[發明專利]檢測光刻掩模的結構的方法和實行該方法的裝置

有效

• 申請號: 201910558393.0
• 申請日: 2019-06-25
• 公開（公告）號: CN110631503B
• 公開（公告）日: 2021-09-21
• 發明（設計）人: U.馬特耶卡;T.謝魯布爾;M.科赫;C.胡斯曼;L.斯托普;B.M.穆特
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G01B11/24
• 分類號: G01B11/24;G01B11/14;G01B9/02;G03F1/84
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王蕊瑞

在檢測光刻掩模的結構中，在至少一個優選的照明方向上用至少部分相干的光源的照明光來照明光刻掩模的部分。然后通過在檢測平面中空間分辨地檢測從照明的部分所衍射的照明光的衍射強度來記錄照明的部分的衍射圖像。然后對光刻掩模的其他部分重復“照明”和“記錄衍射圖像”步驟。在光刻掩模的由此檢測的至少兩個部分之間，各存在重疊區域，該重疊區域的表面范圍的測量值為光刻掩模的兩個部分中較小部分的至少5％或更多。該重復發生直到光刻掩模的所檢測的部分完全覆蓋光刻掩模的要檢測的區域。從照明的部分的記錄的衍射圖像中計算光刻掩模的結構。還指定了一種實行結構檢測方法的裝置，其包括光源、空間分辨檢測器和掩模夾持器。

相關申請的交叉引用

本專利申請要求德國專利申請DE 10 2018 210 315.1的優先權，其內容通過引用并入本文。

技術領域

本發明涉及檢測光刻掩模的結構的方法。本發明還涉及實行該方法的裝置。

背景技術

從WO 2016/012426 A1已知檢測光刻掩模的結構的方法和裝置。其中，3D空間像測量發生在對物平面中布置的光刻掩模成像中的像平面附近的區域。

由B.Zhang等人在SPIE 9050的會議，微光刻的計量、檢查和工藝控制XXVIII，90501D(2014年4月2日)中的專業文章“EUV光刻掩模檢查的定量桌上式相干衍射成像顯微鏡(Quantitative tabletop coherent diffraction imaging microscope for EUVlithography mask inspection)”公開了檢查光刻掩模的結構檢測方法。F.Zhang等人在光學快報的2013年的第21卷第11期中的專業文章“在疊層成像的相干衍射成像中的平移位置確定(Translation position determination in ptychographic coherent diffractionimaging)”公開了使用疊層成像術的位置估計方法。A.Wojdyla在SPIE 10656，成像感測技術：材料、裝置、系統和應用V，106560W(2018年5月29日)中的專業文章“使用傅里葉疊層成像術的EUV光刻掩模檢查(EUV photolithography mask inspection using Fourierptychography)”公開了使用傅里葉疊層成像術檢查EUV光刻掩模的裝置。

發明內容

本發明的目的是發展檢測光刻掩模的結構的方法和裝置，使得對從光刻掩模的照明光的束路徑下游布置的光學單元的要求降低。

關于該方法，根據本發明的目的通過具有以下方法來實現。

一種檢測光刻掩模的結構的方法，具有如下步驟：

-在至少一個優選的照明方向上用至少部分相干的光源的照明光來照明所述光刻掩模的部分，

-通過在檢測平面中空間分辨地檢測從所述照明的部分所衍射的所述照明光的衍射強度來記錄所述照明的部分的衍射圖像，

-對所述光刻掩模的其他部分重復所述“照明”和“記錄”步驟，直到所檢測的部分完全覆蓋所述光刻掩模的要檢測的區域，其中在所述光刻掩模的由此檢測的至少兩個部分之間各存在重疊區域，所述重疊區域的表面范圍的測量值為所述兩個部分中較小的部分的至少5％，

-從所述照明的部分的記錄的衍射圖像計算所述光刻掩模的結構，

-其中所述照明的部分用若干優選的照明方向來照明，其中在各個情況下記錄用這些若干優選的照明方向所照明的部分的衍射圖像。