[發(fā)明專利]清洗極紫外輻射源設(shè)備的方法及極紫外輻射源設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910560150.0
• 申請(qǐng)日: 2019-06-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110653221B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-08-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳彥勳;蔡明訓(xùn);王紹華;張漢龍;陳立銳;陳家楨
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號(hào): B08B7/00
• 分類號(hào): B08B7/00;B08B13/00
• 代理公司: 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國(guó)

1.一種清洗一極紫外(EUV)輻射源設(shè)備的方法，其特征在于，該EUV輻射源設(shè)備包括：

一靶液滴產(chǎn)生器，用于在一腔室內(nèi)生成一金屬靶液滴；以及

一干冰噴射組件，具有設(shè)置在該腔室內(nèi)部的一噴射噴嘴及一干冰支承構(gòu)件，該噴射噴嘴包括一脈動(dòng)插入體及一定向插入體，

該方法包括以下步驟：

形成數(shù)個(gè)加壓干冰顆粒，包括來(lái)自該干冰噴射組件的該干冰支承構(gòu)件的干冰顆粒及一加壓氣流；

將一可伸長(zhǎng)定位器從該腔室彈出，并通過(guò)該可伸長(zhǎng)定位器將該噴射噴嘴相對(duì)于該靶液滴產(chǎn)生器的一噴嘴處的殘余材料定位；

將所述加壓干冰顆粒經(jīng)由該噴射噴嘴朝向該殘余材料噴出，其中通過(guò)配置該脈動(dòng)插入體以生成該加壓氣流的脈沖，通過(guò)配置該定向插入體以變化該加壓氣流的二維方向及三維轉(zhuǎn)動(dòng)；

從該靶液滴產(chǎn)生器去除該殘余材料；以及

收集該殘余材料及來(lái)自所述加壓干冰顆粒的升華氣態(tài)二氧化碳。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，其中通過(guò)配置該脈動(dòng)插入體以生成該加壓氣流的脈沖包括振動(dòng)地變化所述加壓干冰顆粒的壓力。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，還包括：

監(jiān)控該靶液滴產(chǎn)生器上的該殘余材料；

當(dāng)該靶液滴產(chǎn)生器中的該殘余材料的量大于一閾值量時(shí),調(diào)節(jié)該干冰噴射組件中的一噴射泵的閥；以及

調(diào)節(jié)該干冰噴射組件的工作參數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，還包括將該干冰噴射組件的一噴射構(gòu)件定位在該腔室中。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，還包括將該干冰噴射組件的一排氣構(gòu)件定位在該腔室中。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，經(jīng)由該噴射噴嘴噴出的所述加壓干冰顆粒的流速范圍為0.5公升每分鐘至500公升每分鐘。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，經(jīng)由該噴射噴嘴噴出的所述加壓干冰顆粒的壓力范圍在噴嘴處為1kPa至1000kPa。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，經(jīng)由該噴射噴嘴噴出的所述加壓干冰顆粒的直徑范圍為10μm至10mm。

9.一種極紫外(EUV)輻射源設(shè)備，其特征在于，該極紫外輻射源設(shè)備包括：

一靶液滴產(chǎn)生器，用于生成一金屬靶液滴；

一干冰噴射組件；

一腔室，至少包圍該靶液滴產(chǎn)生器及該干冰噴射組件；以及

一控制器，連接該干冰噴射組件及該靶液滴產(chǎn)生器，其中該干冰噴射組件選擇性地可附接至該腔室且從該腔室可伸長(zhǎng)，該干冰噴射組件包括：

一可伸長(zhǎng)定位器，附接至該腔室且從該腔室可伸長(zhǎng)，該可伸長(zhǎng)定位器包括在該腔室內(nèi)容納的可同軸滑動(dòng)的一圓柱體，并且該圓柱體具有向內(nèi)突出的一環(huán)形凸緣；

一噴射裝置，配置以提供數(shù)個(gè)加壓干冰顆粒；

一排氣裝置，配置以提供一加壓氣流；

一噴射噴嘴，該噴射噴嘴包括一脈動(dòng)插入體及一定向插入體，其中通過(guò)配置該脈動(dòng)插入體以生成該加壓氣流的脈沖，通過(guò)配置該定向插入體以變化該加壓氣流的二維方向及三維轉(zhuǎn)動(dòng)；以及

一支承裝置。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的極紫外輻射源設(shè)備，其特征在于，還包括一監(jiān)控裝置，用于監(jiān)控該靶液滴產(chǎn)生器上的一殘余材料。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的極紫外輻射源設(shè)備，其特征在于，該噴射裝置包括一噴射進(jìn)氣口、一噴射器二氧化碳入口及一噴射混合器。

12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的極紫外輻射源設(shè)備，其特征在于，還包括具有一噴射壓縮機(jī)的一支承構(gòu)件。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的極紫外輻射源設(shè)備，其特征在于，該支承構(gòu)件包括一噴射泵。