[發(fā)明專利]一種超微細片狀納米研磨機

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910565894.1
• 申請日: 2019-06-27
• 公開（公告）號: CN110170358A
• 公開（公告）日: 2019-08-27
• 發(fā)明（設計）人: 曾天杰
• 申請（專利權）人: 曾天杰
• 主分類號: B02C15/00
• 分類號: B02C15/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明公開了一種超微細片狀納米研磨機，包括研磨單元，所述研磨單元包括第一研磨構件、第二研磨構件及第三研磨構件，所述第一研磨構件具有第一內(nèi)截錐內(nèi)壁，所述第二研磨構件具有第二外截錐外壁，第三研磨構件具有第三外截錐外壁，且第三外截錐外壁位于第一研磨構件與第二研磨構件的間。本發(fā)明所提供的研磨機能夠根據(jù)待磨原料的懸浮粒支硬度及懸浮粒的顆粒大小而適當?shù)卣{整對待磨原料所施加的研磨壓力，不但其研磨效果可充分發(fā)揮而且更可適合用來研磨各種不同的原料，二個外錐體及一個內(nèi)錐體的互相滾壓，可以對待磨原料施予足夠的壓碎力量，使原料的懸浮粒子可以充分被壓碎、壓細，因此研磨作用好，研磨效率高。

技術領域

本發(fā)明屬于研磨機技術領域，具體涉及一種超微細片狀納米研磨機。

背景技術

化工業(yè)在制造油漆、染料、顏料、涂料、生化原料等化工產(chǎn)品時，大都需要經(jīng)過研磨以達到其要求的細度。截至目前絶大部份都系使用珠磨機，來執(zhí)行研磨細化的作業(yè)。而此種珠磨機在一只橫臥式的固定圓筒內(nèi)裝設一轉軸，并在轉軸上裝設若干片攪拌葉片研磨時，固定圓筒內(nèi)預先裝入一定量的玻璃珠其直徑約2mm，擬進行研磨的原料則利用泵自進料口持續(xù)饋入。由轉軸驅動攪拌葉片旋轉以攪動玻璃珠，玻璃珠的互相碰撞與摩擦而對待磨原料施以研磨作用。經(jīng)過研磨后的原料即自濾珠間隙流出，但玻璃珠則被濾留在固定圓筒內(nèi)，而原料則自出料口流出。如果細度仍不夠細，還需要多次重復研磨。

研磨效率低，必須經(jīng)過多次重復研磨才能達到需求的細度，不但花費時間長，且耗費電力，其原因如下：A.任兩玻璃珠互相碰撞或摩擦時，其碰撞或摩擦面積為「一點」，瞬時研磨面積太小，必須經(jīng)過長時間多次重復研磨，才能達到需求的細度。因此效率低浪費時間，且能源消耗率偏高；B.由于玻璃珠質量小，加上攪拌葉片的轉速受到限制轉速過高易將玻璃珠打碎，因此兩玻璃珠再互相碰撞時的力量有限，無法有效地將待磨原料的懸浮粒子擊碎，因而研磨效果仍不理想。因為使用玻璃珠研磨，由于玻璃珠易因攪拌而碎裂，或因濾珠間隙產(chǎn)生偏心由于制造的誤差加上裝配后及運轉后的累積誤差，容易導致濾珠間隙產(chǎn)生偏心使間隙一邊大一邊小，而玻璃珠即自大的一邊進入間隙，但立即被卷帶至小的一邊，終將玻璃珠壓碎，碎裂的玻璃珠攙雜在原料中，造成質量不精純，甚至無法使用，研磨細度難符較高的要求。

為此，我們提出一種超微細片狀納米研磨機來解決現(xiàn)有技術中存在的問題，使其省時省力，提高研磨效率。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種超微細片狀納米研磨機，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用了如下技術方案：

一種超微細片狀納米研磨機，包括研磨單元，所述研磨單元包括第一研磨構件、第二研磨構件及第三研磨構件，所述第一研磨構件具有第一內(nèi)截錐內(nèi)壁，所述第二研磨構件具有第二外截錐外壁，第三研磨構件具有第三外截錐外壁，且第三外截錐外壁位于第一研磨構件與第二研磨構件的間。

較佳的，所述第一內(nèi)截錐內(nèi)壁具有第一幾何中心、第一假想內(nèi)錐尖或內(nèi)錐尖及第一圓錐角度。

通過上述技術方案：利于第一研磨構件、第二研磨構件及第三研磨構件的間的安裝。

較佳的，所述第二外截錐外壁具有第二幾何中心、第二假想外錐尖及第二圓錐角度，所述第二研磨構件位于第一研磨構件的內(nèi)部，且第二研磨構件中的第二幾何中心與第一研磨構件的第一幾何中心重合，所述第二外截錐外壁的第二圓錐角度小于第一內(nèi)截錐內(nèi)壁的第一圓錐角度，所述第一內(nèi)截錐內(nèi)壁與第二外截錐外壁的間形成研磨空間。

通過上述技術方案：有利于對物料進行研磨。

較佳的，所述第三外截錐外壁具有第三幾何中心、第三假想外錐尖及第三圓錐角度，所述第三圓錐角度等于所述第一圓錐角度與第二圓錐角度的差的一半，所述第一假想內(nèi)錐尖、第二假想外錐尖及第三假想外錐尖相重合，并構成研磨機上第一端，而相對于該第一端的另一端為研磨機的第二端，所述第三研磨構件系位于所述研磨空間內(nèi)并分別與所述第一研磨構件及第二研磨構件接觸。