[發明專利]陣列基板及其制作方法、顯示面板和指紋識別顯示裝置在審
| 申請號: | 201910530136.6 | 申請日: | 2019-06-19 |
| 公開(公告)號: | CN110197834A | 公開(公告)日: | 2019-09-03 |
| 發明(設計)人: | 史曉琪;劉博智;陳國照 | 申請(專利權)人: | 廈門天馬微電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/146 | 分類號: | H01L27/146;G06K9/00 |
| 代理公司: | 北京匯思誠業知識產權代理有限公司 11444 | 代理人: | 王剛;龔敏 |
| 地址: | 361101 福建*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體層 襯底基板 光電二極管 陣列基板 指紋識別單元 第二電極 第一電極 顯示面板 顯示裝置 指紋識別 制作 半導體層電 實際可用性 多晶硅 非晶硅 制程 | ||
本發明提供一種陣列基板及其制作方法、顯示面板和指紋識別顯示裝置,陣列基板包括襯底基板和多個指紋識別單元,指紋識別單元包括位于襯底基板一側的至少一個光電二極管,光電二極管包括第一電極、第一半導體層、第二半導體層和第二電極;第一半導體層為多晶硅,第二半導體層為非晶硅;第一電極與第一半導體層電連接;第二半導體層位于第一半導體層遠離襯底基板的一側并與第一半導體層直接接觸,且兩者直接接觸的接觸面積為第一接觸面積;第二電極位于第二半導體層遠離襯底基板的一側并與第二半導體層直接接觸,且兩者直接接觸的接觸面積為第二接觸面積;第二接觸面積大于等于第一接觸面積。本發明能提升基于LTPS制程制作的光電二極管的實際可用性。
【技術領域】
本發明涉及顯示技術領域,尤其涉及一種陣列基板及其制作方法、包括該陣列基板的顯示面板和包括該顯示面板的指紋識別顯示裝置。
【背景技術】
隨著移動顯示產品的普及,信息安全備受人們的關注。指紋是人體與生俱來獨一無二并可與他人相區別的不變特征,它由指端皮膚表面上的一系列脊和谷組成,這些脊和谷的組成細節通常包括脊的分叉、脊的末端、拱形、帳篷式的拱形、左旋、右旋、螺旋或雙旋等細節,這些細節決定了指紋圖案的唯一性。由于指紋具有唯一性、難以復制性、安全性等優點,近年來指紋識別技術被廣泛應用于移動顯示產品中,作為一種身份認證和訪問控制的方式,使得移動顯示產品的安全性和易操作性得到極大的提高。
光學指紋識別是利用光的折射和反射原理,將手指放在光線鏡片上,通過光線正在手指表面紋谷和紋脊的反射差異,實現光感器件接收不同指紋信息差異化,形成指紋圖像,工作原理比較簡單,適合移動顯示產品的全面屏化設計。
現有的光學指紋識別技術一般是采用光電二極管作為感光器件。現有技術中,基于LTPS(Low Temperature Poly-silicon,低溫多晶硅)制程制作的光電二極管,直接利用LTPS制程制作的光電二極管的漏流對光的敏感性實現的感光器件中,其光敏特性直接決定于基于LTPS制程制作的光電二極管的設計。而由于基于LTPS制程制作的光電二極管中的多晶硅集成在LTPS制程中會由于其他制程而導致性能異常,從而限制其實際可用性。
【發明內容】
為了解決上述技術問題,本發明提供一種陣列基板及其制作方法、包括該陣列基板的顯示面板和包括該顯示面板的指紋識別顯示裝置。
第一方面,本發明實施例提供一種陣列基板,包括襯底基板和多個指紋識別單元,所述指紋識別單元包括位于所述襯底基板一側的至少一個光電二極管,所述光電二極管包括第一電極、第一半導體層、第二半導體層和第二電極;所述第一半導體層為多晶硅,所述第二半導體層為非晶硅;所述第一電極與所述第一半導體層電連接;所述第二半導體層位于所述第一半導體層遠離所述襯底基板的一側并與所述第一半導體層直接接觸,且所述第二半導體層與所述第一半導體層直接接觸的接觸面積為第一接觸面積;所述第二電極位于所述第二半導體層遠離所述襯底基板的一側并與所述第二半導體層直接接觸,且所述第二電極與所述第二半導體層直接接觸的接觸面積為第二接觸面積;所述第二接觸面積大于等于所述第一接觸面積。
第二方面,本發明實施例提供一種陣列基板的制作方法,包括:在襯底基板一側形成第一半導體層;在所述第一半導體層遠離所述襯底基板的一側沉積第一絕緣層,圖案化所述第一絕緣層形成第一通孔和第三通孔;在所述第一絕緣層遠離所述襯底基板的一側形成第二半導體層和第一電極,其中,所述第二半導體層通過所述第一通孔和所述第一半導體層直接接觸,所述第二半導體層與所述第一半導體層直接接觸的接觸面積為第一接觸面積,所述第一電極通過所述第三通孔和所述第一半導體層電連接;在所述第二半導體層遠離所述襯底基板的一側沉積第一緩沖層,圖案化所述第一緩沖層形成第二通孔;在所述第一緩沖層遠離所述襯底基板的一側形成第二電極,其中,所述第二電極通過所述第二通孔和所述第二半導體層直接接觸,所述第二電極與所述第二半導體層直接接觸的接觸面積為第二接觸面積,所述第二接觸面積大于等于所述第一接觸面積。
第三方面,本發明實施例提供一種顯示面板,包括上述第一方面所提供的陣列基板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





