[發明專利]陣列基板、陣列基板的制作方法和顯示面板

有效

• 申請號: 201910508314.5
• 申請日: 2019-06-12
• 公開（公告）號: CN110308598B
• 公開（公告）日: 2022-01-07
• 發明（設計）人: 楊春輝
• 申請（專利權）人: 惠科股份有限公司;滁州惠科光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362
• 代理公司: 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287
• 代理人: 胡海國

1.一種陣列基板，包括柵極金屬層和設于所述柵極金屬層上方的源漏極金屬層，所述柵極金屬層包括并列設置的多條掃描線，所述源漏極金屬層包括并列設置的多條數據線，每一所述掃描線與每一所述數據線交錯設置，其特征在于，所述陣列基板還包括色阻層，所述色阻層包括多個色阻，每一所述色阻位于相鄰兩所述掃描線和相鄰兩所述數據線所限定的區域內，并延伸至覆蓋相鄰的部分所述掃描線；

多個所述色阻的同一側凸出設置的隔墊塊，所述隔墊塊位于鄰接該色阻的一所述數據線和一所述掃描線的交錯區域，多個所述色阻的另一側凹陷設置避讓位，所述避讓位對相鄰色阻的所述隔墊塊進行避讓；

所述色阻包括濾光部和連接所述濾光部的隔墊部，所述濾光部和所述隔墊部沿所述數據線的延伸方向排布，所述隔墊部覆蓋相鄰的部分所述掃描線，所述隔墊塊由所述隔墊部沿所述掃描線的延伸方向延伸設置，所述避讓位由所述隔墊部沿所述掃描線的延伸方向凹陷設置。

2.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還包括柵極絕緣層，所述柵極絕緣層設于所述柵極金屬層和所述色阻層之間；

或，所述柵極絕緣層設于所述色阻層和所述源漏極金屬層之間。

3.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還包括有源層，當所述色阻位于所述有源層上方時，所述色阻開設有讓位口，所述有源層由所述讓位口顯露，以使所述源漏極金屬層通過所述讓位口與所述有源層接觸。

4.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還包括黑色矩陣層，所述黑色矩陣層設于所述柵極金屬層與所述源漏極金屬層之間，所述黑色矩陣層部分位于所述掃描線與所述數據線的交錯區域內。

5.如權利要求4所述的陣列基板，其特征在于，所述黑色矩陣層設于所述色阻層的上方，所述陣列基板還包括柵極絕緣層，所述柵極絕緣層設于所述柵極金屬層和所述色阻層之間；

或，所述柵極絕緣層設于所述色阻層和所述黑色矩陣層之間；

或，所述柵極絕緣層設于所述黑色矩陣層和所述源漏極金屬層之間。

6.如權利要求4所述的陣列基板，其特征在于，所述色阻層設于所述黑色矩陣層的上方，所述陣列基板還包括柵極絕緣層，所述柵極絕緣層設于所述柵極金屬層和所述黑色矩陣層之間；

或，所述柵極絕緣層設于所述黑色矩陣層和所述色阻層之間；

或，所述柵極絕緣層設于所述色阻層和所述源漏極金屬層之間。

7.如權利要求4所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還包括有源層，所述有源層位于所述柵極金屬層和所述源漏極金屬層之間，當所述黑色矩陣層位于所述陣列基板的有源層上方時，所述黑色矩陣層開設有避讓口，所述有源層由所述避讓口顯露，以使所述源漏極金屬層通過所述避讓口與所述有源層接觸。

8.如權利要求1至7中任意一項所述的陣列基板，其特征在于，多個所述色阻為多個第一色阻、多個第二色阻以及多個第三色阻，一所述第一色阻、一所述第二色阻和一所述第三色阻依次排列組成一色彩單元，多個所述色彩單元沿所述掃描線的延伸方向依次排列；

或，多個所述色阻分為多個第一色阻、多個第二色阻、多個第三色阻以及多個第四色阻，一所述第一色阻、一所述第二色阻、一所述第三色阻和一所述第四色阻依次排列組成一色彩單元，多個所述色彩單元沿所述掃描線的延伸方向依次排列。