[發明專利]用于清潔靜電吸盤的工具與方法有效
| 申請號: | 201910553631.9 | 申請日: | 2019-06-25 |
| 公開(公告)號: | CN110813918B | 公開(公告)日: | 2022-04-12 |
| 發明(設計)人: | 楊岳霖;廖啟宏 | 申請(專利權)人: | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號: | B08B5/04 | 分類號: | B08B5/04;B08B7/00;B08B7/02;B08B13/00 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金國 |
| 地址: | 中國臺灣新竹市*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 清潔 靜電 吸盤 工具 方法 | ||
1.一種清潔靜電吸盤的方法,其特征在于,包含:
通過一光學檢查儀器的一第一部分朝一靜電吸盤的一底面發射一輻射,其中該光學檢查儀器位于該靜電吸盤的該底面下方;
通過該光學檢查儀器的一第二部分接收該輻射的一反射;
分析該輻射的該反射;
基于分析該輻射的該反射來判定該靜電吸盤上是否存在一顆粒;
當判定該顆粒存在時,將一清潔工具移動至該靜電吸盤上該顆粒的一位置;
使用該清潔工具的一可旋轉平臺從該靜電吸盤釋放該顆粒;以及
使用該清潔工具的一真空源將該顆粒吸入一排氣管道中,其中該清潔工具包含圍繞該可旋轉平臺且不覆蓋該可旋轉平臺的頂表面的一殼體,該排氣管道由該殼體和該可旋轉平臺的一側壁被定義出,該殼體的最頂部與該可旋轉平臺的該頂表面共平面。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,其中分析該輻射的該反射包含:
檢查該反射的一強度是否在一預定范圍內。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,其中分析該輻射的該反射包含:
將來自該靜電吸盤的該反射的一強度與一標準強度進行比較以識別該顆粒的該位置。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,還包含:
設置一虛設光罩于該靜電吸盤上;以及
當判定該顆粒存在時,透過該虛設光罩來檢測該顆粒的該位置。
5.根據權利要求4所述的方法,其特征在于,還包含:
在記錄該顆粒的位置后移除該虛設光罩。
6.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,還包含:
使該靜電吸盤相對于光學檢測儀器移動,以檢測該靜電吸盤上的該顆粒。
7.一種清潔靜電吸盤的方法,其特征在于,包含:
使一清潔工具的一平臺移向一靜電吸盤的一底面;
使用該清潔工具的該平臺以從該靜電吸盤釋放一顆粒;以及
在從該靜電吸盤釋放該顆粒后,使用與一排氣管道氣體連通的一真空源將該顆粒從該平臺上方吸入圍繞該平臺的該排氣管道中,其中該排氣管道由圍繞該平臺并且由不覆蓋該平臺的頂表面的一殼體和該平臺的一側壁被定義出,該排氣管道位于該靜電吸盤的該底面下方,該殼體的最頂部與該平臺的該頂表面共平面。
8.根據權利要求7所述的方法,其特征在于,還包含:
檢測該顆粒的一位置,其中該平臺的移動是根據該顆粒的該位置而執行。
9.根據權利要求7所述的方法,其特征在于,其中執行移動該平臺而使得該平臺接觸該顆粒,并且從該靜電吸盤釋放該顆粒包含在該平臺接觸該顆粒后旋轉該平臺。
10.根據權利要求9所述的方法,其特征在于,其中在旋轉該平臺的期間,該平臺不接觸該靜電吸盤。
11.根據權利要求7所述的方法,其特征在于,其中從該靜電吸盤釋放該顆粒包含:
透過該平臺上的一粘合材料來粘附該顆粒。
12.根據權利要求7所述的方法,其特征在于,其中從該靜電吸盤釋放該顆粒包含:
從該平臺向該靜電吸盤發射一超音波。
13.根據權利要求7所述的方法,其特征在于,其中從該靜電吸盤釋放該顆粒包含:
透過該平臺上的一光催化劑材料來光降解該顆粒。
14.根據權利要求7所述的方法,其特征在于,其中從該靜電吸盤釋放該顆粒是沿著一清潔路徑而執行,該清潔路徑實質上是一直線路徑、一螺旋線路徑或其組合。
15.根據權利要求7所述的方法,其特征在于,其中在從該靜電吸盤釋放該顆粒后提供一吸力。
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