[發(fā)明專利]晶體硅太陽能電池的制作方法及晶體硅太陽能電池在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910548287.4 | 申請(qǐng)日: | 2019-06-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112216766A | 公開(公告)日: | 2021-01-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張洪超;童洪波;李華;劉繼宇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 泰州隆基樂葉光伏科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/18 | 分類號(hào): | H01L31/18;H01L31/0224;H01L31/068;C25D5/02;C25D5/50;C25D7/12 |
| 代理公司: | 北京志霖恒遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 郭棟梁 |
| 地址: | 225300 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 晶體 太陽能電池 制作方法 | ||
1.一種晶體硅太陽能電池的制作方法,其特征在于,包括以下步驟:
提供電池前驅(qū)體;所述電池前驅(qū)體包括晶體硅太陽電池片基底、以及形成于所述晶體硅太陽電池片基底的正面和/或背面的介電層;所述介電層上開設(shè)有暴露出所述晶體硅太陽電池片基底的柵線電極電鍍區(qū)和電鍍觸點(diǎn)形成區(qū);
在所述電池前驅(qū)體的所述電鍍觸點(diǎn)形成區(qū)燒結(jié)形成電鍍觸點(diǎn);
對(duì)形成有所述電鍍觸點(diǎn)的電池前驅(qū)體進(jìn)行電鍍,以在所述柵線電極電鍍區(qū)形成金屬電極層,電鍍時(shí)所述電鍍觸點(diǎn)與電鍍?cè)O(shè)備的負(fù)極電連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體硅太陽能電池的制作方法,其特征在于,所述柵線電極電鍍區(qū)包括細(xì)柵電鍍區(qū)和主柵電鍍區(qū),所述細(xì)柵電鍍區(qū)包括多條細(xì)柵成型開膜區(qū),所述主柵電鍍區(qū)包括多條主柵成型開膜區(qū),所述細(xì)柵成型開膜區(qū)與所述主柵成型開膜區(qū)相交。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的晶體硅太陽能電池的制作方法,其特征在于,在正面和背面的介電層上均形成有所述電鍍觸點(diǎn);
在電鍍時(shí),正面和背面的所述電鍍觸點(diǎn)與同一負(fù)極連接;
或,
在電鍍時(shí),正面和背面的所述電鍍觸點(diǎn)與不同的負(fù)極連接;
或,
在電鍍時(shí),正面和背面的所述電鍍觸點(diǎn)中的其中一個(gè)與負(fù)極連接,在電鍍一定時(shí)間后,所述負(fù)極轉(zhuǎn)連接至另一所述電鍍觸點(diǎn),并在電鍍另一定時(shí)間后,再轉(zhuǎn)連接至上一電鍍時(shí)段所連接的電鍍觸點(diǎn),依此交替的連接正面和背面的所述電鍍觸點(diǎn),直至電鍍結(jié)束。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體硅太陽能電池的制作方法,其特征在于,所述電鍍觸點(diǎn)形成區(qū)靠近所述晶體硅太陽電池片基底的邊緣。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體硅太陽能電池的制作方法,其特征在于,在所述電池前驅(qū)體的所述電鍍觸點(diǎn)形成區(qū)燒結(jié)形成電鍍觸點(diǎn)的步驟包括:
在所述電鍍觸點(diǎn)形成區(qū)印刷電極漿料,并燒結(jié)所述電極漿料形成所述電鍍觸點(diǎn);
或,
在所述電鍍觸點(diǎn)形成區(qū)鋪設(shè)金屬粉末或合金粉末,并通過激光燒結(jié)形成所述電鍍觸點(diǎn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶體硅太陽能電池的制作方法,其特征在于,電鍍時(shí)電鍍液的溫度為20~100℃。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的晶體硅太陽能電池的制作方法,其特征在于,所述金屬電極層包括Ni層/Ag層、Co層/Ag層、Ni層/Cu層、Co層/Cu層、Ni層/Cu層/Sn層、Co層/Cu層/Sn層、Ni層/Cu層/Ag層和Co層/Cu層/Ag層電極中的任意一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的晶體硅太陽能電池的制作方法,其特征在于,還包括在電鍍之后,
對(duì)形成所述金屬電極層的所述晶體硅太陽電池片基底進(jìn)行退火處理,使所述金屬電極層與所述晶體硅太陽電池片基底形成歐姆接觸。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的晶體硅太陽能電池的制作方法,其特征在于,所述退火處理的溫度為200℃~900℃。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的晶體硅太陽能電池的制作方法,其特征在于,
所述退火處理包括前后兩次退火,后一次退火的退火溫度高于前一次退火的退火溫度。
11.一種晶體硅太陽能電池,其特征在于,所述晶體硅太陽能電池采用權(quán)利要求1-10任一項(xiàng)所述方法制備獲得。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





