[發明專利]濺射裝置有效
| 申請號: | 201910547442.0 | 申請日: | 2019-06-24 |
| 公開(公告)號: | CN110643956B | 公開(公告)日: | 2022-01-07 |
| 發明(設計)人: | 武井純一;曾根浩;鈴木直行;居本伸二 | 申請(專利權)人: | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳;劉芃茜 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 濺射 裝置 | ||
本發明提供一種能夠容易地改變開口部的形狀的技術。本發明的一個方式的濺射裝置包括:收納基片的處理容器;和縫隙板,其將上述處理容器內劃分為設置靶材的第一空間和設置上述基片的第二空間,上述縫隙板包括:內側部件,其具有在板厚方向將該縫隙板貫通的開口部;和設置在上述內側部件的周圍的外側部件,上述內側部件相對于上述外側部件是可拆裝的。
技術領域
本發明涉及一種濺射裝置。
背景技術
已知一歲使從靶材釋放出的粒子入射到基片來進行成膜的濺射裝置(例如參照專利文獻1)。另外,已知一種濺射裝置,其從相對于基片的表面傾斜地配置的靶材對基片放射濺射粒子,使濺射粒子通過設置于靶材與基片之間的縫隙板的開口部而在基片形成膜(例如參照專利文獻2)。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2008-201647號公報
專利文獻2:日本特開2015-67856號公報
發明內容
發明要解決的技術問題
本發明提供一種能夠容易地改變開口部的形狀的技術。
用于解決技術問題的技術方案
本發明的一個方式的濺射裝置,包括:收納基片的處理容器;和縫隙板,其將上述處理容器內劃分為設置靶材的第一空間和設置上述基片的第二空間,上述縫隙板包括:內側部件,其具有在板厚方向將該縫隙板貫通的開口部;和設置在上述內側部件的周圍的外側部件,上述內側部件相對于上述外側部件是可拆裝的。
發明效果
依照本發明,能夠容易地改變開口部的形狀。
附圖說明
圖1是表示第一實施方式的濺射裝置的結構例的截面圖(1)。
圖2是表示縫隙板的結構例的截面圖(1)。
圖3是表示縫隙板的結構例的截面圖(2)。
圖4是表示縫隙板的結構例的俯視圖。
圖5是表示第一實施方式的濺射裝置的結構例的截面圖(2)。
圖6是表示第一實施方式的濺射裝置的結構例的截面圖(3)。
圖7是用于說明第二實施方式的濺射裝置的圖。
圖8是表示圖7的濺射裝置的氣體供給部的一例的圖。
圖9是表示圖7的濺射裝置的氣體供給部的另一例的圖。
圖10是表示圖7的濺射裝置的氣體供給部的又一例的圖。
圖11是用于說明第三實施方式的濺射裝置的圖。
附圖標記說明
10濺射裝置
12處理容器
14縫隙板
14s開口部
141內側部件
141a錐形部
142外側部件
24靶材
28壁部件
210、220氣體供給部
211、221氣體排出孔
230、240氣體供給部
S1第一空間
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