[發(fā)明專利]一種超微細(xì)片狀納米研磨機(jī)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910565894.1 | 申請(qǐng)日： | 2019-06-27 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN110170358A | 公開（公告）日： | 2019-08-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 曾天杰 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 曾天杰 |
| 主分類號(hào)： | B02C15/00 | 分類號(hào)： | B02C15/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 523000 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 研磨構(gòu)件 截錐 研磨 研磨機(jī) 外壁 片狀納米 研磨單元 超微細(xì) 懸浮粒 壓碎 滾壓 懸浮粒子 研磨效率 研磨壓力 內(nèi)錐體 外錐體 內(nèi)壁 施加 力量 | ||
1.一種超微細(xì)片狀納米研磨機(jī)，包括研磨單元，其特征在于：所述研磨單元包括第一研磨構(gòu)件、第二研磨構(gòu)件及第三研磨構(gòu)件，所述第一研磨構(gòu)件具有第一內(nèi)截錐內(nèi)壁，所述第二研磨構(gòu)件具有第二外截錐外壁，第三研磨構(gòu)件具有第三外截錐外壁，且第三外截錐外壁位于第一研磨構(gòu)件與第二研磨構(gòu)件的間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超微細(xì)片狀納米研磨機(jī)，其特征在于：所述第一內(nèi)截錐內(nèi)壁具有第一幾何中心、第一假想內(nèi)錐尖或內(nèi)錐尖及第一圓錐角度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種超微細(xì)片狀納米研磨機(jī)，其特征在于：所述第二外截錐外壁具有第二幾何中心、第二假想外錐尖及第二圓錐角度，所述第二研磨構(gòu)件位于第一研磨構(gòu)件的內(nèi)部，且第二研磨構(gòu)件中的第二幾何中心與第一研磨構(gòu)件的第一幾何中心重合，所述第二外截錐外壁的第二圓錐角度小于第一內(nèi)截錐內(nèi)壁的第一圓錐角度，所述第一內(nèi)截錐內(nèi)壁與第二外截錐外壁的間形成研磨空間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種超微細(xì)片狀納米研磨機(jī)，其特征在于：所述第三外截錐外壁具有第三幾何中心、第三假想外錐尖及第三圓錐角度，所述第三圓錐角度等于所述第一圓錐角度與第二圓錐角度的差的一半，所述第一假想內(nèi)錐尖、第二假想外錐尖及第三假想外錐尖相重合，并構(gòu)成研磨機(jī)上第一端，而相對(duì)于該第一端的另一端為研磨機(jī)的第二端，所述第三研磨構(gòu)件系位于所述研磨空間內(nèi)并分別與所述第一研磨構(gòu)件及第二研磨構(gòu)件接觸。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超微細(xì)片狀納米研磨機(jī)，其特征在于：所述第一研磨構(gòu)件、第二研磨構(gòu)件及第三研磨構(gòu)件進(jìn)行相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)。
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B02C 一般破碎、研磨或粉碎；碾磨谷物
B02C15-00 應(yīng)用滾子或球與環(huán)或盤聯(lián)合動(dòng)作的碾磨元件進(jìn)行粉碎
B02C15-02 .離心擺動(dòng)式碾磨機(jī)
B02C15-04 .裝有加壓力的擺動(dòng)滾子的碾磨機(jī)，例如用彈簧加壓
B02C15-06 .碾磨機(jī)，其滾子被壓向轉(zhuǎn)動(dòng)環(huán)內(nèi)表面，例如受彈簧壓力
B02C15-08 .碾磨機(jī)，其球或滾子受離心力作用被壓向環(huán)的內(nèi)表面，這些球或滾子是由裝在中心的構(gòu)件驅(qū)動(dòng)的
B02C15-10 .碾磨機(jī)，其球或滾子受離心力作用被壓向環(huán)的內(nèi)表面，這些球或滾子不是由裝在中心的構(gòu)件而是由其他方式驅(qū)動(dòng)的
