[發明專利]一種具有多指漏極的光電探測器件及其制作方法在審
| 申請號: | 201910577217.1 | 申請日: | 2019-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN110289273A | 公開(公告)日: | 2019-09-27 |
| 發明(設計)人: | 金湘亮;曹勝果 | 申請(專利權)人: | 湖南師范大學 |
| 主分類號: | H01L27/144 | 分類號: | H01L27/144;H01L31/0352;H01L31/18 |
| 代理公司: | 湘潭市匯智專利事務所(普通合伙) 43108 | 代理人: | 陳偉 |
| 地址: | 410012 *** | 國省代碼: | 湖南;43 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 高壓深N阱 漏極 襯底 光電探測器件 二極管結構 藍紫光 嵌有 源極 波長選擇性 電極引出端 光電二極管 短路結構 感光結構 環形柵極 近紅外光 同心的 注入區 響應 感光 制作 | ||
本發明公開了一種具有多指漏極的光電探測器件,包括P型襯底,P型襯底上嵌有高壓深N阱,高壓深N阱上嵌有P阱,P型襯底與高壓深N阱、高壓深N阱與P阱形成兩個二極管結構;P阱上設有多個同心的環形N+漏極,P阱上設有環形P+源極,P+源極與位于最外側的N+漏極之間設有環形柵極,多個N+漏極與P阱形成PN結的感光結構。本發明采用多指的N+注入區作為漏極并與P阱形成具有紫外/藍紫光響應的光電二極管的結構進行感光,同時利用P阱與高壓深N阱以及高壓深N阱與P型襯底所形成的兩個二極管結構,通過電極引出端形成短路結構,有效降低了器件對可見/近紅外光的響應程度,提高了器件的紫外/藍紫光的波長選擇性。
技術領域
本發明涉及一種光電探測器件,特別涉及一種具有多指漏極的光電探測器件及其制作方法。
背景技術
隨著當前的微納米電子技術和集成電路的飛速發展,紫外光電二極管在響應度、量子效率等方面有了較大的提升。目前的紫外光電探測器件基本都是基于二極管結構的,主要有光電發射型紫外光電二極管等。采用硅材料制作的紫外光電探測器一般其量子效率較低,響應度較差。基于新型材料制作的光電探測器體積大,價格昂貴等,而且加工工藝復雜,不能與當前主流的制作工藝兼容,制約其發展。
硅材料對紫外/藍紫光具有較淺的吸收深度,主要是因為紫外/藍紫光的吸收系數很大,幾乎所有波長小于380nm的光波都在局里硅表面100nm以內的深度被吸收。傳統的標準CMOS工藝制作的紫外光電二極管對紫外表現出較差的響應,而且噪聲較大。硅基PN結行紫外光電二極管體積小,制作工藝簡單,且能與硅工藝兼容,但是由于擊穿電壓較高,帶來了較大的靜態功耗。
發明內容
為了解決上述技術問題,本發明提供一種結構簡單、靈敏度高、的具有多指漏極的光電探測器件,并提供其制作方法。
本發明解決上述問題的技術方案是:一種具有多指漏極的光電探測器件,包括P型襯底,P型襯底上表面中間內嵌有圓柱形高壓深N阱,高壓深N阱上表面中間內嵌有圓柱形P阱,P型襯底與高壓深N阱形成二極管結構Ⅰ,高壓深N阱與P阱形成二極管結構Ⅱ;
所述P阱上表面中間設有多個同心的環形N+漏極,P阱上表面位于N+漏極外側設有1個環形P+源極,P+源極與位于最外側的N+漏極之間設有環形柵極,多個N+漏極與P阱形成PN結的感光結構;
所述P型襯底上表面位于高壓深N阱外側區域設有環形P+注入區作為P型襯底連接電極;所述高壓深N阱上表面位于P阱外側區域設有環形N+注入區作為高壓深N阱的連接電極。
上述具有多指漏極的光電探測器件,多個N+漏極與P+源極位于同一平面。
上述具有多指漏極的光電探測器件,所述P型襯底采用P型材料制成,P型材料為在硅中摻入元素周期表中第四族元素。
上述具有多指漏極的光電探測器件,所述高壓深N阱采用N型材料制成, N型材料為在硅中摻入元素周期表中第五族元素。
一種具有多指漏極的光電探測器件的制作方法,包括以下步驟:
步驟一:在P型襯底上生長二氧化硅層,在二氧化硅層上通過低壓化學氣象淀積方法淀積一層氮化硅層;
步驟二:通過第一次光刻,并進行磷離子Ⅰ注入,在P型襯底上形成一個高壓深N阱,并通過高溫退火,激活磷離子Ⅰ;
步驟三:通過第二次光刻,并進行輕摻雜的硼離子Ⅰ的注入,在高壓深N阱內形成P阱,并通過高溫退火 , 激活硼離子Ⅰ;
步驟四:通過第三次光刻,在P阱上形成柵極;
步驟五:通過第四次光刻,并進行重摻雜的磷離子Ⅱ的注入,在P阱內形成多個N+注入區作為多指漏極,并通過高溫退火,激活磷離子Ⅱ;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于湖南師范大學,未經湖南師范大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910577217.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





