǎo)流通道 旋流出口 污水凈化設(shè)備 旋流 固體顆粒雜質(zhì) 待處理污水 處理設(shè)備 從上至下 上下貫通 由外向內(nèi) 上端 流入口 螺旋形 外輪廓 濁環(huán)水 側(cè)壁 導(dǎo)流 頂壁 流板 去除 連通 收縮 流出 室內(nèi) 緩解 | ||
1.一種旋流污水凈化設(shè)備,其特征在于,包括:旋流沉淀室,所述旋流沉淀室內(nèi)設(shè)有螺旋形的導(dǎo)流板,所述導(dǎo)流板的外輪廓沿從上至下的方向由外向內(nèi)收縮,所述導(dǎo)流板的中心設(shè)有上下貫通的導(dǎo)流通道;
所述旋流沉淀室的側(cè)壁設(shè)有朝向所述導(dǎo)流板的旋流入口;所述旋流沉淀室的頂壁設(shè)有旋流出口,所述導(dǎo)流通道的上端與所述旋流出口連通,以使待處理污水經(jīng)所述導(dǎo)流板導(dǎo)流至所述導(dǎo)流通道后經(jīng)所述旋流出口流出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋流污水凈化設(shè)備,其特征在于,所述導(dǎo)流板環(huán)繞所述旋流沉淀室的豎直方向的中心軸線。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋流污水凈化設(shè)備,其特征在于,所述導(dǎo)流板為外徑從上端至下端逐漸減小的錐形螺旋葉片。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋流污水凈化設(shè)備,其特征在于,所述導(dǎo)流板沿豎直方向延伸且在水平面內(nèi)沿螺旋線盤繞;并且,所述導(dǎo)流板沿豎直方向向下延伸的深度,從外向內(nèi)逐漸增大。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的旋流污水凈化設(shè)備,其特征在于,包括設(shè)于所述導(dǎo)流板上方的導(dǎo)流頂板,所述導(dǎo)流板沿豎直方向向上延伸至所述導(dǎo)流頂板。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的旋流污水凈化設(shè)備,其特征在于,所述導(dǎo)流板的板面上設(shè)置有多個(gè)波紋槽,多個(gè)所述波紋槽沿豎直方向間隔分布。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋流污水凈化設(shè)備,其特征在于,所述旋流污水凈化設(shè)備包括設(shè)置于所述旋流入口的水流噴射器,所述水流噴射器用于將待凈化的污水向所述導(dǎo)流板噴射。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋流污水凈化設(shè)備,其特征在于,所述旋流污水凈化設(shè)備包括絮凝反應(yīng)室,所述絮凝反應(yīng)室設(shè)于所述導(dǎo)流通道,所述絮凝反應(yīng)室的頂部開(kāi)口與所述旋流出口連通,底部開(kāi)口朝向所述旋流沉淀室的底壁。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的旋流污水凈化設(shè)備,其特征在于,所述旋流污水凈化設(shè)備包括設(shè)于所述旋流沉淀室上方的水力循環(huán)澄清室;所述水力循環(huán)澄清室的底壁設(shè)有與所述旋流出口連通的澄清室入口,所述水力循環(huán)澄清室的側(cè)壁設(shè)有澄清室出口;
所述水力循環(huán)澄清室中設(shè)有沿豎直方向延伸且上下開(kāi)口的環(huán)形套筒,所述環(huán)形套筒的下端與所述水力循環(huán)澄清室的底壁之間設(shè)有回流間隙,并且所述環(huán)形套筒的下端的開(kāi)口朝向且覆蓋所述澄清室入口。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的旋流污水凈化設(shè)備,其特征在于,所述環(huán)形套筒的上端連接有擴(kuò)張管,所述擴(kuò)張管的內(nèi)徑沿從下向上的方向逐漸增大。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的旋流污水凈化設(shè)備,其特征在于,所述水力循環(huán)澄清室中設(shè)有與所述澄清室入口連通的水射器,所述水射器的上端開(kāi)口朝上開(kāi)設(shè),所述環(huán)形套筒包圍所述水射器的上端部,并且,所述環(huán)形套筒的內(nèi)壁與所述水射器的外壁之間設(shè)有回流通道,以使所述水力循環(huán)澄清室中的待處理污水可通過(guò)所述回流通道回流至所述環(huán)形套筒中,與所述水射器噴射出的待處理污水混合。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的旋流污水凈化設(shè)備,其特征在于,所述環(huán)形套筒的下端的開(kāi)口的內(nèi)徑沿從上向下的方向逐漸增大。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的旋流污水凈化設(shè)備,其特征在于,所述旋流污水凈化設(shè)備包括用于驅(qū)動(dòng)所述環(huán)形套筒上下移動(dòng)的環(huán)形套筒升降機(jī)構(gòu)。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的旋流污水凈化設(shè)備,其特征在于,包括:設(shè)置于所述水力循環(huán)澄清室內(nèi)的環(huán)形轉(zhuǎn)向板,所述環(huán)形轉(zhuǎn)向板的外輪廓連接于所述水力循環(huán)澄清室的內(nèi)壁;所述澄清室出口設(shè)于所述環(huán)形轉(zhuǎn)向板與所述水力循環(huán)澄清室的底壁之間。
15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的旋流污水凈化設(shè)備,其特征在于,所述旋流污水凈化設(shè)備包括濃縮沉淀室,所述濃縮沉淀室包圍所述水力循環(huán)澄清室,所述澄清室出口與所述濃縮沉淀室連通。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中冶京誠(chéng)工程技術(shù)有限公司,未經(jīng)中冶京誠(chéng)工程技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910588986.1/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:含硅廢水的凈化方法
- 下一篇:污水凈化設(shè)備





