[發明專利]顯示面板的金屬圖案制作方法

有效

• 申請號: 201910585008.1
• 申請日: 2019-07-01
• 公開（公告）號: CN110230059B
• 公開（公告）日: 2020-11-24
• 發明（設計）人: 梅園;吳豪旭
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: C23F1/02
• 分類號: C23F1/02;C23F1/18;C23F1/26;C23F1/46
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

一種顯示面板的金屬圖案制作方法被提供,包括:在一銅/鉬金屬層的蝕刻過程中,當所述金屬層的金屬離子在蝕刻液中到達一對應含量時,在所述蝕刻液中額外連續或間歇地添加蝕刻功能劑或蝕刻維持劑,直至所述蝕刻功能劑或蝕刻維持劑占所述蝕刻液和所加入蝕刻功能劑或蝕刻維持劑總量的2?5wt％時為止。

【技術領域】

本發明涉及顯示面板制作技術領域，具體涉及金屬圖案制作的技術領域。

【背景技術】

隨著薄膜電晶管液晶顯示器(TFT-LCD)的大型化,在顯示器面板的金屬圖案制作的蝕刻過程中,所使用的蝕刻液用量也越來越大，因此有必要減少蝕刻液的消耗以節省制造成本。

銅/鉬基板在高銅/鉬離子濃度的蝕刻液中繼續蝕刻的過程中,容易出現關鍵尺寸損失(critical dimension loss,CD loss)、蝕刻角(taperangle)、底切(undercut)以及鉬殘留等不符合蝕刻制程規格的缺陷，因此有必要開發在繼續蝕刻過程中在原蝕刻液基礎上維持蝕刻特性的蝕刻液工藝,以節省蝕刻液的用量。

【發明內容】

為解決上述問題，本發明提出一種顯示面板的金屬圖案制作方法,包括:

在一基板金屬層的蝕刻過程中,當所述金屬層的金屬離子在蝕刻液中到達一對應含量時,在所述蝕刻液中額外連續或間歇地添加蝕刻功能劑或蝕刻維持劑,直至所述蝕刻功能劑或蝕刻維持劑占原蝕刻液和所加入蝕刻功能劑或蝕刻維持劑總量的2-5wt％時為止。

所述「蝕刻功能劑」系指在蝕刻液中具有使蝕刻效果達到規格要求的有益物質組合物。

所述「蝕刻維持劑」系指與蝕刻液共同使用，能使蝕刻液維持其蝕刻特性的溶液。

所述「對應含量」系指當溶于蝕刻液中的金屬離子的含量達到使該蝕刻液的蝕刻能力開始受到影響,造成所蝕刻的產品無法符合規格要求,該「對應含量」依實際的蝕刻基材而定,可由實驗獲得。

較佳地,所述金屬為銅鉬合金；所述金屬離子為銅離子或鉬離子；所述對應含量為5500-7500ppm之間。

較佳地,所述蝕刻液包含：5-20wt％的過氧化氫,0.1-2wt％的過氧化氫穩定劑,5-20wt％的有機酸,5-10wt％的螯合劑,0.001-0.2wt％的蝕刻抑制劑,3-15wt％的錐度調節劑，以及余量的去離子水。

較佳地,所述過氧化氫穩定劑選自于N-苯基脲、N,N'-二苯基脲、1,3-二乙基-1,3-二苯基脲、4-甲基硫代氨基脲、二苯氨基脲中的至少一種。

較佳地,所述有機酸選自琥珀酸、苯甲酸、蘋果酸、乙醇酸、胱氨酸、天門冬氨酸、丙二酸、乳酸、乙酸、鄰苯二甲酸、水楊酸丙氨酸、天冬酰胺、精氨酸中的至少一種。

較佳地,所述螯合劑選自檸檬酸、酒石酸、葡萄糖酸、氨基三亞甲基膦酸、1-羥基亞乙基-1,1-二磷酸、肌氨酸、丙氨酸中的至少一種。

較佳地,所述蝕刻抑制劑選自氨基四唑、嘧啶、1,3-噻唑、苯駢三氮唑、1,2,4-1H-三唑、3-氨基-1H-1,2,4-三唑、咪唑、1,2,4-三氮唑中的至少一種。

較佳地,所述錐度調節劑選自異丙醇胺、N-乙基乙醇胺、二甘醇胺、二乙醇胺、三異丙醇胺、一乙醇胺中的至少一種。

較佳地,所述蝕刻功能劑為選自有機酸、螯合劑、錐度調節劑中的至少兩種構成的組合物。

較佳地,所述蝕刻維持劑由所述蝕刻功能劑與過氧化氫及水組成。

【附圖說明】

圖1為本發明實施例在銅離子含量為3500ppm的條件下，于蝕刻后，用掃描電子顯微鏡觀察基板截面的照片；