[發明專利]納米粒子層圖案化的方法、量子點發光器件及顯示裝置

有效

• 申請號: 201910576880.X
• 申請日: 2019-06-28
• 公開（公告）號: CN110289363B
• 公開（公告）日: 2022-06-03
• 發明（設計）人: 陳卓;毛德豐
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方技術開發有限公司
• 主分類號: H01L51/50
• 分類號: H01L51/50;H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 劉偉;蔡麗

1.一種納米粒子層圖案化的方法，其特征在于，包括以下步驟：

(S1)形成修飾有第一基團的基板；

(S2)采用光照處理所述基板的預設區域，所述預設區域內的所述第一基團在光照條件下反應，生成第二基團；

(S3)在所述預設區域表面形成納米粒子層，所述預設區域內的第二基團與納米粒子的配體連接；

(S4)去除納米粒子層的未與所述第二基團結合的納米粒子，完成納米粒子層的圖案化；

所述第一基團為光照后生成氨基的基團或者光照后生成羥基的基團；

所述納米粒子的配體包括可與氨基或者羥基反應的基團。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟(S1)具體為：

對基板直接進行改性，形成修飾有第一基團的基板；或者

在基板表面涂覆含有第一基團的化合物涂層，形成修飾有第一基團的基板。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟(S3)中，通過光照或者加熱，所述預設區域內的第二基團與納米粒子的配體連接。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述納米粒子層為量子點層。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述方法具體包括：

采用預設波長的光照射所述基板的第一預設區域；所述第一預設區域內的所述第一基團在光照條件下反應，生成第二基團；

在所述第一預設區域表面形成第一量子點層，所述基板的第一預設區域內的第二基團與第一量子點的配體連接；

去除所述第一量子點層的未與所述第二基團結合的第一量子點；

采用預設波長的光照射所述基板的第二預設區域；所述第二預設區域內的所述第一基團在光照條件下反應，生成第二基團；

在所述第二預設區域表面形成第二量子點層，所述基板的第二預設區域內的第二基團與所述第二量子點的配體連接；

去除所述第二量子點層的未與所述第二基團結合的第二量子點；

其中，所述第一量子點發射的光的顏色與所述第二量子點發射的光的顏色不同。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

采用預設波長的光照射所述基板的第三預設區域；所述第三預設區域內的所述第一基團在光照條件下反應，生成第二基團；

形成第三量子點層，所述基板的第三預設區域內的第二基團與所述第三量子點的配體連接；

去除所述第三量子點層的未與所述第二基團結合的第三量子點；

其中，所述第三量子點發射的光的顏色與所述第一量子點發射的光的顏色、所述第二量子點發射的光的顏色均不同。

7.根據權利要求5或6所述的方法，其特征在于，所述第一基團為氨基甲酸-鄰硝基芐基酯、苯磺酰胺、

或者時；

量子點的配體為

所述第一基團為時，

量子點的配體為

所述量子點為第一量子點、第二量子點或者第三量子點。

8.一種量子點發光器件的制作方法，包括形成陽極、量子點層和陰極，其特征在于，所述量子點層采用權利要求4～7任意一項所述的圖案化的方法制成。

9.一種量子點發光器件，其特征在于，采用權利要求8所述的量子點電致發光器件的制作方法制作形成。

10.一種顯示裝置，包括權利要求9所述的量子點發光器件。