[發(fā)明專利]一種全透明倒置量子點(diǎn)發(fā)光器件、其制備方法及顯示裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910584879.1 | 申請日: | 2019-07-01 |
| 公開(公告)號: | CN110165067A | 公開(公告)日: | 2019-08-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫小衛(wèi);王愷;丁時(shí)浩;王為高;徐冰 | 申請(專利權(quán))人: | 南方科技大學(xué) |
| 主分類號: | H01L51/50 | 分類號: | H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 鞏克棟 |
| 地址: | 518000 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 量子點(diǎn)發(fā)光器件 全透明 倒置 顯示裝置 保護(hù)層 發(fā)光層 量子點(diǎn) 制備 陰極 保護(hù)層材料 電子傳輸層 空穴傳輸層 依次層疊 陽極 襯底 蒸鍍 原子層沉積 驅(qū)動電路 陣列排布 制備過程 前體 正置 損傷 | ||
本發(fā)明提供了一種全透明倒置量子點(diǎn)發(fā)光器件、其制備方法及顯示裝置。所述全透明倒置量子點(diǎn)發(fā)光器件包括依次層疊設(shè)置的襯底、陰極、電子傳輸層、量子點(diǎn)發(fā)光層、空穴傳輸層、保護(hù)層和陽極;或者包括依次層疊設(shè)置的襯底、陰極、電子傳輸層、量子點(diǎn)發(fā)光層、保護(hù)層、空穴傳輸層和陽極。所述保護(hù)層是通過直接蒸鍍或原子層沉積保護(hù)層材料,或者先蒸鍍保護(hù)層材料的前體,然后氧化的方法制備得到。所述顯示裝置包括陣列排布的至少兩個(gè)上述全透明倒置量子點(diǎn)發(fā)光器件。本發(fā)明提供的全透明倒置量子點(diǎn)發(fā)光器件能夠減輕制備過程中量子點(diǎn)發(fā)光層的損傷,與全透明正置量子點(diǎn)發(fā)光器件相比,可以使驅(qū)動電路的設(shè)計(jì)更加簡單高效。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于發(fā)光器件技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種全透明倒置量子點(diǎn)發(fā)光器件、其制備方法及顯示裝置。
背景技術(shù)
量子點(diǎn)發(fā)光二極管(QLED)是一種以量子點(diǎn)作為發(fā)光層材料的電致發(fā)光器件。與有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)相比,QLED具有理論發(fā)光效率更高、顏色可調(diào)、色域更廣、色彩飽和度和鮮艷度更好、能耗成本更低等優(yōu)點(diǎn),可能成為下一代新型顯示技術(shù)的候選者。
QLED有正置和倒置兩種結(jié)構(gòu)。正置QLED器件通常包括依次層疊設(shè)置的襯底、陽極、空穴傳輸層、量子點(diǎn)發(fā)光層、電子傳輸層和陰極。CN 108269928 A公開了一種正置底發(fā)射QLED器件及其制備方法,CN 103904178A公開了一種量子點(diǎn)發(fā)光器件,CN 108155296A公開了一種量子點(diǎn)發(fā)光器件及顯示裝置,這些QLED器件均為正置底發(fā)射結(jié)構(gòu),光從襯底一側(cè)出射,如果采用較為復(fù)雜的有源驅(qū)動矩陣,勢必會降低開口率,要達(dá)到與頂發(fā)射相等的顯示亮度,則需要增加工作電壓,這將大幅縮短器件壽命。
倒置QLED器件通常包括依次層疊設(shè)置的襯底、陰極、電子傳輸層、量子點(diǎn)發(fā)光層、空穴傳輸層和陽極。CN 108269933A公開了一種反置底發(fā)射QLED器件及其制備方法,CN108232023A公開了一種倒置結(jié)構(gòu)量子點(diǎn)發(fā)光二極管及其制備方法,這些倒置QLED器件與正置QLED器件相比,具有更高的占空比,可實(shí)現(xiàn)近100﹪的開口率,從而可充分利用像素空間設(shè)計(jì)多管驅(qū)動電路。相比于LTPS(低溫多晶硅)工藝成本高、且只能小面積應(yīng)用的缺點(diǎn),倒置QLED器件可以和成熟的n溝道a-Si基TFT驅(qū)動電路集成,低成本制備大面積顯示面板。
但是,全透明倒置QLED器件的陽極通常為銦錫氧化物,一部分空穴傳輸層為無機(jī)材料,均需要采用磁控濺射的方法制備,濺射過程中會產(chǎn)生高能粒子,導(dǎo)致下層量子點(diǎn)發(fā)光層受損,器件發(fā)光效率和亮度下降,壽命縮短,有待于解決。
發(fā)明內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,本發(fā)明的目的在于提供一種全透明倒置量子點(diǎn)發(fā)光器件、其制備方法及顯示裝置。本發(fā)明提供的全透明倒置量子點(diǎn)發(fā)光器件能夠減輕制備過程中量子點(diǎn)發(fā)光層的損傷,與全透明正置量子點(diǎn)發(fā)光器件相比,可以使驅(qū)動電路的設(shè)計(jì)更加簡單高效。
為達(dá)此目的,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
第一方面,本發(fā)明提供一種全透明倒置量子點(diǎn)發(fā)光器件,包括依次層疊設(shè)置的襯底、陰極、電子傳輸層、量子點(diǎn)發(fā)光層、空穴傳輸層、保護(hù)層和陽極;
或者包括依次層疊設(shè)置的襯底、陰極、電子傳輸層、量子點(diǎn)發(fā)光層、保護(hù)層、空穴傳輸層和陽極。
本發(fā)明在量子點(diǎn)發(fā)光層和陽極之間增加保護(hù)層,可以起到阻擋器件制備過程中產(chǎn)生的高能粒子的作用,從而減輕甚至避免其下層的量子點(diǎn)層或空穴傳輸層受到的損傷。得到的全透明倒置量子點(diǎn)發(fā)光器件可以更加方便地采用N型薄膜晶體管驅(qū)動,優(yōu)化像素點(diǎn)性能。
作為本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案,所述全透明倒置量子點(diǎn)發(fā)光器件還包括空穴注入層,所述空穴注入層設(shè)置在所述空穴傳輸層和所述保護(hù)層之間,或設(shè)置在所述空穴傳輸層和所述陽極之間。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
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H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
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