[發(fā)明專利]一種晶棒清洗裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910561647.4
• 申請(qǐng)日: 2019-06-26
• 公開（公告）號(hào): CN110252727A
• 公開（公告）日: 2019-09-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳光林;鄭秉胄;姜镕
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西安奕斯偉硅片技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): B08B3/08
• 分類號(hào): B08B3/08;B08B13/00
• 代理公司: 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;胡影

1.一種晶棒清洗裝置，其特征在于，包括：

基座；

夾持機(jī)構(gòu)，所述夾持機(jī)構(gòu)設(shè)在所述基座上以用于夾持晶棒；

清洗槽，所述清洗槽設(shè)在所述基座上以用于盛裝清洗液；

驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)，用于驅(qū)動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)向所述清洗槽靠近，和/或，驅(qū)動(dòng)所述清洗槽向所述夾持機(jī)構(gòu)靠近，使得所述晶棒置于所述清洗槽中的所述清洗液內(nèi)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶棒清洗裝置，其特征在于，還包括：

第一連接部，所述第一連接部在豎直方向上可移動(dòng)地設(shè)在所述基座上；

第二連接部，所述第二連接部設(shè)在所述第一連接部上，所述夾持機(jī)構(gòu)在水平方向上可移動(dòng)地設(shè)在所述第二連接部上。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的晶棒清洗裝置，其特征在于，所述基座包括第一板體和與所述第一板體垂直相連的第二板體，所述第一連接部設(shè)在所述第一板體上，所述清洗槽設(shè)在所述第二板體上。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的晶棒清洗裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)包括：

第一驅(qū)動(dòng)部，所述第一驅(qū)動(dòng)部與所述第一連接部相連以驅(qū)動(dòng)所述第一連接部在豎直方向上移動(dòng)；

第二驅(qū)動(dòng)部，所述第二驅(qū)動(dòng)部與所述夾持機(jī)構(gòu)相連以驅(qū)動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)在水平方向上移動(dòng)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶棒清洗裝置，其特征在于，所述清洗槽包括：

第一清洗槽，所述第一清洗槽設(shè)在所述基座上；

第二清洗槽，所述第二清洗槽置于所述第一清洗槽中以用于盛裝所述清洗液，所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)向所述第一清洗槽靠近，和/或，驅(qū)動(dòng)所述第一清洗槽向所述夾持機(jī)構(gòu)靠近時(shí)，所述晶棒能夠置于所述第二清洗槽中的所述清洗液內(nèi)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的晶棒清洗裝置，其特征在于，所述第二清洗槽的底壁的內(nèi)側(cè)面形成為相對(duì)于水平面傾斜的第二斜面，且所述第二清洗槽的側(cè)壁上鄰近所述底壁的位置設(shè)有排液口。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的晶棒清洗裝置，其特征在于，所述第一清洗槽的底壁的內(nèi)側(cè)面形成為相對(duì)應(yīng)水平面傾斜的第一斜面，所述第一斜面與所述第二斜面平行，所述第二清洗槽的邊沿設(shè)有溢流口。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的晶棒清洗裝置，其特征在于，所述第一清洗槽為金屬或塑料材質(zhì)件，所述第二清洗槽為石英或聚四氟乙烯材質(zhì)件。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶棒清洗裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)還包括：

升降機(jī)構(gòu)，所述升降機(jī)構(gòu)設(shè)在所述基座上，所述清洗槽設(shè)在所述升降機(jī)構(gòu)上以使所述升降機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述清洗槽向所述夾持機(jī)構(gòu)靠近。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶棒清洗裝置，其特征在于，還包括：

行走輪，所述行走輪設(shè)在所述基座上。