[發明專利]光罩和顯示面板在審
| 申請號: | 201910542496.8 | 申請日: | 2019-06-21 |
| 公開(公告)號: | CN112114494A | 公開(公告)日: | 2020-12-22 |
| 發明(設計)人: | 王平;謝邦星;許建勇 | 申請(專利權)人: | 南昌歐菲觸控科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/76 | 分類號: | G03F1/76;G03F1/68;G03F7/20 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強 |
| 地址: | 330096 江西省南昌市南*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 面板 | ||
1.一種光罩,所述光罩用于圖案化涂布負性光阻劑的基板,其特征在于,所述光罩包括均由導電材料制備的圖案區和圍設于所述圖案區外圍的光潔區,所述圖案區靠近所述光潔區一側設有走線區,所述走線區內設多根并排的走線,所述走線區用于制備所述基板的綁定區,所述走線用于制備所述綁定區內的金屬線,每一根所述走線均包括靠近所述光潔區的第一端,所述第一端與所述光潔區之間間隙設置,每一個所述第一端與所述光潔區之間還連接有導通段,所述導通段用于平衡所述第一端與所述光潔區之間的電勢,所述導通段的寬度小于等于5μm,且大于等于1μm。
2.如權利要求1所述光罩,其特征在于,所述導通段至少包括一處彎折段。
3.如權利要求2所述光罩,其特征在于,所述彎折段的輪廓形狀為圓滑曲線,以避免所述導通段上出現應力集中點。
4.如權利要求3所述光罩,其特征在于,所述導通段包括第一彎折段和第二彎折段,所述第一彎折段與所述第二彎折段連接且彎折方向相反。
5.如權利要求1所述光罩,其特征在于,所述第一端與所述光潔區之間并排設置有多個所述導通段。
6.如權利要求1~5任一項所述光罩,其特征在于,所述導通段包括相對的第一導通端和第二導通端,所述第一導通端與所述光潔區連接并導通,所述第二導通端與所述第一端連接并導通,且所述第一導通端的寬度小于所述第二導通端的寬度。
7.如權利要求6所述光罩,其特征在于,在沿所述第一導通端至所述第二導通端的延伸路徑上,所述導通段的形狀為平滑曲線。
8.如權利要求6所述光罩,其特征在于,所述光罩在制備所述基板時,所述光罩與所述基板之間存在貼合間隙,所述導通段沿所述第一導通端至所述第二導通端的延伸路徑上任意橫截面處的寬度尺寸與所述貼合間隙的尺寸滿足1:4的比例關系。
9.如權利要求1所述光罩,其特征在于,所述導通段的材料與所述光罩的材料相同。
10.一種顯示面板,其特征在于,所述顯示面板包括基板,所述基板由權利要求1~9任一項所述光罩制備。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





