[發明專利]一種以白磷為原料制備二維黑磷晶體的方法有效
| 申請號: | 201910518820.2 | 申請日: | 2019-06-16 |
| 公開(公告)號: | CN110205674B | 公開(公告)日: | 2023-04-28 |
| 發明(設計)人: | 喻學鋒;汪建南;王佳宏 | 申請(專利權)人: | 深圳市中科墨磷科技有限公司 |
| 主分類號: | C30B29/02 | 分類號: | C30B29/02;C30B23/00 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 白磷 原料 制備 二維 黑磷 晶體 方法 | ||
本發明公開了一種以白磷為原料制備二維黑磷晶體的方法。首先,在惰性氣氛下,稱取白磷、金屬單質錫和礦化劑四碘化錫于單頭封口石英管底部,并利用真空封管系統將反應原料密封于真空石英管內部。最后通過優化的程序升溫和降溫對石英管進行加熱處理,待反應結束后,最終制得大體積、高純度的高質量二維黑磷晶體。本發明以白磷為原料,外加金屬單質錫和礦化劑四碘化錫,在真空條件下加熱制備二維黑磷晶體。相較于以紅磷作為反應原料的傳統制備方法,該方法不僅可以顯著降低合成過程中的反應溫度和反應時間,減少能耗。而且對于合成高品質黑磷晶體而言,白磷原料相較于高純紅磷原料成本更低,合成出的黑磷晶體體積更大、純度更高,更有利于實現黑磷晶體的工業化規模制備。
技術領域
本發明屬于二維材料技術領域,具體涉及一種以白磷為原料制備二維黑磷晶體的方法。
背景技術
作為二維材料家族中一名新成員,黑磷,是磷最穩定的一種同素異形體。它有著類似但不同于石墨烯片層狀結構的天然褶皺結構,這種獨特的褶皺結構賦予了黑磷許多獨特的物化性質。如黑磷具備石墨烯所沒有的半導體間隙且是直接帶隙,即電子導電能帶(導帶)底部和非導電能帶(價帶)頂部在同一位置,實現從非導電到導電,電子只需要吸收能量,無需改變動量。這意味著黑磷可用作可調半導體,與光可以直接耦合,光譜包括了整個可見光到近紅外區域。在電子器件領域,它又具有石墨烯和過渡金屬硫化物(TMDs)所不具備的特性,如:可協調的帶隙(0.3~2.0?eV)、高的載流子遷移率(1000?cm2V-1s-1)以及可觀的開關比(105)?;谶@些特性,利用黑磷制備的場效應晶體管器件具有優越的電學性能。此外,磷作為人體內不可或缺的元素,也使得黑磷具備良好的生物相容性。因此,黑磷在光電器件、光電催化、化學和生物傳感、太陽能電池、超級電容器以及生物醫學等諸多領域具有廣闊的應用前景。
黑磷晶體的制備也經歷了一個漫長的研究過程。1914年,Bridgman等人在1.2GPa、200?oC的高溫高壓條件下首次將白磷轉化為黑磷(Journal?of?the?AmericanChemical?Society,?1914,?36(7):?1344-1363)。但該方法的合成條件過于嚴苛,僅限于實驗室條件下的科學研究。1981年,Maruyama等人利用反應釜將白磷溶解在鉍溶液中,在400oC條件下保溫20?h,然后緩慢冷卻,得到了棒狀的黑磷(Physica?B+?C,?1981,?105(1):99-102)。然而該方法產率較低并且毒性較大,因此難以進行工業上的大規模生產。為了能簡單、高效、無毒并大規模生產黑磷,2007年Park等采用高能機械球磨法合成黑磷,但合成的純相黑磷結晶度較低,且無法精確控制反應器內部的壓力與溫度,過程可控性較差(Advanced?Materials,?2007,?19(18):?2465-2468.)。
近幾年的報道,提出了黑磷可以在更低壓強下被合成,主要是在氣相生長過程中添加礦化劑從而促進黑磷生成。Lange團隊以紅磷、Au、Sn和Snl4為原料進行反應,加熱到600?oC后逐漸冷卻至室溫。該方法可在無毒、低壓條件下制備出黑磷,在十天內可以生長出直徑1~2?mm的黑磷晶體,純度可達99.999?at%(Advanced?Materials,?2007,?19(18):2465-2468;Inorganic?chemistry,?2007,?46(10):?4028-4035)。后來,K?pf進行了簡化,在沒有貴金屬Au的參與下僅以Sn、礦化劑Snl4同樣能合成出高質量的黑磷(Journal?ofCrystal?Growth,?2014,405(11):6-10)。專利CN105133009A、CN105603517A和CN106087050A也公布了對該方法的改進,但是它們仍然存在反應裝置要求高(前兩者要求雙溫區控溫)及反應溫度高(最低溫度均在500?℃以上)等問題。
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