[發明專利]檢測基板上的缺陷的方法和用于檢測基板上的缺陷的設備

在審

• 申請號: 201910542195.5
• 申請日: 2019-06-21
• 公開（公告）號: CN110907471A
• 公開（公告）日: 2020-03-24
• 發明（設計）人: 鄭殷熹;亞歷山大·肖爾克夫;安東·梅德韋杰夫;馬克西姆·里亞巴克;裴祥佑;大久保彰律;李相珉;趙成根;朱愿暾
• 申請（專利權）人: 三星電子株式會社
• 主分類號: G01N21/956
• 分類號: G01N21/956
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 劉美華;劉燦強

1.一種檢測基板上缺陷的方法，所述方法包括：

將入射光束照射到基板的表面以形成反射光束；以及

檢測反射光束之中的二次諧波產生光束，

其中，二次諧波產生光束由基板上的缺陷產生。

2.根據權利要求1所述的方法，所述方法還包括：沿基本平行于基板的表面的方向產生光束，

其中，產生的光束導致入射光束。

3.根據權利要求2所述的方法，其中，產生的光束包括點光束或線光束。

4.根據權利要求2所述的方法，其中，產生的光束具有至少一個頻率。

5.根據權利要求2所述的方法，所述方法還包括：使產生的光束偏振以形成偏振光束。

6.根據權利要求5所述的方法，所述方法還包括：使偏振光束朝向基板的表面反射，以形成沿基本垂直于基板的表面的方向入射到基板的表面的入射光束。

7.根據權利要求1所述的方法，其中，檢測二次諧波產生光束的步驟包括：去除反射光束之中的具有與二次諧波產生光束的頻帶不同的頻帶的反射光束。

8.根據權利要求1所述的方法，其中，檢測二次諧波產生光束的步驟包括：去除反射光束之中的具有與二次諧波產生光束的偏振方向不同的偏振方向的反射光束。

9.根據權利要求1所述的方法，其中，檢測二次諧波產生光束的步驟包括：從二次諧波產生光束去除噪聲。

10.根據權利要求1所述的方法，其中，檢測二次諧波產生光束的步驟包括：從二次諧波產生光束去除由基板的表面產生的反射光束。

11.根據權利要求1所述的方法，所述方法還包括：通過使用反射光束將入射光束聚焦在基板的表面上。

12.根據權利要求1所述的方法，所述方法還包括：放大二次諧波產生光束的檢測信號。

13.根據權利要求1所述的方法，所述方法還包括：分析二次諧波產生光束以獲得包括缺陷的位置、尺寸和性質的信息。

14.一種用于檢測基板上的缺陷的設備，所述設備包括：

光源，被配置為產生光束，其中，所述光束導致入射光束入射到基板的表面以形成反射光束；

濾波器，被配置為允許二次諧波產生光束穿過濾波器，二次諧波產生光束由缺陷產生；以及

檢測器，被配置為在二次諧波產生光束穿過濾波器之后接收二次諧波產生光束。

15.根據權利要求14所述的設備，其中，光源被配置為沿基本平行于基板的表面的方向產生光束。

16.根據權利要求15所述的設備，其中，產生的光束包括點光束或線光束。

17.根據權利要求15所述的設備，其中，產生的光束具有至少一個頻率。

18.根據權利要求15所述的設備，所述設備還包括：偏振器，被配置為使產生的光束偏振以形成偏振光束。

19.根據權利要求18所述的設備，所述設備還包括：二向色鏡，被配置為使偏振光束朝向基板的表面反射，以形成沿基本垂直于基板的表面的方向入射到基板的表面的入射光束。

20.根據權利要求14所述的設備，其中，濾波器包括：二向色鏡，被配置為允許二次諧波產生光束穿過二向色鏡。