[發(fā)明專利]玻璃面板及其制備方法、包含該玻璃面板的顯示屏和終端

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910583822.X
• 申請日: 2019-06-28
• 公開（公告）號: CN110372222B
• 公開（公告）日: 2022-07-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 龐歡;黃義宏
• 申請（專利權(quán)）人: 華為技術(shù)有限公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00;C03C17/30;C03C17/42;G09F9/00
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強

本發(fā)明實施例提供一種玻璃面板，包括玻璃面板本體和設(shè)置在所述玻璃面板本體一側(cè)表面的AF防指紋膜，所述玻璃面板本體靠近所述AF防指紋膜的一側(cè)表面具有腐蝕坑，所述玻璃面板設(shè)置有所述AF防指紋膜一側(cè)的表面粗糙度Ra為8nm?50nm，Rz為20nm?100nm。該玻璃面板通過在玻璃面板本體表面形成腐蝕坑，提高了玻璃面板本體表面粗糙度，同時提高了AF鍍膜后的玻璃面板表面粗糙度，從而大幅度抑制了撕膜操作中靜電的產(chǎn)生。本發(fā)明實施例還提供了該玻璃面板的制備方法，及包含該玻璃面板的顯示屏和終端。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明實施例涉及觸摸屏技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及玻璃面板及其制備方法、以及包含該玻璃面板的顯示屏和終端。

背景技術(shù)

手機等電子產(chǎn)品觸摸屏在組裝與運輸過程中，為避免觸摸屏表面玻璃面板被劃傷，需采用保護膜對玻璃面板表面進(jìn)行保護。而為了提高玻璃面板抗臟污與爽滑性能，通常在玻璃面板表面形成有一層抗指紋(Anti-Fingerprint，AF)膜層，AF膜層材料包括全氟聚醚硅氧烷，主要含碳、氧、氟、硅元素，其中氟原子吸電子能力強，且AF材料阻抗＞10¹³Ω，其絕緣性導(dǎo)致電荷轉(zhuǎn)移率低。因此當(dāng)AF膜層上設(shè)置有保護膜，在將保護膜從觸摸屏表面撕除時，容易產(chǎn)生較高靜電壓，且靜電荷短時間內(nèi)難以耗散。在智能手機等電子產(chǎn)品組裝產(chǎn)線的來料檢驗、點膠壓合等工序中都存在撕膜操作。撕膜產(chǎn)生的靜電荷可能會從玻璃表面向下傳導(dǎo)到觸摸屏BTB(Button to Button，板對板)管腳端，組裝過程中BTB管腳觸碰金屬中框或其他金屬材料時會形成放電回路，產(chǎn)生電流瀉放可能損傷IC芯片，導(dǎo)致觸摸屏黑屏、花屏、靜電橫紋等顯示不良問題。因此，為避免觸摸屏組裝生產(chǎn)時撕膜產(chǎn)生的靜電導(dǎo)致的顯示不良，急需開發(fā)一種降低觸摸屏玻璃面板撕膜靜電的方法。

發(fā)明內(nèi)容

鑒于此，本發(fā)明實施例提供一種玻璃面板，其玻璃面板本體表面經(jīng)活化處理形成有腐蝕坑，從而提高了AF鍍膜后玻璃面板表面粗糙度，降低了玻璃面板在撕膜過程中產(chǎn)生的靜電，以在一定程度上解決現(xiàn)有手機等電子產(chǎn)品組裝過程中，因撕膜產(chǎn)生的靜電導(dǎo)致的黑屏、花屏、靜電橫紋等顯示不良問題。

具體地，本發(fā)明實施例第一方面提供一種玻璃面板，包括玻璃面板本體和設(shè)置在所述玻璃面板本體一側(cè)表面的AF防指紋膜，所述玻璃面板本體靠近所述AF防指紋膜的一側(cè)表面具有腐蝕坑，所述玻璃面板設(shè)置有所述AF防指紋膜一側(cè)的表面粗糙度Ra為8nm-50nm，Rz為20nm-100nm。

本發(fā)明實施方式中，所述玻璃面板設(shè)置有所述AF防指紋膜一側(cè)的表面粗糙度Ra為10nm-30nm，Rz為20nm-60nm。

本發(fā)明實施方式中，所述玻璃面板本體具有腐蝕坑的一側(cè)表面的粗糙度Ra為5nm-100nm，Rz為10nm-500nm。

本發(fā)明實施方式中，所述玻璃面板本體具有腐蝕坑的一側(cè)表面的羥基親水基團的摩爾含量為0.001％-0.1％。所述羥基[OH]含量的計算方法為[OH]＝{[10^-2·(1/d)·lg(T₃₈₄₅/T₃₅₀₀)·M_OH]/ερ}×100％，其中d為玻璃面板本體厚度，T₃₈₄₅和T₃₅₀₀分別為玻璃面板本體3845cm^-1與3500cm^-1處的紅外透過率，M_OH為羥基的摩爾質(zhì)量，ρ為玻璃面板本體密度，ε為玻璃面板本體在3500cm^-1處的消光系數(shù)。

本發(fā)明實施方式中，所述玻璃面板本體具有腐蝕坑的一側(cè)表面的電阻率為1.0×10⁹Ω-9.9×10¹²Ω。

本發(fā)明實施方式中，所述玻璃面板本體和所述AF防指紋膜之間設(shè)置有二氧化硅層。

本發(fā)明實施方式中，所述二氧化硅層的厚度在0.1nm-500nm的范圍內(nèi)。