[發明專利]一種基于平面樣品轉截面樣品的特定微小區域標定方法

在審

• 申請號: 201910505783.1
• 申請日: 2019-06-12
• 公開（公告）號: CN112083022A
• 公開（公告）日: 2020-12-15
• 發明（設計）人: 蔡齊航;謝亞珍;郭語柔
• 申請（專利權）人: 蘇試宜特（上海）檢測技術有限公司
• 主分類號: G01N23/2202
• 分類號: G01N23/2202;G01N23/2005;G01N1/28
• 代理公司: 上海唯源專利代理有限公司 31229
• 代理人: 曾耀先

1.一種基于平面樣品轉截面樣品的特定微小區域標定方法，其特征在于，包括步驟：

將平面樣品放入透射電子顯微鏡中觀察，并記錄所述平面樣品上的特定微小區域的位置信息；

將所述平面樣品放入雙束聚焦離子束的掃描式電子顯微鏡中，根據記錄的所述位置信息對所述平面樣品進行金屬線性沉積，于所述平面樣品上形成線性路徑；

將帶有所述線性路徑的所述平面樣品放入所述透射電子顯微鏡中，觀察所述線性路徑是否落入所述特定微小區域內：

若是，則將落入所述特定微小區域的所述線性路徑作為將所述平面樣品轉截面樣品時的執行位置；

若不是，則再次對所述平面樣品進行所述金屬線性沉積，直至有所述線性路徑落入所述特定微小區域內為止。

2.如權利要求1所述的基于平面樣品轉截面樣品的特定微小區域標定方法，其特征在于，在記錄所述特定微小區域的位置信息時，一并記錄尺寸信息，并且在進行所述金屬線性沉積時，于所述平面樣品上形成兩條以上間隔排列的所述線性路徑，同時控制相鄰所述線性路徑之間的距離不大于所述特定微小區域的尺寸。

3.如權利要求2所述的基于平面樣品轉截面樣品的特定微小區域標定方法，其特征在于，當所述平面樣品上包括至少兩個所述特定微小區域時，所述尺寸信息為面積最小的所述特定微小區域的尺寸信息，在進行所述金屬線性沉積時，于所述平面樣品的整個平面上形成一定數量的所述線性路徑，同時控制相鄰所述線性路徑之間的距離不大于面積最小的所述特定微小區域的尺寸。

4.如權利要求1～3任一項所述的基于平面樣品轉截面樣品的特定微小區域標定方法，其特征在于，還包括步驟：在確定所述執行位置后制作截面樣品，在進行所述截面樣品的制作時，于所述執行位置處沿平行于所述線性路徑的方向對所述平面樣品進行切割，以得到所述截面樣品。

5.如權利要求1～3任一項所述的基于平面樣品轉截面樣品的特定微小區域標定方法，其特征在于，所述線性路徑的數量范圍為2～100條。

6.如權利要求2或3所述的基于平面樣品轉截面樣品的特定微小區域標定方法，其特征在于，當有若干條所述線性路徑落入所述特定微小區域內時，記錄相對距離最遠的兩條線性路徑的位置，然后于所述兩條線性路徑之間的任意位置作為所述執行位置。