[發(fā)明專利]一種新型梯形增亮膜及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910555414.3 | 申請日: | 2019-06-25 |
| 公開(公告)號: | CN111435178A | 公開(公告)日: | 2020-07-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李剛;夏寅;付坤;劉建凱;陳建文;鐘林;唐海江;張彥 | 申請(專利權(quán))人: | 寧波激智科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/00 | 分類號: | G02B5/00;G02F1/13357 |
| 代理公司: | 北京策略律師事務所 11546 | 代理人: | 張華 |
| 地址: | 315040 *** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 新型 梯形 增亮膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種新型梯形增亮膜,其特征在于,所述梯形增亮膜包括基材層和結(jié)構(gòu)層,所述結(jié)構(gòu)層置于基材層之上,所述結(jié)構(gòu)層包括若干個梯形四棱柱,所述梯形四棱柱間隔排列,相鄰梯形四棱柱之間為間隔區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求書1所述的新型梯形增亮膜,其特征在于,所述間隔區(qū)域平整光滑,所述梯形四棱柱的橫截面是梯形,所述梯形四棱柱的上表面為平臺區(qū)域,所述平臺區(qū)域平整光滑,梯形的側(cè)邊均限制在下底正上方除上底的空間內(nèi),不會阻擋間隔區(qū)域和平臺區(qū)域的準直光透過,所述梯形四棱柱的底面始終互相平行且縱剖面始終互相平行;
所述梯形的兩個側(cè)邊虛擬斜向延長線在平臺上方具有虛擬交點,該虛擬交點與平臺構(gòu)成虛擬三角形,以該虛擬交點在平臺上的垂足對底邊作垂線,即梯形的垂心高;所述梯形四棱柱的底面和縱剖面分別由橫截面梯形的底邊和垂心高朝梯形四棱柱縱深方向無限延伸形成;所述梯形四棱柱的脊面由橫截面梯形的上底朝梯形四棱柱縱深方向無限延伸形成,所述脊線由所述脊面在縱剖面上的投影形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求書1所述的新型梯形增亮膜,其特征在于,所述單個梯形四棱柱左右兩個斜面與縱剖面的夾角,即橫截面梯形左右斜邊與垂心高的夾角,分別為α、β,α、β均為15~75°;α與β的和構(gòu)成虛擬三角形的頂角θ,θ為30~150°。
4.根據(jù)權(quán)利要求書1所述的新型梯形增亮膜,其特征在于,所述單個梯形四棱柱的垂心高H為5~100μm;不同梯形四棱柱的垂心高可以相同或不同。
5.根據(jù)權(quán)利要求書1所述的新型梯形增亮膜,其特征在于,所述單個梯形四棱柱的左側(cè)側(cè)邊投影為Wa,Wa=tan(α)×H,右側(cè)側(cè)邊投影為Wb,Wb=tan(β)×H;所述梯形四棱柱的間隔長度由單個梯形四棱柱橫截面梯形側(cè)邊投影向兩側(cè)水平延長線長度構(gòu)成,水平延長倍率為k,其中左側(cè)水平延長線Ea=k×Wa,右側(cè)水平延長線Eb=k×Wb,k的取值范圍為[0.01,100];
所述虛擬三角形的高為G,G可視作H的垂直延長線,垂直延長倍率為t,G=t×H,t的取值范圍為[0.01,100];所述單個梯形四棱柱的平臺寬度為L,縱剖面左側(cè)平臺La=tan(α)×G=tan(α)×H×t=Wa×t,縱剖面右側(cè)平臺Lb=tan(β)×G=tan(β)×H×t=Wb×t,L=La+Lb=(Wa+Wb)×t;不同梯形四棱柱的平臺寬度L可以相同或不同;
所述單個梯形四棱柱的寬度為單個橫截面梯形的底邊長度W,為縱剖面左側(cè)的La、Wa與縱剖面右側(cè)的Lb、Wb相加所得,W=Wa+Wb+La+Lb=(Wa+Wb)×(1+t);所述相鄰梯形四棱柱的間隔E為左梯形四棱柱的右側(cè)水平延長線Eb與右梯形四棱柱的左側(cè)水平延長線Ea之和,E=(Wa+Wb)×k;所述梯形四棱柱的水平距離P為相鄰梯形四棱柱的縱剖面距離,為左梯形四棱柱縱剖面右側(cè)的Lb、Wb、Eb與右梯形四棱柱縱剖面左側(cè)的La、Wa、Ea相加所得,在梯形四棱柱結(jié)構(gòu)相同的情況下,P=Wa+Wb+La+Lb+Ea+Eb=Wa+Wb+L+E=(Wa+Wb)×(1+t+k)。
6.根據(jù)權(quán)利要求書2所述的新型梯形增亮膜,其特征在于,所述間隔區(qū)域和平臺區(qū)域的表面粗糙度Ra≤250nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求書1所述的新型梯形增亮膜,其特征在于,所述脊線在側(cè)視圖上的形態(tài)選自直線、折線、曲線中的一種或至少兩種的組合;所述脊線的振幅A’選自±[0,2]μm。
8.根據(jù)權(quán)利要求書1所述的新型梯形增亮膜,其特征在于,所述梯形四棱柱縱剖面在基材層上的投影為直線A,所述基材端面在基材層上的投影為直線B,直線A和直線B的夾角稱為結(jié)構(gòu)層的錯位角錯位角選自0~90°。
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