[發(fā)明專利]一種激光直寫成像設(shè)備內(nèi)層基板的對準(zhǔn)定位方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910534147.1
• 申請日: 2019-06-20
• 公開（公告）號: CN110308621B
• 公開（公告）日: 2021-09-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 董帥;王勇
• 申請（專利權(quán)）人: 合肥芯碁微電子裝備股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 合肥天明專利事務(wù)所(普通合伙) 34115
• 代理人: 奚華保

1.一種激光直寫成像設(shè)備內(nèi)層基板的對準(zhǔn)定位方法，其特征在于：該方法包括以下步驟：

（1）選取內(nèi)層基板：選取矩形板作為內(nèi)層基板，并在內(nèi)層基板上開設(shè)四個(gè)圓形通孔作為對位孔；

（2）測量對位孔的吸盤坐標(biāo)：測量出內(nèi)層基板上四個(gè)對位孔相對于內(nèi)層基板左下角的坐標(biāo)值（X₁，Y₁）、（X₂,Y₂）、（X₃,Y₃）和（X₄,Y₄)，作為對位孔的吸盤坐標(biāo)；

（3）建立對位孔的對位料號：建立內(nèi)層基板的正反（AB）面料號，上傳內(nèi)層基板的正反（AB）面曝光圖形文件，并將步驟（2）中測量的四個(gè)對位孔的吸盤坐標(biāo)作為該料號的對位孔信息，輸入到該料號的對位孔資料中；所述四個(gè)對位孔分別開設(shè)在內(nèi)層基板的四個(gè)端角上；圖形坐標(biāo)系是指圖形資料在畫圖形時(shí)所在的坐標(biāo)系；

（4）正面（A面）對準(zhǔn)曝光：在正面（A面）對準(zhǔn)時(shí)，激光直寫成像設(shè)備的機(jī)臺使用對準(zhǔn)相機(jī)根據(jù)正面（A面）的對位孔信息到內(nèi)層基板正面（A面）的相應(yīng)位置依次查找各個(gè)對位孔的中心點(diǎn)坐標(biāo)值（精確值），得到四個(gè)坐標(biāo)（X₁₁,Y₁₁）、（X₁₂,Y₁₂）、（X₁₃,Y₁₃）、（X₁₄,Y₁₄），同時(shí)將正面（A面）圖形曝光到內(nèi)層基板上，保證圖形中心與四個(gè)對位孔組成的外接矩形中心重合，得到曝光在基板上的圖形在以內(nèi)層基板左下角為(0，0)點(diǎn)的正交坐標(biāo)系下的吸盤坐標(biāo)位置，此時(shí)可以得到料號里曝光圖形的所在的圖形坐標(biāo)系與以內(nèi)層基板左下角為(0，0)點(diǎn)的正交坐標(biāo)系之間的轉(zhuǎn)換關(guān)系，根據(jù)該轉(zhuǎn)換關(guān)系，反推出四個(gè)對位孔在正面（A面）圖形坐標(biāo)系中的坐標(biāo)值（X_A1,Y_A1）、（X_A2,Y_A2）、（X_A3,Y_A3）、（X_A4,Y_A4），將這四個(gè)坐標(biāo)值暫存到設(shè)備內(nèi)存或數(shù)據(jù)庫中，供反面（B面）對準(zhǔn)時(shí)使用；

（5）反面（B面）對準(zhǔn)曝光：在進(jìn)行反面（B面）對準(zhǔn)前，從暫存區(qū)取出當(dāng)前內(nèi)層基板正面（A面）的四個(gè)對位孔圖形坐標(biāo)（X_A1,Y_A1）、（X_A2,Y_A2）、（X_A3,Y_A3）、（X_A4,Y_A4），根據(jù)該圖形坐標(biāo)和內(nèi)層基板尺寸，估算四個(gè)對位孔在反面（B面）的位置，然后使用對準(zhǔn)相機(jī)到內(nèi)層基板反面（B面）的相應(yīng)位置依次查找各個(gè)對位孔的中心點(diǎn)坐標(biāo)值，得到四個(gè)坐標(biāo)（X_B1,Y_B1）、（X_B2,Y_B2）、（X_B3,Y_B3）、（X_B4,Y_B4），根據(jù)這四個(gè)對位孔的反面（B面）實(shí)測坐標(biāo)和在原圖中的圖形坐標(biāo)，使用相似變換公式和最小二乘法計(jì)算出反面（B面）圖形的變形參數(shù)，將該變形參數(shù)應(yīng)用到反面（B面）圖形中后，即可進(jìn)行后續(xù)的曝光流程。