[發明專利]用于半導體制造設備的氣體管路控制裝置

有效

• 申請號: 201910560512.6
• 申請日: 2019-06-26
• 公開（公告）號: CN110289231B
• 公開（公告）日: 2020-06-12
• 發明（設計）人: 霍冬冬;蔡學權
• 申請（專利權）人: 英特爾半導體（大連）有限公司;英特爾公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京永新同創知識產權代理有限公司 11376
• 代理人: 林錦輝;劉景峰

1.一種用于半導體制造設備的氣體管路控制裝置，所述半導體制造設備包括處理氣體供給管路、處理氣體排出管路和保護氣體供給管路，所述氣體管路控制裝置包括：

保護氣體供給閥，設置在所述保護氣體供給管路中，被配置為在所述保護氣體供給閥處于打開狀態時，使得所述保護氣體供給管路與所述處理氣體排出管路處于連通狀態，以向所述處理氣體排出管路供給保護氣體，以及在所述保護氣體供給閥處于關斷狀態時，使得所述保護氣體供給管路與所述處理氣體排出管路處于非連通狀態，以禁止向所述處理氣體排出管路供給保護氣體；以及

第一控制開關，與所述保護氣體供給閥電連接，被配置為在接收到保護氣體供給信號時，使得所述保護氣體供給閥處于打開狀態，并且在未接收到保護氣體供給信號時，使得所述保護氣體供給閥處于關斷狀態。

2.如權利要求1所述的氣體管路控制裝置，其中，所述保護氣體供給信號包括處理氣體供給信號或者處理氣體排出信號。

3.如權利要求2所述的氣體管路控制裝置，其中，在所述保護氣體供給信號包括處理氣體供給信號時，所述氣體管路控制裝置包括：

處理氣體供給檢測器，設置在所述處理氣體供給管路中，被配置為檢測所述處理氣體供給管路中是否存在處理氣體供給，

其中，所述處理氣體供給檢測器與所述第一控制開關電連接，并且在所述處理氣體供給檢測器檢測到所述處理氣體供給管路中存在處理氣體供給時，向所述第一控制開關提供所述處理氣體供給信號。

4.如權利要求3所述的氣體管路控制裝置，其中，所述半導體制造設備還包括處理氣體供給控制閥，設置在所述處理氣體供給管路中，所述處理氣體供給信號包括所述處理氣體供給控制閥的打開狀態信號。

5.如權利要求2所述的氣體管路控制裝置，其中，在所述保護氣體提供狀態信號包括處理氣體排出信號時，所述氣體管路控制裝置包括：

處理氣體排出信號檢測器，設置在所述處理氣體排出管路中，被配置為在檢測到所述處理氣體供給管路中存在排出氣體時，生成所述處理氣體排出信號。

6.如權利要求1所述的氣體管路控制裝置，其中，所述第一控制開關被配置為：

在未接收到所述保護氣體供給信號時，延時第一預定時間后，使得所述保護氣體供給閥處于關斷狀態。

7.如權利要求1所述的氣體管路控制裝置，還包括：

保護氣體供給檢測器，設置在所述保護氣體供給管路中，被配置為檢測所述保護氣體供給管路中是否存在保護氣體供給；以及

提示單元，與所述保護氣體供給檢測器電連接，被配置為在接收到保護氣體供給信號并且所述保護氣體供給檢測器檢測到所述保護氣體供給管路中未供給保護氣體時，通知提示信號，所述提示信號用于提示不允許進行處理氣體排出。

8.如權利要求7所述的氣體管路控制裝置，其中，所述供給狀態檢測器包括供給狀態開關，所述提示單元包括第二控制開關和提示模塊，所述第二控制開關與所述供給狀態開關電連接，所述提示模塊與所述供給狀態開關和所述第二控制開關并聯，

所述第二控制開關被配置為在接收到所述保護氣體供給信號時斷開，

所述供給狀態開關被配置為：在所述保護氣體供給管路中存在保護氣體供給時閉合，以及在所述保護氣體供給管路中不存在保護氣體供給時斷開，

所述提示模塊被配置為：在所述第二控制開關和所述供給狀態開關均斷開時，指示不允許排出處理氣體。

9.如權利要求8所述的氣體管路控制裝置，其中，所述保護氣體供給檢測器包括流體檢測開關，被配置為在檢測到氣體流動時閉合，并在未檢測到氣體流動時斷開。

10.如權利要求8所述的氣體管路控制裝置，其中，所述第二控制開關被配置為：

在接收到所述保護氣體供給信號時，延時第二預定時間后斷開。