[發(fā)明專利]吸波裝置及電磁加熱設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910558563.5
• 申請日: 2019-06-26
• 公開（公告）號: CN112153769A
• 公開（公告）日: 2020-12-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 戚龍;陳勁鋒;趙克芝;丘守慶;劉飛;鄭彥斌;夏其澍;郭旭東;劉鑫
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市鑫匯科股份有限公司
• 主分類號: H05B6/12
• 分類號: H05B6/12;H05B6/68;H05B6/36;H05K9/00
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 羅佳龍

本發(fā)明涉及一種吸波裝置。應(yīng)用于電磁加熱設(shè)備，所述吸波裝置包括：吸波介質(zhì)，具有導(dǎo)電性并用于與所述電磁加熱設(shè)備的控制電路板電性連接，對于所述電磁加熱設(shè)備的線圈盤附近的電磁干擾輻射，所述吸波介質(zhì)能夠?qū)⑺鲭姶鸥蓴_輻射的信號反饋至所述控制電路板，所述控制電路板根據(jù)反饋的所述信號控制所述吸波介質(zhì)消除所述電磁干擾輻射；及連接導(dǎo)體，與所述吸波介質(zhì)連接，所述連接導(dǎo)體與所述控制電路板電性連接。因此，吸波介質(zhì)與控制電路板共同作用可以有效消除電磁干擾輻射，提高整個吸波裝置消除電磁干擾輻射的能力。同時，吸波介質(zhì)結(jié)構(gòu)簡單，能有效降低整個吸波裝置本身的制造成本。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及電磁技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種吸波裝置及包含該吸波裝置的電磁加熱設(shè)備。

背景技術(shù)

電磁加熱技術(shù)在電磁爐、電磁灶和電飯鍋等電磁加熱設(shè)備中有著極為廣泛的應(yīng)用，電磁加熱也稱電磁感應(yīng)加熱，其通過線圈產(chǎn)生交變磁場，當(dāng)容器位于交變磁場中時，容器表面將切割交變磁場的磁力線而在容器底部產(chǎn)生交變的電流(即渦流)，渦流使容器底部的載流子高速無規(guī)則運(yùn)動，載流子與原子互相碰撞、摩擦而產(chǎn)生熱能，從而起到加熱的效果。

電磁加熱技術(shù)需要遵循EMI(Electromagnetic Interference，電磁干擾)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，故電磁加熱設(shè)備對周邊環(huán)境產(chǎn)生的電磁干擾不能超過規(guī)定值，同時電磁加熱設(shè)備也對周邊環(huán)境中存在的電磁干擾具有一定的抗擾度。為使電磁加熱設(shè)備盡量符合EMI技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，傳統(tǒng)通常采用“增加電容，加大電感”的解決方案，但是該解決方案存在成本較高且仍然難以滿足EMI技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明解決的一個技術(shù)問題是如何提高吸波裝置消除電磁干擾輻射的能力。

一種吸波裝置，應(yīng)用于電磁加熱設(shè)備，所述吸波裝置包括：

吸波介質(zhì)，具有導(dǎo)電性并用于與所述電磁加熱設(shè)備的控制電路板電性連接，對于所述電磁加熱設(shè)備的線圈盤附近的電磁干擾輻射，所述吸波介質(zhì)能夠?qū)⑺鲭姶鸥蓴_輻射的信號反饋至所述控制電路板，所述控制電路板根據(jù)反饋的所述信號控制所述吸波介質(zhì)消除所述電磁干擾輻射；及

連接導(dǎo)體，與所述吸波介質(zhì)連接，所述連接導(dǎo)體與所述控制電路板電性連接。

在其中一個實施例中，所述吸波介質(zhì)為由導(dǎo)體或半導(dǎo)體材料制成的層狀結(jié)構(gòu)。

在其中一個實施例中，所述連接導(dǎo)體與所述吸波介質(zhì)一體成型連接。

在其中一個實施例中，所述連接導(dǎo)體與所述控制電路板焊接、鉚接、螺接或插接。

在其中一個實施例中，所述吸波介質(zhì)位于所述線圈盤的一側(cè)或同時位于所述線圈盤的兩側(cè)；或者，所述吸波介質(zhì)環(huán)繞所述線圈盤設(shè)置。

在其中一個實施例中，所述吸波介質(zhì)為由導(dǎo)線繞制形成首尾非封閉連接的開環(huán)結(jié)構(gòu)。

在其中一個實施例中，所述吸波介質(zhì)包括由導(dǎo)線繞制、沖裁、噴涂、印刷、注射或電鍍工藝形成的吸波介質(zhì)。

在其中一個實施例中，所述吸波介質(zhì)呈圓形、多邊形或橢圓形。

在其中一個實施例中，所述吸波介質(zhì)在所述線圈盤上具有投影面積，所述線圈盤上的諧振線圈具有覆蓋面積，所述投影面積大于或等于所述覆蓋面積的一半。

一種電磁加熱設(shè)備，包括上述任一項所述的吸波裝置。

一種吸波裝置的制備方法，包括如下步驟：

提供導(dǎo)體或半導(dǎo)體材料；

將所述導(dǎo)體或半導(dǎo)體材料通過繞制、沖裁、噴涂、印刷、注射或電鍍工藝形成吸波介質(zhì)；及

將連接導(dǎo)體與所述吸波介質(zhì)連接。