[發明專利]一種自動補充電解液的陽極氧化鍍膜設備

在審

• 申請號: 201910565738.5
• 申請日: 2019-06-27
• 公開（公告）號: CN110195247A
• 公開（公告）日: 2019-09-03
• 發明（設計）人: 吳杰安;李忠良;黃勝春
• 申請（專利權）人: 東莞智富五金制品有限公司
• 主分類號: C25D11/04
• 分類號: C25D11/04
• 代理公司: 北京天盾知識產權代理有限公司 11421
• 代理人: 林曉宏

1.一種自動補充電解液的陽極氧化鍍膜設備，包括至多個電解槽池(1)，每個電解槽池(1)內分別盛裝有設定濃度的電解液，電解液內浸泡設置有陰極板和陽極掛桿，每個電解槽池(1)分別連接有一整流裝置(2)，整流裝置(2)具有電流輸出端口，各整流裝置(2)的電流輸出端口分別與相應一電解槽池(1)內的陰極板和陽極掛桿電連接，其特征在于：陽極氧化鍍膜設備設置有一自動加藥控制器(3)、多個計量泵裝置(4)和一藥液槽(5)，

自動加藥控制器(3)，用作統計各整流裝置(2)的輸出電流量，以及控制各個計量泵裝置(4)的輸出功率，自動加藥控制器(3)設置有電流檢測電路，各個整流裝置(2)的電流輸出端口分別電連接于電流檢測電路；

計量泵裝置(4)，用作往相應的電解槽池(1)內定量添加補充藥液，各計量泵裝置(4)分別設置有開關信號輸入端口、藥液輸入口和藥液輸出口，各計量泵裝置(4)的開關信號輸入端口分別電連接于電流檢測電路，各計量泵裝置(4)的藥液輸出口分別連通至相應一電解槽池(1)；

藥液槽(5)，用作盛載電解補充液，各計量泵裝置(4)的藥液輸入口分別連通至藥液槽(5)。

2.根據權利要求1所述的一種自動補充電解液的陽極氧化鍍膜設備，其特征在于：所述電流檢測電路設置有多個數據采集單元、多個數據輸出單元和一中央控制單元，

各數據采集單元的輸入端分別與一相應的所述整流裝置(2)的所述電流輸出端口電連接，用作采集單個工件進行陽極氧化鍍膜所需電流量A，各數據采集單元的輸出端分別連接于中央控制單元的輸入端口，中央控制單元的輸出端口分別連接各數據輸出單元，各數據輸出單元分別連接于相應的所述計量泵裝置(4)的所述開關信號輸入端口。

3.根據權利要求2所述的一種自動補充電解液的陽極氧化鍍膜設備，其特征在于：所述自動加藥控制器(3)設置有計量泵控制電路，各所述數據輸出單元連接于計量泵控制電路，計量泵控制電路中設置多個計時開關，各個計時開關分別電連接于相應的所述開關信號輸入端口，以控制各計量泵裝置(4)進行設定的加藥時間T；

每個所述計量泵裝置(4)分別設置有設定的加藥頻率f，計量泵裝置(4)包括有一隔膜泵和驅動電機，各隔膜泵的輸入口分別管接于所述藥液槽(5)，各隔膜泵的輸出口分別管接于相應的所述電解槽池(1)；各驅動電機分別驅動連接相應的隔膜泵，各驅動電機分別電連接于計量泵控制電路。

4.根據權利要求3所述的一種自動補充電解液的陽極氧化鍍膜設備，其特征在于：各所述電解槽池(1)內分別設置有一電解液濃度檢測單元，各電解液濃度檢測單元分別電連接于所述計量泵控制電路，以測量相應電解槽池(1)在進行陽極氧化鍍膜處理前，所述電解液的濃度w1，以及在完成單個工件的陽極氧化鍍膜處理后，電解液的濃度w2。

5.根據權利要求4所述的一種自動補充電解液的陽極氧化鍍膜設備，其特征在于：所述計量泵控制電路中設置有控制處理器，控制處理器具有運算模塊，控制處理器分別接收來自各所述數據輸出單元，以及各所述電解液濃度檢測單元所發出的數據電信號，運算模塊依據由各所述電解槽池(1)和各相應所述整流裝置(2)采集所得的數據電信號，進行公式運算，得到各相應的所述計量泵裝置(4)的所述加藥時間T，公式為T＝A/[(w1-w2)×V/ρ]/f，其中V表示各相應電解槽池(1)的容量體積，ρ表示所述藥液槽(5)內的所述電解補充液的強酸密度；

控制處理器按運算模塊運算得出的加藥時間T，分別對各相應的所述開關信號輸入端口發送啟動信號以及停止信號。

6.根據權利要求1至5所述的一種自動補充電解液的陽極氧化鍍膜設備，其特征在于：各所述電解槽池(1)內分別設置有液位檢測裝置，各液位檢測裝置分別具有一干簧管，滑動連接于干簧管的磁性浮球，以及由干簧管和磁性浮球組合形成的液位檢測電路，干簧管的下端延伸插入至相應電解槽池(1)的所述電解液的液面以下，磁性浮球漂浮在電解液的液面，磁性浮球隨電解槽池(1)的液位變化上下滑動于干簧管，以改變干簧管的傳感器的電阻值。